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1. 发明专利

TW201701921A 線量分布演算裝置、粒子線治療裝置，及線量分布演算方法审中-公开
简体标题：线量分布演算设备、粒子线治疗设备，及线量分布演算方法
公开(公告)号：TW201701921A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW104134658
申请日：2015-10-22
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 山本和男 , YAMAMOTO, KAZUO , 平野有希子 , HIRANO, YUKIKO , 前田奈津子 , MAEDA, NATSUKO , 服部絵理 , HATTORI, ERI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 岸井保人 , KISHII, YASUTO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：本發明之目的在於實現無須高位置解析度之線量檢測器，且可將靜態及動態的不確定性皆排除之患者QA。本發明之線量分布演算裝置(10)係包括：射束資訊記憶部(測量能量記憶部(14)、測量電荷記憶部(12)、測量射束中心軸記憶部(13))，於對屬於治療對象的代替物之假體(21)照射粒子射束(20)之確認照射中，藉由測量裝置測量粒子線治療裝置(50)所產生之粒子射束(20)的粒子射束資訊，而該射束資訊記憶部記憶該測量粒子射束資訊；以及合計線量演算部(15)，係依據測量粒子射束資訊(測量能量(E)、測量射束量(測量電荷數(Q))、測量射束中心軸位置(Px,Py))來演算照射線量分布(合計線量分布(Di))。
简体摘要：本发明之目的在于实现无须高位置分辨率之线量检测器，且可将静态及动态的不确定性皆排除之患者QA。本发明之线量分布演算设备(10)系包括：射束信息记忆部(测量能量记忆部(14)、测量电荷记忆部(12)、测量射束中心轴记忆部(13))，于对属于治疗对象的代替物之假体(21)照射粒子射束(20)之确认照射中，借由测量设备测量粒子线治疗设备(50)所产生之粒子射束(20)的粒子射束信息，而该射束信息记忆部记忆该测量粒子射束信息；以及合计线量演算部(15)，系依据测量粒子射束信息(测量能量(E)、测量射束量(测量电荷数(Q))、测量射束中心轴位置(Px,Py))来演算照射线量分布(合计线量分布(Di))。

2. 发明专利

TWI612493B 線量分布演算裝置及具有線量分布演算裝置之粒子射線治療裝置有权
简体标题：线量分布演算设备及具有线量分布演算设备之粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TWI612493B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW105140414
申请日：2016-12-07
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 笹野理 , SASANO, MAKOTO , 本田泰三 , HONDA, TAIZO
IPC分类号： G06Q50/22 , G06F11/28 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10

3. 发明专利

TW201741989A 線量分布演算裝置及具有線量分布演算裝置之粒子射線治療裝置审中-公开
简体标题：线量分布演算设备及具有线量分布演算设备之粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TW201741989A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105140414
申请日：2016-12-07
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 笹野理 , SASANO, MAKOTO , 本田泰三 , HONDA, TAIZO
IPC分类号： G06Q50/22 , G06F11/28 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：藉由線量誤差分布演算部13，對於依據治療計畫資訊記憶部11所記憶之治療計畫資訊之照射，因應誤差資訊記憶部12所記憶之由於粒子射線治療裝置所包含之機器的動作誤差、照射對象的動作所產生之點位置、能量、射束照射量之中至少一者之誤差的資訊，考慮誤差對線量分布造成之影響而演算線量誤差的分布，藉此可不使線量分布的測量精確度下降而謀求縮短測量時間。
简体摘要：借由线量误差分布演算部13，对于依据治疗计划信息记忆部11所记忆之治疗计划信息之照射，因应误差信息记忆部12所记忆之由于粒子射线治疗设备所包含之机器的动作误差、照射对象的动作所产生之点位置、能量、射束照射量之中至少一者之误差的信息，考虑误差对线量分布造成之影响而演算线量误差的分布，借此可不使线量分布的测量精确度下降而谋求缩短测量时间。

4. 发明专利

TWI580459B 線量分布演算裝置、粒子線治療裝置，及線量分布演算方法有权
简体标题：线量分布演算设备、粒子线治疗设备，及线量分布演算方法
公开(公告)号：TWI580459B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW104134658
申请日：2015-10-22
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 山本和男 , YAMAMOTO, KAZUO , 平野有希子 , HIRANO, YUKIKO , 前田奈津子 , MAEDA, NATSUKO , 服部絵理 , HATTORI, ERI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 岸井保人 , KISHII, YASUTO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10

5. 发明专利

TWI600451B 粒子射線治療裝置及治療計畫補正方法有权
简体标题：粒子射线治疗设备及治疗计划补正方法
公开(公告)号：TWI600451B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105117949
申请日：2016-06-07
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 山本和男 , YAMAMOTO, KAZUO , 平野有希子 , HIRANO, YUKIKO , 前田奈津子 , MAEDA, NATSUKO , 岸井保人 , KISHII, YASUTO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10

6. 发明专利

TW201716104A 粒子射線治療裝置及治療計畫補正方法审中-公开
简体标题：粒子射线治疗设备及治疗计划补正方法
公开(公告)号：TW201716104A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105117949
申请日：2016-06-07
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 山本和男 , YAMAMOTO, KAZUO , 平野有希子 , HIRANO, YUKIKO , 前田奈津子 , MAEDA, NATSUKO , 岸井保人 , KISHII, YASUTO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：本發明之粒子射線治療裝置(50)係包括線量分布演算裝置(10)，該線量分布演算裝置(10)係包括：射束資訊記憶部(測量能量記憶部(14)、測量電荷記憶部(12)、測量射束中心軸記憶部(13))，係記憶由測量裝置(6、7、8)所測量之粒子射束20的粒子射束資訊之測量粒子射束資訊；合計線量演算部(15)，係依據測量粒子射束資訊(能量(E)、測量射束量(測量電荷數(Q))、測量射束中心軸位置(Px、Py))，演算照射線量分布(合計線量分布(Di))；以及計畫線量比較部(16)，係演算屬於照射線量分布(合計線量分布(Di))與目標線量分布(Dobji)之差異之線量分布差異(△Di)；合計線量演算部(15)係藉由在全部的時間區間將照射粒子數(粒子數(wk))與單位粒子線量(線量(di，k))相乘之時間區間線量予以加總，而演算照射對象的演算對象點之線量，其中，該照射粒子數係依據粒子射束資訊被測量之時間區間的相同區間中之測量能量及測量射束量而求得者，該單位粒子射線量為依據在時間區間的相同區間中之測量能量及測量射束中心軸位置而求得之由粒子射束中之一個粒子所賦予之線量；該粒子射線治療裝置(50)係在第2次以後之治療照射中，依據包含將線量分布差異(△Di)予以修正之修正射束量(修正總電荷數(Qcj))之控制資料而進行控制。
简体摘要：本发明之粒子射线治疗设备(50)系包括线量分布演算设备(10)，该线量分布演算设备(10)系包括：射束信息记忆部(测量能量记忆部(14)、测量电荷记忆部(12)、测量射束中心轴记忆部(13))，系记忆由测量设备(6、7、8)所测量之粒子射束20的粒子射束信息之测量粒子射束信息；合计线量演算部(15)，系依据测量粒子射束信息(能量(E)、测量射束量(测量电荷数(Q))、测量射束中心轴位置(Px、Py))，演算照射线量分布(合计线量分布(Di))；以及计划线量比较部(16)，系演算属于照射线量分布(合计线量分布(Di))与目标线量分布(Dobji)之差异之线量分布差异(△Di)；合计线量演算部(15)系借由在全部的时间区间将照射粒子数(粒子数(wk))与单位粒子线量(线量(di，k))相乘之时间区间线量予以加总，而演算照射对象的演算对象点之线量，其中，该照射粒子数系依据粒子射束信息被测量之时间区间的相同区间中之测量能量及测量射束量而求得者，该单位粒子射线量为依据在时间区间的相同区间中之测量能量及测量射束中心轴位置而求得之由粒子射束中之一个粒子所赋予之线量；该粒子射线治疗设备(50)系在第2次以后之治疗照射中，依据包含将线量分布差异(△Di)予以修正之修正射束量(修正总电荷数(Qcj))之控制数据而进行控制。

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