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1. 发明专利

TW201835619A 光學膜及其製造方法审中-公开
简体标题：光学膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201835619A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107105003
申请日：2018-02-12
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西辰昌 , KASAI, TATSUAKI , 幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/02 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題係提供一種對可見光全域及視認之全部的方位在三維方向控制光折射率之新穎的光學膜及其製造方法。該課題之解決手段係關於一種具有第一相位差層及第二相位差層且滿足下述式(1)及(2)的關係之光學膜。 0.4≦Nz(450)≦0.6 (1) 0.4≦Nz(550)≦0.6 (2)[式中，Nz(450)係表示光學膜對波長λ=450nm的光線之Nz係數，Nz(550)係表示光學膜對波長λ=550nm的光線之Nz係數]。
简体摘要：本发明之课题系提供一种对可见光全域及视认之全部的方位在三维方向控制光折射率之新颖的光学膜及其制造方法。该课题之解决手段系关于一种具有第一相位差层及第二相位差层且满足下述式(1)及(2)的关系之光学膜。 0.4≦Nz(450)≦0.6 (1) 0.4≦Nz(550)≦0.6 (2)[式中，Nz(450)系表示光学膜对波长λ=450nm的光线之Nz系数，Nz(550)系表示光学膜对波长λ=550nm的光线之Nz系数]。

2. 发明专利

TW201832918A 複合偏光板及液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：复合偏光板及液晶显示设备
公开(公告)号：TW201832918A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107100905
申请日：2018-01-10
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI , 太田陽介 , OTA, YOSUKE
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題在於提供一種偏光性能經提升之複合偏光板。本發明之解決手段為一種複合偏光板，其係具有吸收型偏光膜與使吸收型偏光膜配向之配向膜與反射型偏光板，反射型偏光板的反射軸與吸收型偏光膜的吸收軸所形成之角度為8°以下。此外，為一種輥狀複合偏光板，其係反射型偏光板的反射軸相對於輥運送方向為面內方向90°±8°，吸收型偏光膜的吸收軸相對於輥運送方向為面內方向90°±8°，且反射型偏光板的反射軸與吸收型偏光膜的吸收軸所形成之角度為8°以下。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种偏光性能经提升之复合偏光板。本发明之解决手段为一种复合偏光板，其系具有吸收型偏光膜与使吸收型偏光膜配向之配向膜与反射型偏光板，反射型偏光板的反射轴与吸收型偏光膜的吸收轴所形成之角度为8°以下。此外，为一种辊状复合偏光板，其系反射型偏光板的反射轴相对于辊运送方向为面内方向90°±8°，吸收型偏光膜的吸收轴相对于辊运送方向为面内方向90°±8°，且反射型偏光板的反射轴与吸收型偏光膜的吸收轴所形成之角度为8°以下。

3. 发明专利

TW201710476A 組成物及顯示裝置审中-公开
简体标题：组成物及显示设备
公开(公告)号：TW201710476A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105123204
申请日：2016-07-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西辰昌 , KASAI, TATSUAKI , 幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI
IPC分类号： C09K19/38 , C08F2/50 , C09K19/02 , G02B1/04 , G02B5/30 , H01L51/52 , G06F3/041
CPC分类号： C09K19/3838 , C09K19/34 , C09K2019/0433 , C09K2019/0448 , G02B5/3016 , G02B5/305 , G02B5/3083 , G06F3/041 , H01L51/5284
摘要：本發明係提供一種可形成轉印時的轉印缺陷少的光學異向層之組成物、及具備由該組成物所形成的光學異向層的顯示裝置等，該組成物係包含1種以上的聚合性液晶化合物及1種以上的光聚合起始劑，光聚合起始劑具有極大吸收波長λ(A)及極大吸收波長λ(B)，至少1種的聚合性液晶化合物的極大吸收波長為λmax(LC)時，滿足20nm
简体摘要：本发明系提供一种可形成转印时的转印缺陷少的光学异向层之组成物、及具备由该组成物所形成的光学异向层的显示设备等，该组成物系包含1种以上的聚合性液晶化合物及1种以上的光聚合起始剂，光聚合起始剂具有极大吸收波长λ(A)及极大吸收波长λ(B)，至少1种的聚合性液晶化合物的极大吸收波长为λmax(LC)时，满足20nm<λ(B)-λmax(LC)或20nm<λmax(LC)-λ(A)。

4. 发明专利

TWI482697B 偏光薄膜之製造方法及偏光板之製造方法有权
简体标题：偏光薄膜之制造方法及偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI482697B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW097110788
申请日：2008-03-26
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：林成年 , HAYASHI, NARUTOSHI , 武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 難波明生 , NAMBA, AKIO , 幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI
IPC分类号： B29C55/06 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00

5. 发明专利

TW201510586A 光學薄膜审中-公开
简体标题：光学薄膜
公开(公告)号：TW201510586A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103126904
申请日：2014-08-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI , 横田明 , YOKOTA, AKIRA , 小林忠弘 , KOBAYASHI, TADAHIRO , 佐瀨光敬 , SASE, MITSUTAKA , 小松慶史 , KOMATSU, YOSHIFUMI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363
CPC分类号： G02B5/3083 , G02B5/3016 , G02B5/305 , G02F2001/133541
摘要：本發明之課題在於提供一種在抑制顯示黑時之漏光上優異的光學薄膜。該解決手段為提供一種光學薄膜，其係具有至少2個相位差層之光學薄膜，且具有式(30)及(31)所表示之光學特性。 -2.0≦a*≦0.5 (30) -0.5≦b*≦5.0 (31)(式中，a*及b*表示L*a*b*表色系統中之色座標。)
简体摘要：本发明之课题在于提供一种在抑制显示黑时之漏光上优异的光学薄膜。该解决手段为提供一种光学薄膜，其系具有至少2个相位差层之光学薄膜，且具有式(30)及(31)所表示之光学特性。 -2.0≦a*≦0.5 (30) -0.5≦b*≦5.0 (31)(式中，a*及b*表示L*a*b*表色系统中之色座标。)

6. 发明专利

TW201921000A 可撓性顯示器用附光學補償功能之相位差板审中-公开
简体标题：可挠性显示器用附光学补偿功能之相位差板
公开(公告)号：TW201921000A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107128613
申请日：2018-08-16
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西辰昌 , KASAI, TATSUAKI , 幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , G09F9/30 , H01L27/32
摘要：本發明提供一種可撓式用之附光學補償功能之相位差板的製造方法，係即便將該可撓式附光學補償功能之相位差板彎折亦不產生皺摺或裂縫等瑕疵，在摺疊時亦不會在著色的狀態下反射外部光。本發明之製造方法係經由塗佈、乾燥、定向處理步驟形成水平定向膜之後，經由塗佈、乾燥、紫外線照射步驟形成水平定向液晶硬化膜，進一步經由塗佈、乾燥步驟形成垂直定向膜，再經由塗佈、乾燥、紫外線照射步驟形成垂直定向液晶硬化膜，而依序形成水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜之方法，藉此製造可撓性顯示器用附光學補償功能之相位差板。
简体摘要：本发明提供一种可挠式用之附光学补偿功能之相位差板的制造方法，系即便将该可挠式附光学补偿功能之相位差板弯折亦不产生皱折或裂缝等瑕疵，在折叠时亦不会在着色的状态下反射外部光。本发明之制造方法系经由涂布、干燥、定向处理步骤形成水平定向膜之后，经由涂布、干燥、紫外线照射步骤形成水平定向液晶硬化膜，进一步经由涂布、干燥步骤形成垂直定向膜，再经由涂布、干燥、紫外线照射步骤形成垂直定向液晶硬化膜，而依序形成水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜之方法，借此制造可挠性显示器用附光学补偿功能之相位差板。

7. 发明专利

TWI650243B 光學薄膜有权
简体标题：光学薄膜
公开(公告)号：TWI650243B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103126903
申请日：2014-08-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI , 横田明 , YOKOTA, AKIRA , 小林忠弘 , KOBAYASHI, TADAHIRO , 佐瀨光敬 , SASE, MITSUTAKA , 小松慶史 , KOMATSU, YOSHIFUMI
IPC分类号： B32B7/02 , G02B5/30 , G02F1/13363

8. 发明专利

TWI485065B 偏光板及其製造方法有权
简体标题：偏光板及其制造方法
公开(公告)号：TWI485065B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW096109762
申请日：2007-03-21
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI , 武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 林成年 , HAYASHI, NARUTOSHI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B7/12 , G02B5/30

9. 发明专利

TWI463196B 偏光薄膜，偏光板及此等之製造方法有权
简体标题：偏光薄膜，偏光板及此等之制造方法
公开(公告)号：TWI463196B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW097133755
申请日：2008-09-03
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：林成年 , HAYASHI, NARUTOSHI , 武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI , 難波明生 , NAMBA, AKIO
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , B29C35/02 , B29C55/04 , B29D11/00 , B29K29/00 , B29L11/00

10. 发明专利

TWI461756B 偏光板及附黏著劑之偏光板的製造方法有权
简体标题：偏光板及附黏着剂之偏光板的制造方法
公开(公告)号：TWI461756B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW096112517
申请日：2007-04-10
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：幡中伸行 , HATANAKA, NOBUYUKI , 武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 林成年 , HAYASHI, NARUTOSHI
IPC分类号： G02B5/30

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