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    • 5. 发明专利
    • 感應耦合電漿質譜儀之反應氣體供應設備與調配方法
    • 感应耦合等离子质谱仪之反应气体供应设备与调配方法
    • TW202022341A
    • 2020-06-16
    • TW108108479
    • 2019-03-13
    • 詠馥企業股份有限公司ENRICHFLOW GROUP CO., LTD
    • 陳韋帆CHEN, WEI FAN
    • G01N1/22H01J49/04
    • 一種感應耦合電漿質譜儀之反應氣體供應設備,其包含有一氨氣供應端及一氦氣供應端與一反應氣體供應設備所構成,該反應氣體供應設備與氨氣供應端及該氦氣供應端,並且該反應氣體供應設備設有調整氨氣及氦氣流量的氨氣質量流量計、氦氣質量流量計;藉由感應耦合電漿質譜儀指定的反應氣體比例調整前述的氨氣質量流量計、氦氣質量流量計,讓氨氣與氦氣混合後形成反應氣體,再將反應氣體提供給感應耦合電漿質譜儀;透過本發明的技術手段可以達到保護檢測儀器、降低反應氣體成本等多項優點。
    • 一种感应耦合等离子质谱仪之反应气体供应设备,其包含有一氨气供应端及一氦气供应端与一反应气体供应设备所构成,该反应气体供应设备与氨气供应端及该氦气供应端,并且该反应气体供应设备设有调整氨气及氦气流量的氨气质量流量计、氦气质量流量计;借由感应耦合等离子质谱仪指定的反应气体比例调整前述的氨气质量流量计、氦气质量流量计,让氨气与氦气混合后形成反应气体,再将反应气体提供给感应耦合等离子质谱仪;透过本发明的技术手段可以达到保护检测仪器、降低反应气体成本等多项优点。