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    • 4. 发明专利
    • 光線投射裝置
    • 光线投射设备
    • TW201837367A
    • 2018-10-16
    • TW106111149
    • 2017-03-31
    • 誠益光電科技股份有限公司CHIAN YIH OPTOTECH CO., LTD.
    • 王正WANG, CHENG
    • F21V7/04F21S41/25
    • 本發明公開一種光線投射裝置,其包括一透鏡單元、一反射單元及一發光單元。透鏡單元具有一透鏡焦點及一透鏡光軸,且透鏡光軸通過一基準平面。反射單元包括一第一反射結構及一第二反射結構,第一反射結構具有一第一焦點以及一第二焦點。第二反射結構具有一第一焦點以及一第二焦點。發光單元的一第一發光結構對應第一反射結構的第一焦點。發光單元的一第二發光結構對應第二反射結構的第一焦點。第一發光結構所產生的一第一投射光線能朝向第一反射結構的方向以及基準平面的方向投射,第二發光結構所產生的一第二投射光線能朝向第二反射結構的方向以及基準平面的方向投射。藉此,本發明達到了提高聚光效率的效果。
    • 本发明公开一种光线投射设备,其包括一透镜单元、一反射单元及一发光单元。透镜单元具有一透镜焦点及一透镜光轴,且透镜光轴通过一基准平面。反射单元包括一第一反射结构及一第二反射结构,第一反射结构具有一第一焦点以及一第二焦点。第二反射结构具有一第一焦点以及一第二焦点。发光单元的一第一发光结构对应第一反射结构的第一焦点。发光单元的一第二发光结构对应第二反射结构的第一焦点。第一发光结构所产生的一第一投射光线能朝向第一反射结构的方向以及基准平面的方向投射,第二发光结构所产生的一第二投射光线能朝向第二反射结构的方向以及基准平面的方向投射。借此,本发明达到了提高聚光效率的效果。