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1. 发明专利

TW210982B 昇華型熱敏記錄方法用記錄媒質失效
简体标题：升华型热敏记录方法用记录媒质
公开(公告)号：TW210982B
公开(公告)日：1993-08-11
申请号：TW081105916
申请日：1992-07-27
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：井關隆辛 , 串憲治 , 壽福和彥 , 藤原匡之
IPC分类号： B41M
CPC分类号： B41M5/5227 , Y10S428/913 , Y10S428/914 , Y10T428/31786
摘要：本發明係揭示一種昇華型熱敏轉印記錄方法用記錄媒質。本發明目的為提供有極高白度的昇華型熱敏記錄方法用記錄媒質。該記錄媒質包括設置於一基質表面上之影像接受層，該影像接受層係藉以塗佈及硬化一樹脂組成物而製得者，該樹脂組成物含有可用昇華性染料染色的可染色樹脂；具有以活化能射線可硬化的碳 -碳不飽和鍵之交聯劑；選自溶劑紫色 -33，溶劑藍色 -94，溶劑藍色 -78及溶劑藍色 -95（皆依色指數分類）中的至少一種系上藍劑；以及選自下列通式 (1) 和 (2)所述之化合物中的至少一種二苯基酮系紫外線吸收劑□ (1)
R1：-OH，-OR3
R2：-H，-SO3H
R3：C1 -C10烷基□ (2)
R4：-OR6
R5：-OR7
R6：C1 -C10烷基
R7：C1 -C10烷基。以本發明之昇華型熱敏記錄方法用記錄媒質，可得到高白度及硬化不會變黃的記錄媒質。由於基底的高白度，此記錄媒質相當高級，並且由於記錄影像極為鮮明，勢必在影條列印機方面被廣為採用及銷售。
简体摘要：本发明系揭示一种升华型热敏转印记录方法用记录媒质。本发明目的为提供有极高白度的升华型热敏记录方法用记录媒质。该记录媒质包括设置于一基质表面上之影像接受层，该影像接受层系借以涂布及硬化一树脂组成物而制得者，该树脂组成物含有可用升华性染料染色的可染色树脂；具有以活化能射线可硬化的碳 -碳不饱和键之交联剂；选自溶剂紫色 -33，溶剂蓝色 -94，溶剂蓝色 -78及溶剂蓝色 -95（皆依色指数分类）中的至少一种系上蓝剂；以及选自下列通式 (1) 和 (2)所述之化合物中的至少一种二苯基酮系紫外线吸收剂□ (1) R1：-OH，-OR3 R2：-H，-SO3H R3：C1 -C10烷基□ (2) R4：-OR6 R5：-OR7 R6：C1 -C10烷基 R7：C1 -C10烷基。以本发明之升华型热敏记录方法用记录媒质，可得到高白度及硬化不会变黄的记录媒质。由于基底的高白度，此记录媒质相当高级，并且由于记录像像极为鲜明，势必在影条打印机方面被广为采用及销售。

2. 发明专利

TW527525B 化學放大型光阻劑組成物有权
简体标题：化学放大型光阻剂组成物
公开(公告)号：TW527525B
公开(公告)日：2003-04-11
申请号：TW089113754
申请日：2000-07-11
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：藤原匡之 , 阪幸也 , 遠山昌之
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要：本發明係揭示一種化學放大型光阻劑組成物，其包括隨著酸可溶於鹼性水溶液之樹脂，及光酸發生劑及具有於25℃水中顯示出所形成得到共軛酸之鹼性程度，並具有中程度極性之胺衍生物。該胺衍生物具有作為急冷劑之機能。因此，本發明之化學放大型光阻劑組成物可形成高精度細微的光阻圖案，特別是適合在ArF準分子雷射之光刻中使用。
简体摘要：本发明系揭示一种化学放大型光阻剂组成物，其包括随着酸可溶于碱性水溶液之树脂，及光酸发生剂及具有于25℃水中显示出所形成得到共轭酸之碱性程度，并具有中程度极性之胺衍生物。该胺衍生物具有作为急冷剂之机能。因此，本发明之化学放大型光阻剂组成物可形成高精度细微的光阻图案，特别是适合在ArF准分子激光之光刻中使用。

3. 发明专利

TW173975B 昇華性分散染料吸取樹脂組成物失效
简体标题：升华性分散染料吸取树脂组成物
公开(公告)号：TW173975B
公开(公告)日：1991-12-01
申请号：TW079108667
申请日：1990-10-15
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：串憲治 , 藤原匡之
IPC分类号： C08L
摘要：一種昇華分散性染料吸取性樹脂組成物其中包括聚酯樹脂，藉活化固化所得之交聯劑，及離型劑其可影響選自矽官能基及含氟官能基中之至少一者的交聯構造者。此種樹脂組成物特別可應用於昇華型熱染料轉移法用之影像接收紙或影像接收膜；此種組成物具有優異防黏性及耐熱性。此外藉著加入苯駢三唑紫外光安定劑或受阻的胺光安定劑可改良褪色特性。
简体摘要：一种升华分散性染料吸取性树脂组成物其中包括聚酯树脂，藉活化固化所得之交联剂，及离型剂其可影响选自硅官能基及含氟官能基中之至少一者的交联构造者。此种树脂组成物特别可应用于升华型热染料转移法用之影像接收纸或影像接收膜；此种组成物具有优异防黏性及耐热性。此外借着加入苯骈三唑紫外光安定剂或受阻的胺光安定剂可改良褪色特性。

4. 发明专利

TW224069B 昇華型熱敏轉印方法用記錄媒質(2) 失效
简体标题：升华型热敏转印方法用记录媒质(2)
公开(公告)号：TW224069B
公开(公告)日：1994-05-21
申请号：TW082101351
申请日：1993-02-25
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：上田昭史 , 井關隆幸 , 串憲治 , 壽福和彥 , 藤原匡之
IPC分类号： B41M
摘要：一種昇華型熱敏轉印方式用記錄媒體，其中在基材表面上形成由含有染色性樹脂及至少一種選自式(1)、(2)及(3)之亞磷酸鹽系抗氧化劑之樹脂組成物所構成的受像層。此昇華型熱敏轉印方式用記錄媒體具明極佳之耐光性，且在記錄媒體上記錄的圖像當受光時僅有極少的褪色或變色，因此可以預期到此記錄媒體會廣大普及使用於影像印表機等等。
(1) CC式(1)中，R1及R2係H或C1-C20烷基，R3及R4係 C1-C20烷基，X係H或具1-10個碳原子當作其主骨架之原子團，n係1、2、3或4
(2) CC式(2)中，R5及 R6係H或C1-C20烷基，R7係C1-C20烷基，Y係H或具1-10個碳原子當作其主骨架之原子團，n係1、2、3或4
(3) CC式(3)中R8、R9、R10及R11係H或C1-C20烷基，Z係 H或具1-10個碳原子當作其主骨架之原子團，n係1、2、3或4。
简体摘要：一种升华型热敏转印方式用记录媒体，其中在基材表面上形成由含有染色性树脂及至少一种选自式(1)、(2)及(3)之亚磷酸盐系抗氧化剂之树脂组成物所构成的受像层。此升华型热敏转印方式用记录媒体具明极佳之耐光性，且在记录媒体上记录的图像当受光时仅有极少的褪色或变色，因此可以预期到此记录媒体会广大普及使用于影像打印机等等。 (1) CC式(1)中，R1及R2系H或C1-C20烷基，R3及R4系 C1-C20烷基，X系H或具1-10个碳原子当作其主骨架之原子团，n系1、2、3或4 (2) CC式(2)中，R5及 R6系H或C1-C20烷基，R7系C1-C20烷基，Y系H或具1-10个碳原子当作其主骨架之原子团，n系1、2、3或4 (3) CC式(3)中R8、R9、R10及R11系H或C1-C20烷基，Z系 H或具1-10个碳原子当作其主骨架之原子团，n系1、2、3或4。

5. 发明专利

TW223607B 昇華型熱敏轉印方法用記錄媒質(一) 失效
简体标题：升华型热敏转印方法用记录媒质(一)
公开(公告)号：TW223607B
公开(公告)日：1994-05-11
申请号：TW082101369
申请日：1993-02-25
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：上田昭史 , 井關隆幸 , 串憲治 , 壽福和彥 , 藤原匡之
IPC分类号： B41M
摘要：揭示一種屏華型熱敏轉印方法用記錄媒體，其中一種由含有染色性樹脂及至少一式(1)化合物的樣脂組物所構成的受像層係形成於基材表面上。此昇華型熱敏轉印方法用記錄媒體具有極佳之耐光性，且在此記錄媒體上所記錄的圓像當受光時僅有很少的褪色或變色，因此可預期到此記錄媒體會廣泛被採用在影像印表機等等。
HO－A－N－C－R1
∣ ∥
H O式(1)中，Ｒ1係C1-C20烷基，Ａ係未取代或取代之伸苯基或基。
简体摘要：揭示一种屏华型热敏转印方法用记录媒体，其中一种由含有染色性树脂及至少一式(1)化合物的样脂组物所构成的受像层系形成于基材表面上。此升华型热敏转印方法用记录媒体具有极佳之耐光性，且在此记录媒体上所记录的圆像当受光时仅有很少的褪色或变色，因此可预期到此记录媒体会广泛被采用在影像打印机等等。 HO－A－N－C－R1 ∣ ∥ H O式(1)中，Ｒ1系C1-C20烷基，Ａ系未取代或取代之伸苯基或基。

6. 发明专利

TWI317050B 光阻用聚合物及光阻組成物 POLYMER FOR RESIST AND RESIST COMPOSITION 有权
简体标题：光阻用聚合物及光阻组成物 POLYMER FOR RESIST AND RESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TWI317050B
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：TW093102100
申请日：2004-01-30
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：百瀨陽 , 大竹敦 , 上田昭史 , 藤原匡之 , 竹下優 , 林亮太郎 , 岩井武
IPC分类号： G03F , C08F
CPC分类号： C08F220/28 , G03F7/0397 , Y10S430/111
摘要：一種光阻用聚合物，其為含有具氰基的特定構成單元、具有酸脫離性基的構成單元以及具有內酯架構的特定單元之聚合物，將此光阻用聚合物作為DUV激分子雷射微影技術或電子線微影技術中使用的光阻樹脂的情況下，具有高敏感性、高解析度、光阻圖案形狀良好、線邊緣粗糙的產生少、微膠體的產生也較少。
简体摘要：一种光阻用聚合物，其为含有具氰基的特定构成单元、具有酸脱离性基的构成单元以及具有内酯架构的特定单元之聚合物，将此光阻用聚合物作为DUV激分子激光微影技术或电子线微影技术中使用的光阻树脂的情况下，具有高敏感性、高分辨率、光阻图案形状良好、线边缘粗糙的产生少、微胶体的产生也较少。

7. 发明专利

TW526389B 光阻劑用樹脂及化學增幅型光阻劑組成物有权
简体标题：光阻剂用树脂及化学增幅型光阻剂组成物
公开(公告)号：TW526389B
公开(公告)日：2003-04-01
申请号：TW090102992
申请日：2001-02-09
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：藤原匡之 , 阪幸也 , 時光亨 , 村田直志 , 加門良啓 , 百瀨陽
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F20/28 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要：本發明係有關一種含有選自式(I)及(II)之單體單位的光阻劑用樹脂，蝕刻後光阻劑表面上不會產生粗糙情形、乾式蝕刻耐性佳、適合使用作為DUV用光阻體；其中R1及R2係各表示氫原子、烷基、或酸脫離性之保護基，其中取代基R3係表示烷基、或含酸脫離性之保護基的官能基，且表示R3個數之m為0(無取代基)、1或2以上， m為2以上時R3可為相同或不同，n係表示0～4之整數。
简体摘要：本发明系有关一种含有选自式(I)及(II)之单体单位的光阻剂用树脂，蚀刻后光阻剂表面上不会产生粗糙情形、干式蚀刻耐性佳、适合使用作为DUV用光阻体；其中R1及R2系各表示氢原子、烷基、或酸脱离性之保护基，其中取代基R3系表示烷基、或含酸脱离性之保护基的官能基，且表示R3个数之m为0(无取代基)、1或2以上， m为2以上时R3可为相同或不同，n系表示0～4之整数。

8. 发明专利

TW187171B 用於昇華型熱轉印記錄法之記錄媒體失效
简体标题：用于升华型热转印记录法之记录媒体
公开(公告)号：TW187171B
公开(公告)日：1992-07-11
申请号：TW080108871
申请日：1991-11-07
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：井關隆幸 , 串憲治 , 壽福和彥 , 藤原匡之
IPC分类号： B41M , D21H
摘要：本發明提出一種用於昇華型熱轉印記錄方法之記錄媒體，其組成是以層合紙為基紙。在此層合紙中，是利用黏著劑將至少兩片纖維素纖維紙黏合在一起，並且在其中的一片塗佈著一層染料受層。因此，本發明用於昇華型熱敏轉印記錄方法之記錄媒體中所考慮到的是使用將纖維素纖維紙黏合在一起所形成之層合紙做為基紙。此種結構可以完全防止記錄媒體之翹曲，同時也可以降低基紙之生產成本，因此所製得的是低成本之記錄媒體，這對於已被廣泛應用的昇華型記錄印表機有極大之貢獻。
简体摘要：本发明提出一种用于升华型热转印记录方法之记录媒体，其组成是以层合纸为基纸。在此层合纸中，是利用黏着剂将至少两片纤维素纤维纸黏合在一起，并且在其中的一片涂布着一层染料受层。因此，本发明用于升华型热敏转印记录方法之记录媒体中所考虑到的是使用将纤维素纤维纸黏合在一起所形成之层合纸做为基纸。此种结构可以完全防止记录媒体之翘曲，同时也可以降低基纸之生产成本，因此所制得的是低成本之记录媒体，这对于已被广泛应用的升华型记录打印机有极大之贡献。

9. 发明专利

TW155112B 昇華型熱敏轉印記錄方法用記錄介質失效
简体标题：升华型热敏转印记录方法用记录介质
公开(公告)号：TW155112B
公开(公告)日：1991-04-01
申请号：TW079105780
申请日：1990-07-13
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：串憲治 , 近藤進 , 壽福和彥 , 領家英恭 , 藤原匡之
IPC分类号： B41M
摘要：一種昇華型熱敏轉印記錄方法用記錄介質，含有組成為紙質和附著在紙質表面上的白色聚酯膜層之積層紙質，其中白色聚酯膜層具有活性輻射熟化的染料接受層，該活性輻射熟化的染料接受層係由約40至95％重量比的聚酯樹脂和約60至５％重量比之可活性輻射熟化的架橋劑混合而成之組成物所構成，此聚酯樹脂和架橋劑之總和為100％重量比，於此加入脫模劑，其中脫模劑對比混合物之比例為每100份重量的混合物中，佔0.01至12份的重量，此最終混合物再以活生輻射熟化。
简体摘要：一种升华型热敏转印记录方法用记录介质，含有组成为纸质和附着在纸质表面上的白色聚酯膜层之积层纸质，其中白色聚酯膜层具有活性辐射熟化的染料接受层，该活性辐射熟化的染料接受层系由约40至95％重量比的聚酯树脂和约60至５％重量比之可活性辐射熟化的架桥剂混合而成之组成物所构成，此聚酯树脂和架桥剂之总和为100％重量比，于此加入脱模剂，其中脱模剂对比混合物之比例为每100份重量的混合物中，占0.01至12份的重量，此最终混合物再以活生辐射熟化。

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