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    • 9. 发明专利
    • 光發電裝置
    • 光发电设备
    • TW201448245A
    • 2014-12-16
    • TW103110139
    • 2014-03-18
    • 長州產業股份有限公司CHOSHU INDUSTRY CO., LTD.
    • 小林英治KOBAYASHI, EIJI
    • H01L31/042H01L31/0224
    • H01L31/03762H01L31/0201H01L31/022433H01L31/022466H01L31/028H01L31/0747Y02E10/50
    • 本發明提供一種填充因子高之光發電裝置。具有多層狀之光發電零件、以及積層於該光發電零件之其中一面上之第1集電構件及積層於另一面上之第2集電構件,且前述光發電零件包含有:n型結晶半導體基板;於該n型結晶半導體基板之前述第1集電構件側依下述順序積層的第1本質非晶矽薄膜、p型非晶矽薄膜及第1透明導電膜;及於該n型結晶半導體基板之第2集電構件依下述順序積層的n型非晶矽薄膜及第2透明導電膜,且該光發電裝置中,前述p型非晶矽薄膜之膜厚小於6nm,前述第1透明導電膜表面之前述第1集電構件之非積層區域之最大寬度小於2mm。
    • 本发明提供一种填充因子高之光发电设备。具有多层状之光发电零件、以及积层于该光发电零件之其中一面上之第1集电构件及积层于另一面上之第2集电构件,且前述光发电零件包含有:n型结晶半导体基板;于该n型结晶半导体基板之前述第1集电构件侧依下述顺序积层的第1本质非晶硅薄膜、p型非晶硅薄膜及第1透明导电膜;及于该n型结晶半导体基板之第2集电构件依下述顺序积层的n型非晶硅薄膜及第2透明导电膜,且该光发电设备中,前述p型非晶硅薄膜之膜厚小于6nm,前述第1透明导电膜表面之前述第1集电构件之非积层区域之最大宽度小于2mm。