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    • 1. 发明专利
    • 自含一或多種二元酸之反應混合物中去除觸媒之方法及進行烴轉化為二元酸之氧化作用之裝置
    • 自含一或多种二元酸之反应混合物中去除触媒之方法及进行烃转化为二元酸之氧化作用之设备
    • TW436319B
    • 2001-05-28
    • TW087120260
    • 1998-12-07
    • 第二十一世紀研究公司
    • 猶塔瑟斯法司流馬克W.戴索阿德M.羅思塔咪大衛C.迪寇斯特道格拉斯J.杜吉恩
    • B01D
    • C07C51/313C07C55/14
    • 一種自含有一或多種二元酸之反應混合物中去除觸媒之方法,該反應混合物係在觸媒、水和單元酸溶劑之存在下,使烴與氧化劑於一氧化區中反應後所形成,該方法係特徵於下列步驟:
      (a)在第一觸媒沉澱區域內使部份觸媒沉澱,其係藉由自反應混合物中除去至少部份之水,及/或控制溫度至適度高,而造成部份觸媒沉澱;
      (b)除去沉澱之觸媒,因此形成包含溶解觸媒、單元酸溶劑和一或多種二元酸之第二母液;
      (c)除去至少部份單元酸溶劑,並使一或多種二元酸熔化,直到觸媒在第二觸媒沉澱區域內沉澱為止;及
      (d)除去在步驟(c)中沉澱之觸媒。一種進行烴轉化為二元酸之氧化作用之反應器裝置,該氧化作用係在觸媒和單元酸溶劑之存在下,於反應混合物中進行,隨後係進行觸媒自該反應混合物之兩階段分離作用,該反應器裝置係特徵於:
      一氧化室;
      一與反應室連接之第一觸媒沉澱組裝,該第一觸媒沉澱組裝係包括至少一個脫水站,及第一熱處理站;及
      一與該第一觸媒沉澱組裝連接之第二觸媒沉澱組裝,該第二觸媒沉澱組裝係包括一蒸發器及第二熱處理站。
    • 一种自含有一或多种二元酸之反应混合物中去除触媒之方法,该反应混合物系在触媒、水和单元酸溶剂之存在下,使烃与氧化剂于一氧化区中反应后所形成,该方法系特征于下列步骤: (a)在第一触媒沉淀区域内使部份触媒沉淀,其系借由自反应混合物中除去至少部份之水,及/或控制温度至适度高,而造成部份触媒沉淀; (b)除去沉淀之触媒,因此形成包含溶解触媒、单元酸溶剂和一或多种二元酸之第二母液; (c)除去至少部份单元酸溶剂,并使一或多种二元酸熔化,直到触媒在第二触媒沉淀区域内沉淀为止;及 (d)除去在步骤(c)中沉淀之触媒。一种进行烃转化为二元酸之氧化作用之反应器设备,该氧化作用系在触媒和单元酸溶剂之存在下,于反应混合物中进行,随后系进行触媒自该反应混合物之两阶段分离作用,该反应器设备系特征于: 一氧化室; 一与反应室连接之第一触媒沉淀组装,该第一触媒沉淀组装系包括至少一个脱水站,及第一热处理站;及 一与该第一触媒沉淀组装连接之第二触媒沉淀组装,该第二触媒沉淀组装系包括一蒸发器及第二热处理站。