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1. 发明专利

TW201733696A 清潔基底之方法與裝置审中-公开
简体标题：清洁基底之方法与设备
公开(公告)号：TW201733696A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106109065
申请日：2017-03-20
申请人：休斯微科光罩儀器股份有限公司 , SUSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO.KG
发明人：戴茲伍威 , DIETZE, UWE , 徐志偉 , HSU, JYH-WEI , 薩瑪約亞馬丁 , SAMAYOA, MARTIN , 辛區雪珍 , SINGH, SHERJANG , 申德赫伊西 , SHENDE, HRISHI , 韓振興 , HAN, ZHENXING
IPC分类号： B08B3/12 , B08B5/02 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02041 , B05B1/26 , B05B17/063 , B05B17/0669 , B08B3/024 , B08B3/08 , B08B3/12 , B08B2203/0288 , G03F1/82 , H01L21/67051
摘要：本發明揭露一種用於清潔基底的方法與裝置。在方法中，提供與待清潔基底的曝露表面相對的至少一個噴嘴配置，噴嘴配置包括至少兩個單獨噴嘴，單獨噴嘴各自具有音波換能器，音波換能器被配置成將音波能引入至朝向待清潔基底表面流動通過各別噴嘴的液體介質中，使得朝向基底表面引導所述音波能，其中音波換能器具有不同共振頻率，共振頻率屬於至少其各別一階諧波及二階諧波皆不同的類型。藉由使液體介質流動通過噴嘴配置的至少兩個單獨噴嘴而將液體介質施加至基底的表面區域，每一噴嘴產生介質液流，其中噴嘴是相對於基底表面而配置及定位，使得至少兩個單獨噴嘴的介質液流在到達基底表面之前彼此至少部分地相交，且經由各別換能器將音波能引入至流動通過各別噴嘴的液體中，使得在基底表面上方發生由各別換能器提供的頻率的干擾。裝置具有：收容器，用於收容待清潔基底，使得待清潔基底表面曝露；及上述類型的噴嘴配置；液體介質源，其被組態成同時將液體供應至噴嘴配置的單獨噴嘴，其中噴嘴被配置成使得離開各別噴嘴的介質液流可在到達基底表面之前至少部分地相交；控制器，用於控制各別音波換能器的操作，使得同時將音波能引入至流動通過各別噴嘴的液體介質中；以及定位設備，用於使噴嘴配置相對於收容器上的基底而定位，使得流動通過且離開各別噴嘴的各別介質液流將在到達基底之前至少部分地相交，且用於在噴嘴配置與收容器上的基底之間引起相對移動以使噴嘴配置遍及基底表面進行掃描。
简体摘要：本发明揭露一种用于清洁基底的方法与设备。在方法中，提供与待清洁基底的曝露表面相对的至少一个喷嘴配置，喷嘴配置包括至少两个单独喷嘴，单独喷嘴各自具有音波换能器，音波换能器被配置成将音波能引入至朝向待清洁基底表面流动通过各别喷嘴的液体介质中，使得朝向基底表面引导所述音波能，其中音波换能器具有不同共振频率，共振频率属于至少其各别一阶谐波及二阶谐波皆不同的类型。借由使液体介质流动通过喷嘴配置的至少两个单独喷嘴而将液体介质施加至基底的表面区域，每一喷嘴产生介质液流，其中喷嘴是相对于基底表面而配置及定位，使得至少两个单独喷嘴的介质液流在到达基底表面之前彼此至少部分地相交，且经由各别换能器将音波能引入至流动通过各别喷嘴的液体中，使得在基底表面上方发生由各别换能器提供的频率的干扰。设备具有：收容器，用于收容待清洁基底，使得待清洁基底表面曝露；及上述类型的喷嘴配置；液体介质源，其被组态成同时将液体供应至喷嘴配置的单独喷嘴，其中喷嘴被配置成使得离开各别喷嘴的介质液流可在到达基底表面之前至少部分地相交；控制器，用于控制各别音波换能器的操作，使得同时将音波能引入至流动通过各别喷嘴的液体介质中；以及定位设备，用于使喷嘴配置相对于收容器上的基底而定位，使得流动通过且离开各别喷嘴的各别介质液流将在到达基底之前至少部分地相交，且用于在喷嘴配置与收容器上的基底之间引起相对移动以使喷嘴配置遍及基底表面进行扫描。

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