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1. 发明专利

TW593648B 鈰系研磨材及其製造方法有权
简体标题：铈系研磨材及其制造方法
公开(公告)号：TW593648B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW091101071
申请日：2002-01-23
申请人：三井金屬業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：伊藤昭文 ITO,TERUNORI , 望月直義 MOCHIZUKI, NAOYOSHI , 渡邊廣幸 WATANABE, HIROYUKI , 內野義嗣 UCHINO, YOSHITSUGU , 下河原明 SHIMOGAWARA, AKIRA
IPC分类号： C09K , C01F
CPC分类号： C09K3/14 , C01F17/0043 , C01P2006/12 , C01P2006/60 , C09K3/1409
摘要：本發明係提供一種將研磨材的顏色形成在一定的範圍內，或是使安定地含有氟素而能夠增加研磨速度和減少研磨傷的發生的研磨特性優良的鈰系研磨材及其製造方法。例如，該鈰系研磨材係以氧化鈰為主成分的鈰系研磨材，在以L*a*b*表色系來表示該鈰系研磨材的顏色時，能夠以 L*的值係65~90、a*的值係0~15、b*的值係10~30的鈰系研磨材為一例。
简体摘要：本发明系提供一种将研磨材的颜色形成在一定的范围内，或是使安定地含有氟素而能够增加研磨速度和减少研磨伤的发生的研磨特性优良的铈系研磨材及其制造方法。例如，该铈系研磨材系以氧化铈为主成分的铈系研磨材，在以L*a*b*表色系来表示该铈系研磨材的颜色时，能够以 L*的值系65~90、a*的值系0~15、b*的值系10~30的铈系研磨材为一例。

2. 发明专利

TWI281492B 氧化鈰系研磨材及氧化鈰系研磨材之製造方法 CERIUM-OXIDE-BASED ABRASIVE AND METHOD FOR PRODUCING THE CERIUM-OXSIDE-BASED ABRASIVE 有权
简体标题：氧化铈系研磨材及氧化铈系研磨材之制造方法 CERIUM-OXIDE-BASED ABRASIVE AND METHOD FOR PRODUCING THE CERIUM-OXSIDE-BASED ABRASIVE
公开(公告)号：TWI281492B
公开(公告)日：2007-05-21
申请号：TW090122581
申请日：2001-09-12
申请人：三井金屬業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：伊藤昭文 ITO,TERUNORI , 山崎秀彥 YAMASAKI, HIDEHIKO , 望月直義 MOCHIZUKI, NAOYOSHI , 內野義嗣 UCHINO, YOSHITSUGU
IPC分类号： C09K , C01F , B24B
CPC分类号： C09K3/1409 , C01F17/0043 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2006/12 , C03C19/00
摘要：本發明為一種鈰系研磨材，其特徵在於：以氧化鈰為主成份，且研磨材粒子之平均粒徑為0.2~3.0μm之氧化鈰系研磨材中，粒徑10μm以上之粗粒子濃度為1000ppm(重量比)以下，且磁性粒子濃度在1000ppm以下(重量比)。該等粗粒子、磁性粒子以300ppm以下(重量比)為特別較佳。又，若使研磨材材粒子之比表面積平均值為0.5~30m2/g，可成為具高切削性並可形成高精度研磨面之研磨材。該等鈰系研磨材之製造方法中粗粒子濃度係依分級點之控制及重覆進行分級來控制。而對磁性粒子之控制可應用以磁性材料形成之過濾器、粉碎媒體變更等方法單獨或遇當加以組合來進行。
简体摘要：本发明为一种铈系研磨材，其特征在于：以氧化铈为主成份，且研磨材粒子之平均粒径为0.2~3.0μm之氧化铈系研磨材中，粒径10μm以上之粗粒子浓度为1000ppm(重量比)以下，且磁性粒子浓度在1000ppm以下(重量比)。该等粗粒子、磁性粒子以300ppm以下(重量比)为特别较佳。又，若使研磨材材粒子之比表面积平均值为0.5~30m2/g，可成为具高切削性并可形成高精度研磨面之研磨材。该等铈系研磨材之制造方法中粗粒子浓度系依分级点之控制及重复进行分级来控制。而对磁性粒子之控制可应用以磁性材料形成之过滤器、粉碎媒体变更等方法单独或遇当加以组合来进行。

3. 发明专利

TWI249570B 含有氟之鈰系研磨材料及其製造方法 CERIUM-BASED ABRASIVE CONTAINING FLUORINE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME 有权
简体标题：含有氟之铈系研磨材料及其制造方法 CERIUM-BASED ABRASIVE CONTAINING FLUORINE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
公开(公告)号：TWI249570B
公开(公告)日：2006-02-21
申请号：TW093119008
申请日：2004-06-29
申请人：三井金屬業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：望月直義 MOCHIZUKI, NAOYOSHI , 小林大作 KOBAYASHI, DAISAKU , 下河原明 SHIMOGAWARA, AKIRA , 山崎秀彥 YAMASAKI, HIDEHIKO , 堂本幸輝 DOMOTO, YOSHITERU
IPC分类号： C09K , C09G
摘要：本發明之鈰系研磨材料係含有氟，全稀土類氧化物換算質量(TREO)相對於研磨材料質量之質量比成為90wt%以上，Th和U之合計含有量相對於該TREO之質量比((Th+U)/TREO)成為0.05wt%以下，布萊恩法平均粒徑(DB)成為1.5μm~2.5μm。進行以布萊恩法平均粒徑(DB)作為基準之粒徑設定之鈰系研磨材料係控制研磨材料粒子之粒度分布而確保必要之研磨速度。因此，在鈰系研磨材料製造時，在使用布萊恩法平均粒徑(DB)於粒度設定基準時，得到減低釷或鈾等之含有率並且具有高研磨速度的鈰系研磨材料。
简体摘要：本发明之铈系研磨材料系含有氟，全稀土类氧化物换算质量(TREO)相对于研磨材料质量之质量比成为90wt%以上，Th和U之合计含有量相对于该TREO之质量比((Th+U)/TREO)成为0.05wt%以下，布莱恩法平均粒径(DB)成为1.5μm~2.5μm。进行以布莱恩法平均粒径(DB)作为基准之粒径设置之铈系研磨材料系控制研磨材料粒子之粒度分布而确保必要之研磨速度。因此，在铈系研磨材料制造时，在使用布莱恩法平均粒径(DB)于粒度设置基准时，得到减低钍或铀等之含有率并且具有高研磨速度的铈系研磨材料。

4. 发明专利

TW200508375A 含有氟之鈰系研磨材料及其製造方法 CERIUM-BASED ABRASIVE CONTAINING FLUORINE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME 审中-公开
简体标题：含有氟之铈系研磨材料及其制造方法 CERIUM-BASED ABRASIVE CONTAINING FLUORINE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
公开(公告)号：TW200508375A
公开(公告)日：2005-03-01
申请号：TW093119008
申请日：2004-06-29
申请人：三井金屬業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：望月直義 MOCHIZUKI, NAOYOSHI , 小林大作 KOBAYASHI, DAISAKU , 下河原明 SHIMOGAWARA, AKIRA , 山崎秀彥 YAMASAKI, HIDEHIKO , 堂本幸輝 DOMOTO, YOSHITERU
IPC分类号： C09K , C09G
摘要：本發明之鈰系研磨材料係含有氟，全稀土類氧化物換算質量(TREO)相對於研磨材料質量之質量比成為90wt%以上，Th和U之合計含有量相對於該TREO之質量比((Th+U)/TREO)成為0.05wt%以下，布萊恩法平均粒徑(DB)成為1.5μm～2.5μm。進行以布萊恩法平均粒徑(DB)作為基準之粒徑設定之鈰系研磨材料係控制研磨材料粒子之粒度分布而確保必要之研磨速度。因此，在鈰系研磨材料製造時，在使用布萊恩法平均粒徑(DB)於粒度設定基準時，得到減低釷或鈾等之含有率並且具有高研磨速度的鈰系研磨材料。
简体摘要：本发明之铈系研磨材料系含有氟，全稀土类氧化物换算质量(TREO)相对于研磨材料质量之质量比成为90wt%以上，Th和U之合计含有量相对于该TREO之质量比((Th+U)/TREO)成为0.05wt%以下，布莱恩法平均粒径(DB)成为1.5μm～2.5μm。进行以布莱恩法平均粒径(DB)作为基准之粒径设置之铈系研磨材料系控制研磨材料粒子之粒度分布而确保必要之研磨速度。因此，在铈系研磨材料制造时，在使用布莱恩法平均粒径(DB)于粒度设置基准时，得到减低钍或铀等之含有率并且具有高研磨速度的铈系研磨材料。

5. 发明专利

TW593650B 鈰系研磨材料及其製造方法有权
简体标题：铈系研磨材料及其制造方法
公开(公告)号：TW593650B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW092105081
申请日：2003-03-10
申请人：三井金屬業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：望月直義 MOCHIZUKI, NAOYOSHI
IPC分类号： C09K
CPC分类号： C01F17/0043 , C01P2004/50 , C01P2006/80 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
摘要：本發明目的為提供一種粉末狀之鈰系研磨材料，其可單由與水等分散劑的混合，調製成可長時間維持研磨材料粒子分散性之鈰系研磨材料研磨液，且其用畢後之所需之後處理程序也相當簡便。由此，本發明提供一種鈰系研磨材料，其包含有含氯化合物，其中氯(元素)的總質量相當於鈰系研磨材料中稀土元素(rare-earth element)氧化物質量之0.05%~5.0%之間。研磨液中含有上述固態成分之研磨材料者，其研磨材料粒子具有優異之分散維持性。因此，可持續供給具有穩定固態成分濃度之研磨液，且不需分散劑來維持其分散狀態，研磨材料使用完畢，也不需分散劑的分離程序，因而可簡化用畢研磨材料之後處理程序。伍、(一)、本案代表圖為：無
(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明：無
简体摘要：本发明目的为提供一种粉末状之铈系研磨材料，其可单由与水等分散剂的混合，调制成可长时间维持研磨材料粒子分散性之铈系研磨材料研磨液，且其用毕后之所需之后处理进程也相当简便。由此，本发明提供一种铈系研磨材料，其包含有含氯化合物，其中氯(元素)的总质量相当于铈系研磨材料中稀土元素(rare-earth element)氧化物质量之0.05%~5.0%之间。研磨液中含有上述固态成分之研磨材料者，其研磨材料粒子具有优异之分散维持性。因此，可持续供给具有稳定固态成分浓度之研磨液，且不需分散剂来维持其分散状态，研磨材料使用完毕，也不需分散剂的分离进程，因而可简化用毕研磨材料之后处理进程。伍、(一)、本案代表图为：无 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明：无

6. 发明专利

TW200304489A 鈰系研磨材料及其製造方法 CERIUM-BASED ABRASIVE AND METHOD FOR MANUFACTUING THE SAME 审中-公开
简体标题：铈系研磨材料及其制造方法 CERIUM-BASED ABRASIVE AND METHOD FOR MANUFACTUING THE SAME
公开(公告)号：TW200304489A
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：TW092105081
申请日：2003-03-10
申请人：三井金屬業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：望月直義 MOCHIZUKI, NAOYOSHI
IPC分类号： C09K
CPC分类号： C01F17/0043 , C01P2004/50 , C01P2006/80 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
摘要：本發明目的為提供一種粉末狀之鈰系研磨材料，其可單由與水等分散劑的混合，調製成可長時間維持研磨材料粒子分散性之鈰系研磨材料研磨液，且其用畢後之所需之後處理程序也相當簡便。由此，本發明提供一種鈰系研磨材料，其包含有含氯化合物，其中氯(元素)的總質量相當於鈰系研磨材料中稀土元素(rare-earthelement)氧化物質量之0.05％～5.0％之間。研磨液中含有上述固態成分之研磨材料者，其研磨材料粒子具有優異之分散維持性。因此，可持續供給具有穩定固態成分濃度之研磨液，且不需分散劑來維持其分散狀態，研磨材料使用完畢，也不需分散劑的分離程序，因而可簡化用畢研磨材料之後處理程序。
简体摘要：本发明目的为提供一种粉末状之铈系研磨材料，其可单由与水等分散剂的混合，调制成可长时间维持研磨材料粒子分散性之铈系研磨材料研磨液，且其用毕后之所需之后处理进程也相当简便。由此，本发明提供一种铈系研磨材料，其包含有含氯化合物，其中氯(元素)的总质量相当于铈系研磨材料中稀土元素(rare-earthelement)氧化物质量之0.05％～5.0％之间。研磨液中含有上述固态成分之研磨材料者，其研磨材料粒子具有优异之分散维持性。因此，可持续供给具有稳定固态成分浓度之研磨液，且不需分散剂来维持其分散状态，研磨材料使用完毕，也不需分散剂的分离进程，因而可简化用毕研磨材料之后处理进程。

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