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2. 发明专利

TW201504771A 干涉儀、微影設備、和製造物品的方法审中-公开
简体标题：干涉仪、微影设备、和制造物品的方法
公开(公告)号：TW201504771A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103122848
申请日：2014-07-02
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：山口渉 , YAMAGUCHI, WATARU , 松本隆宏 , MATSUMOTO, TAKAHIRO , 稲秀樹 , INA, HIDEKI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7034 , G01B9/0209 , G01B11/0675 , G03F7/7085 , G03F9/7049
摘要：一干涉儀包含：光學系統，被建構來藉由分開來自光源之光、及組合參考光與測量光來產生干涉光；偵測器，被建構來偵測藉由該光學系統所產生的干涉光；及光學構件，被建構來在該偵測器偵測來自該光源的光之前，對來自該光源的光給與空間同調性。該光學構件在第二方向中給與比於第一方向中較高的空間同調性，該第二方向用作入射在該光學構件上之光的光束之截面與一平面之相交的線之方向，該平面包含來自該光源而在被該光學系統所分開之前的光、該參考光、該測量光、及該干涉光之光學路徑，且該第一方向垂直於該平面。
简体摘要：一干涉仪包含：光学系统，被建构来借由分开来自光源之光、及组合参考光与测量光来产生干涉光；侦测器，被建构来侦测借由该光学系统所产生的干涉光；及光学构件，被建构来在该侦测器侦测来自该光源的光之前，对来自该光源的光给与空间同调性。该光学构件在第二方向中给与比于第一方向中较高的空间同调性，该第二方向用作入射在该光学构件上之光的光束之截面与一平面之相交的线之方向，该平面包含来自该光源而在被该光学系统所分开之前的光、该参考光、该测量光、及该干涉光之光学路径，且该第一方向垂直于该平面。

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