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1. 发明专利

TW201740999A 粒子射線治療裝置用之射束監視器及粒子射線治療裝置审中-公开
简体标题：粒子射线治疗设备用之射束监视器及粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TW201740999A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105140415
申请日：2016-12-07
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/10 , G21K5/04 , H05H13/04
CPC分类号： A61N5/10
摘要：本發明之目的在於獲得一種粒子射線治療裝置用之射束監視器，係在試驗照射時能夠確認射束位置，且在實際照射中亦能夠監視帶電粒子射束是否偏離射束設計軌道。本發明之粒子射線治療裝置用之射束監視器(34)係包括：螢光板(17)，係配置於帶電粒子射束的射束設計軌道(導管中心線(25))上，並且具有設成為帶電粒子射束能夠通過之開口部(18)；蓋部(19)，係將開口部(18)予以開閉，並且塗覆有螢光塗料；蓋部移動機構(43)，係以開口部(18)開閉之方式移動蓋部(19)；以及攝影機(21)，係配置成觀察螢光板(17)的表面；其中，在試驗照射時，藉由蓋部(19)覆蓋開口部(18)。
简体摘要：本发明之目的在于获得一种粒子射线治疗设备用之射束监视器，系在试验照射时能够确认射束位置，且在实际照射中亦能够监视带电粒子射束是否偏离射束设计轨道。本发明之粒子射线治疗设备用之射束监视器(34)系包括：萤光板(17)，系配置于带电粒子射束的射束设计轨道(导管中心线(25))上，并且具有设成为带电粒子射束能够通过之开口部(18)；盖部(19)，系将开口部(18)予以开闭，并且涂覆有萤光涂料；盖部移动机构(43)，系以开口部(18)开闭之方式移动盖部(19)；以及摄影机(21)，系配置成观察萤光板(17)的表面；其中，在试验照射时，借由盖部(19)覆盖开口部(18)。

2. 发明专利

TWI548436B 治療計劃裝置、粒子射線治療裝置，以及帶電荷粒子射束掃描路徑之決定方法有权
简体标题：治疗计划设备、粒子射线治疗设备，以及带电荷粒子射束扫描路径之决定方法
公开(公告)号：TWI548436B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW104123668
申请日：2013-03-29
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/103 , A61N5/1031 , A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087

3. 发明专利

TWI535470B 粒子束照射裝置及粒子束治療裝置有权
简体标题：粒子束照射设备及粒子束治疗设备
公开(公告)号：TWI535470B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW102139051
申请日：2011-03-30
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/01 , A61B6/08
CPC分类号： H01J37/147 , A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , G06N3/02 , G21H5/00 , G21K1/093 , G21K5/04 , H01J37/04 , H01J2237/0473

4. 发明专利

TW201618830A 粒子射線治療設施之設計支援方法、粒子射線治療設施之製造方法，以及粒子射線治療設施审中-公开
简体标题：粒子射线治疗设施之设计支持方法、粒子射线治疗设施之制造方法，以及粒子射线治疗设施
公开(公告)号：TW201618830A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104112669
申请日：2015-04-21
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/00 , G21K5/04
CPC分类号： G06F17/5004 , A61N5/10 , A61N5/1078 , A61N5/1079 , A61N2005/1087 , A61N2005/1094 , E04H3/08 , G06F17/50
摘要：本發明之目的在於提供一種改良複數間治療室的配置之粒子射線治療設施的設計支援方法及粒子射線治療設施的製造方法。本發明之粒子射線治療設施的設計支援方法係包括：局部凹區域計算步驟，係計算配置在對應於配置對象空間之模型空間之複數間治療室模型中配置成最靠近之2間治療室模型之間的屬於凹區域之局部凹區域的體積，或計算將局部凹區域的投影面積；凹區域計算結果顯示步驟，係將於局部凹區域計算步驟所計算之局部凹區域的體積或投影面積顯示於設計支援裝置的顯示裝置；以及治療室模型移動步驟，係在凹區域計算結果顯示步驟之後尚未有作業結束指示時，因應治療室模型的移動指示，於模型空間中移動治療室模型；其中，直至有作業結束指示為止，反覆進行局部凹區域計算步驟、凹區域計算結果顯示步驟、治療室模型移動步驟。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种改良复数间治疗室的配置之粒子射线治疗设施的设计支持方法及粒子射线治疗设施的制造方法。本发明之粒子射线治疗设施的设计支持方法系包括：局部凹区域计算步骤，系计算配置在对应于配置对象空间之模型空间之复数间治疗室模型中配置成最靠近之2间治疗室模型之间的属于凹区域之局部凹区域的体积，或计算将局部凹区域的投影面积；凹区域计算结果显示步骤，系将于局部凹区域计算步骤所计算之局部凹区域的体积或投影面积显示于设计支持设备的显示设备；以及治疗室模型移动步骤，系在凹区域计算结果显示步骤之后尚未有作业结束指示时，因应治疗室模型的移动指示，于模型空间中移动治疗室模型；其中，直至有作业结束指示为止，反复进行局部凹区域计算步骤、凹区域计算结果显示步骤、治疗室模型移动步骤。

5. 发明专利

TWI530309B 粒子線治療裝置及線量校正係數的設定方法有权
简体标题：粒子线治疗设备及线量校正系数的设置方法
公开(公告)号：TWI530309B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW102135638
申请日：2013-10-02
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：原田久 , HARADA, HISASHI , 池田昌廣 , IKEDA, MASAHIRO , 高橋理 , TAKAHASHI, OSAMU , 伊奈信彥 , INA, NOBUHIKO , 蒲越虎 , PU, YUEHU , 岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N5/1075 , A61N2005/1076 , A61N2005/1087

6. 发明专利

TWI510220B 粒子射線治療裝置、以及決定分時照射對象的治療室之方法有权
简体标题：粒子射线治疗设备、以及决定分时照射对象的治疗室之方法
公开(公告)号：TWI510220B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW102113571
申请日：2010-11-18
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61B6/00
CPC分类号： A61N5/1068 , A61N5/1049 , A61N5/1064 , A61N5/1077 , A61N5/1079 , A61N2005/1087 , G06F19/00 , G16H40/20

7. 发明专利

TWI421111B 粒子線照射裝置及粒子線治療裝置有权
简体标题：粒子线照射设备及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TWI421111B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW099131586
申请日：2010-09-17
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/01
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/10 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/093 , G21K1/10 , G21K5/04

8. 发明专利

TW201332517A 粒子射線治療裝置、以及決定分時照射對象的治療室之方法审中-公开
简体标题：粒子射线治疗设备、以及决定分时照射对象的治疗室之方法
公开(公告)号：TW201332517A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW102113571
申请日：2010-11-18
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩田高明 , IWATA, TAKAAKI
IPC分类号： A61B6/00
CPC分类号： A61N5/1068 , A61N5/1049 , A61N5/1064 , A61N5/1077 , A61N5/1079 , A61N2005/1087 , G06F19/00 , G16H40/20
摘要：本發明之目的是獲得粒子射線治療裝置，透過在複數間治療室同時進行粒子射線照射，可以使多數之患者接受治療。本發明之解決手段具備有：呼吸誘導裝置(22)，根據目標呼吸波形(WIb)用來誘導呼吸；切換裝置(32)，用來切換粒子射束之軌道；照射裝置(21)，與目標呼吸波形(WIb)同步地控制照射；以及用以控制成使複數間治療室(6)之呼吸誘導裝置(22)和切換裝置(32)同步之控制器(4)；以與各間治療室(6)之目標呼吸波形(WIb)同步之照射時間(TI)不重疊之方式，對各間治療室(6)之呼吸誘導裝置，調整目標呼吸波形(WIb)之週期和相位，並以對應各間治療室(6)之各間之照射時間(TI)切換粒子射束之軌道之方式，控制變換裝置(32)。
简体摘要：本发明之目的是获得粒子射线治疗设备，透过在复数间治疗室同时进行粒子射线照射，可以使多数之患者接受治疗。本发明之解决手段具备有：呼吸诱导设备(22)，根据目标呼吸波形(WIb)用来诱导呼吸；切换设备(32)，用来切换粒子射束之轨道；照射设备(21)，与目标呼吸波形(WIb)同步地控制照射；以及用以控制成使复数间治疗室(6)之呼吸诱导设备(22)和切换设备(32)同步之控制器(4)；以与各间治疗室(6)之目标呼吸波形(WIb)同步之照射时间(TI)不重叠之方式，对各间治疗室(6)之呼吸诱导设备，调整目标呼吸波形(WIb)之周期和相位，并以对应各间治疗室(6)之各间之照射时间(TI)切换粒子射束之轨道之方式，控制变换设备(32)。

9. 发明专利

TW201235068A 粒子線治療裝置 PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM 审中-公开
简体标题：粒子线治疗设备 PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM
公开(公告)号：TW201235068A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100135455
申请日：2011-09-30
申请人：三菱電機股份有限公司
发明人：岩田高明 , 菅原賢悟 , 原田久
IPC分类号： A61N
CPC分类号： A61B5/48 , A61N5/1043 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要：本發明提供一種粒子線治療裝置，目的為即使於治療中作了緊急停止處理之情形，亦排除掃描電磁鐵之磁滯的影響，且從中斷之照射位置再度開始高精度之射束照射。係具備：照射管理裝置(32)，依據荷電粒子射束(1)之目標照射位置座標(Pi)控制掃描電磁鐵(3)；以及，互鎖資訊輸入器(84)，於發生意外狀況時產生停止射束(1)之照射之互鎖訊號。照射管理裝置(32)於再度開始射束(1)之照射時，以不照射射束(1)之狀態，從較停止步驟之前，且與正式照射起點不同之開始步驟，執行空運轉至停止步驟為止，並自對應於停止步驟之目標照射位置座標(Pi)照射射束(1)。
简体摘要：本发明提供一种粒子线治疗设备，目的为即使于治疗中作了紧急停止处理之情形，亦排除扫描电磁铁之磁滞的影响，且从中断之照射位置再度开始高精度之射束照射。系具备：照射管理设备(32)，依据荷电粒子射束(1)之目标照射位置座标(Pi)控制扫描电磁铁(3)；以及，互锁信息输入器(84)，于发生意外状况时产生停止射束(1)之照射之互锁信号。照射管理设备(32)于再度开始射束(1)之照射时，以不照射射束(1)之状态，从较停止步骤之前，且与正式照射起点不同之开始步骤，运行空运转至停止步骤为止，并自对应于停止步骤之目标照射位置座标(Pi)照射射束(1)。

10. 发明专利

TW201221176A 膠塊土、膠塊土之製造方法、粒子束治療裝置，及治療計劃裝置 BOLUS, BOLUS MANUFACTURING METHOD, PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM, AND TREATMENT PLANNING APPARATUS 审中-公开
简体标题：胶块土、胶块土之制造方法、粒子束治疗设备，及治疗计划设备 BOLUS, BOLUS MANUFACTURING METHOD, PARTICLE BEAM THERAPY SYSTEM, AND TREATMENT PLANNING APPARATUS
公开(公告)号：TW201221176A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100119772
申请日：2011-06-07
申请人：三菱電機股份有限公司
发明人：岩田高明
IPC分类号： A61N , G21K
CPC分类号： A61N5/10 , A61N2005/1087 , A61N2005/1096 , G21K1/10 , Y10T29/49
摘要：本發明之目的為獲得一種膠塊土及粒子束治療裝置,該膠塊土可以正確地成形在適於照射對象的深度方向形狀的照射場。本發明係將第一基準點(CPa)當作起點,藉由第一傾斜度(��)與第二傾斜度(��)來定義粒子束(B)的照射軌道(TB),該第一傾斜度(��)係以對於射束軸(XB)成垂直且包含以第一基準點(CPa)的第一軸(Asa)當作中心,該第二傾斜度(��)則以對於射束軸(XB)及第一軸(Asa)成垂直之第二軸(Asb)當作中心,並且對預定的第一傾斜度(��)與第二傾斜度(��)的複數個組合來設定膠塊土(6)的形狀,俾使分別定義的照射軌道(TB)中膠塊土(6)內的路徑長度(LB),得以補償從身體表面(fK)到被照射部(IS)為止的路徑長度(LK)。
简体摘要：本发明之目的为获得一种胶块土及粒子束治疗设备,该胶块土可以正确地成形在适于照射对象的深度方向形状的照射场。本发明系将第一基准点(CPa)当作起点,借由第一倾斜度(��)与第二倾斜度(��)来定义粒子束(B)的照射轨道(TB),该第一倾斜度(��)系以对于射束轴(XB)成垂直且包含以第一基准点(CPa)的第一轴(Asa)当作中心,该第二倾斜度(��)则以对于射束轴(XB)及第一轴(Asa)成垂直之第二轴(Asb)当作中心,并且对预定的第一倾斜度(��)与第二倾斜度(��)的复数个组合来设置胶块土(6)的形状,俾使分别定义的照射轨道(TB)中胶块土(6)内的路径长度(LB),得以补偿从身体表面(fK)到被照射部(IS)为止的路径长度(LK)。

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