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    • 2. 发明专利
    • 污染防止劑組成物 ANTI-SOILING AGENT COMPOSITION
    • 污染防止剂组成物 ANTI-SOILING AGENT COMPOSITION
    • TW201247783A
    • 2012-12-01
    • TW101111800
    • 2012-04-03
    • 主技股份有限公司
    • 關谷宏澤田拓小林大介
    • C08LC09DD21F
    • D21H17/72C08G77/045C08G77/14C08G77/388C08G77/46C08G77/80C08L83/06C08L83/08C09D5/1675D21C9/08D21C9/083D21C9/086D21H17/06D21H17/59D21H21/02D21H21/04C08L83/00
    • 本發明提供一種能夠充分防止殘渣(pitch)黏附於乾燥部分部位的污染防止劑組成物。本發明之污染防止劑組成物包含下式(1)所示的低分子聚矽氧烷化合物和下式(2)所示的高分子聚矽氧烷化合物,每1分子的低分子聚矽氧烷化合物中之改性基的個數為0.1至3.0個,每1分子的高分子聚矽氧烷化合物中之改性基的個數為1.0至10個,低分子聚矽氧烷化合物中之聚矽氧烷單元的重複單元數m和高分子聚矽氧烷化合物中之聚矽氧烷單元的重複單元數n滿足2m≦n的關係。[式(1)中,取代基R 1 表示甲基或改性基,重複單元數m表示20至200的整數。][式(2)中,取代基R 2 表示甲基或改性基,重複單元數n表示整數。]
    • 本发明提供一种能够充分防止残渣(pitch)黏附于干燥部分部位的污染防止剂组成物。本发明之污染防止剂组成物包含下式(1)所示的低分子聚硅氧烷化合物和下式(2)所示的高分子聚硅氧烷化合物,每1分子的低分子聚硅氧烷化合物中之改性基的个数为0.1至3.0个,每1分子的高分子聚硅氧烷化合物中之改性基的个数为1.0至10个,低分子聚硅氧烷化合物中之聚硅氧烷单元的重复单元数m和高分子聚硅氧烷化合物中之聚硅氧烷单元的重复单元数n满足2m≦n的关系。[式(1)中,取代基R 1 表示甲基或改性基,重复单元数m表示20至200的整数。][式(2)中,取代基R 2 表示甲基或改性基,重复单元数n表示整数。]