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1. 发明专利

TW201143904A 靜電噴霧系統 ELECTROSTATIC SPRAY SYSTEM 审中-公开
简体标题：静电喷雾系统 ELECTROSTATIC SPRAY SYSTEM
公开(公告)号：TW201143904A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：TW100101251
申请日：2011-01-13
申请人：伊利諾工具工程公司
发明人：賽茲大衛M , 哈希爾許沃特丹尼爾J , 喜多茲羅爵T , 波茲詹姆士P , 布蘭特潔西卡羅絲
IPC分类号： B05B
CPC分类号： B65D83/202 , B05B5/043 , B05B5/0531 , B05B5/1691 , B65D83/384
摘要：本發明係關於一種系統，其在一些實施例中包括一噴霧裝置，該噴霧裝置包括具有經設置以承接獨立噴霧罐之一容器的一機架。該噴霧裝置進一步包括經設置以接觸該獨立噴霧罐之一第一導電元件，及在該第一導電元件與一接地之間延伸之一第一電導體，以使得當該獨立噴霧罐與該第一導電元件接觸時，該獨立噴霧罐之一第一電位大體上等於該接地之一第二電位。該噴霧裝置亦包括與該獨立噴霧罐之一噴霧嘴相鄰安置之一電暈充電電極。該電暈充電電極經設置以朝向該獨立噴霧罐噴射一離子流，以使得來自該噴霧嘴之一流體噴霧通過該離子流而被靜電充電。
简体摘要：本发明系关于一种系统，其在一些实施例中包括一喷雾设备，该喷雾设备包括具有经设置以承接独立喷雾罐之一容器的一机架。该喷雾设备进一步包括经设置以接触该独立喷雾罐之一第一导电组件，及在该第一导电组件与一接地之间延伸之一第一电导体，以使得当该独立喷雾罐与该第一导电组件接触时，该独立喷雾罐之一第一电位大体上等于该接地之一第二电位。该喷雾设备亦包括与该独立喷雾罐之一喷雾嘴相邻安置之一电晕充电电极。该电晕充电电极经设置以朝向该独立喷雾罐喷射一离子流，以使得来自该喷雾嘴之一流体喷雾通过该离子流而被静电充电。

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