专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 外观设计

TWD129491S 招弧角 ARCING HORN 有权
公开(公告)号：TWD129491S
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097304870
申请日：2008-08-22
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
设计人：柘植憲治 TSUGE KENJI , 高木俊幸 TAKAGI TOSHIYUKI , 鳥本宗一 TORIMOTO SOUICHI
摘要：【物品用途】
本創作之招弧角係為避雷器與絕緣件之間之一連接用附屬配件。
【創作特點】
本創作之招弧角主要包括一支承構件與一環型構件。支承構件包括一第一基板、一第一桿件組、一第二桿件組與一第二基板。第一桿件組與第二桿件組係設置於第一基板與第二基板之間之連接。第一基板係為具有複數圓孔之一矩型板。第一桿件組係由相互間隔之兩平行桿件所組成,兩平行桿件之一端部係垂直連接於第一基板,如此使得第一基板之複數圓孔於實質上是位於第一桿件組之兩平行桿件之間。第二桿件組於實質上具有似H狀外型之結構,並且第二桿件之兩平行桿件係內接組合於第一桿件組之兩平行桿件之內側表面上,如此使得相互組合之第一桿件組、第二桿件組之一側可形成一似V型結構。第二基板係為具有一曲型端部之一似矩型狀結構。第二基板之一側係內接組合於第二桿件之兩平行桿件之內側表面上,如此使得相互組合之第二桿件組與第二基板之一側可形成另一似V型結構。於第二基板上具有矩陣狀排列之複數圓孔。環型構件係由一中空圓柱管件所形成之一曲型結構。環型構件之兩連接端部係以相互對稱且垂直方式而分別連接於第一桿件組之兩平行桿件之外表面,並且藉由環型構件對於相互連接之第一桿件組、第二桿件組與第二基板進行空間上圍繞。由此可知,本創作之招弧角無疑是一種極具新穎造型且巧思之外觀設計。
如上所述,本創作之樸實的外觀造型設計,使本創作不僅獨具創意,亦深具美感,誠為符合新式樣專利要件的創新設計。
简体摘要：【物品用途】本创作之招弧角系为避雷器与绝缘件之间之一连接用附属配件。【创作特点】本创作之招弧角主要包括一支承构件与一环型构件。支承构件包括一第一基板、一第一杆件组、一第二杆件组与一第二基板。第一杆件组与第二杆件组系设置于第一基板与第二基板之间之连接。第一基板系为具有复数圆孔之一矩型板。第一杆件组系由相互间隔之两平行杆件所组成,两平行杆件之一端部系垂直连接于第一基板,如此使得第一基板之复数圆孔于实质上是位于第一杆件组之两平行杆件之间。第二杆件组于实质上具有似H状外型之结构,并且第二杆件之两平行杆件系内接组合于第一杆件组之两平行杆件之内侧表面上,如此使得相互组合之第一杆件组、第二杆件组之一侧可形成一似V型结构。第二基板系为具有一曲型端部之一似矩型状结构。第二基板之一侧系内接组合于第二杆件之两平行杆件之内侧表面上,如此使得相互组合之第二杆件组与第二基板之一侧可形成另一似V型结构。于第二基板上具有矩阵状排列之复数圆孔。环型构件系由一中空圆柱管件所形成之一曲型结构。环型构件之两连接端部系以相互对称且垂直方式而分别连接于第一杆件组之两平行杆件之外表面,并且借由环型构件对于相互连接之第一杆件组、第二杆件组与第二基板进行空间上围绕。由此可知,本创作之招弧角无疑是一种极具新颖造型且巧思之外观设计。如上所述,本创作之朴实的外观造型设计,使本创作不仅独具创意,亦深具美感,诚为符合新式样专利要件的创新设计。

2. 发明专利

TWI311029B 供電元件及加熱裝置(二) POWER-SUPPLYING MEMBER AND HEATING APPARATUS USING THE SAME (二) 有权
简体标题：供电组件及加热设备(二) POWER-SUPPLYING MEMBER AND HEATING APPARATUS USING THE SAME (二)
公开(公告)号：TWI311029B
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：TW095113755
申请日：2006-04-18
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：後藤義信 YOSHINOBU GOTO , 鶴田英芳 HIDEYOSHI TSURUTA
IPC分类号： H05B
CPC分类号： H01L21/67103 , H01L21/68792
摘要： [課題] 提供可提高裝置耐久性的供電元件及利用此元件的加熱裝置。
[解決手段] 供電元件100係包括:第一棒狀元件101,與供電對象連接;第二棒狀元件103,與電源連接;以及熱作用元件102,設置在第一棒狀元件101和第二棒狀元件103之間,與第一棒狀元件101和第二棒狀元件103比較,軸方向的剖面積小,且表面積大。
简体摘要： [课题] 提供可提高设备耐久性的供电组件及利用此组件的加热设备。 [解决手段] 供电组件100系包括:第一棒状组件101,与供电对象连接;第二棒状组件103,与电源连接;以及热作用组件102,设置在第一棒状组件101和第二棒状组件103之间,与第一棒状组件101和第二棒状组件103比较,轴方向的剖面积小,且表面积大。

3. 发明专利

TWI309141B 供電元件及加熱裝置(一) POWER-SUPPLYING MEMBER AND HEATING APPARATUS USING THE SAME (一) 有权
简体标题：供电组件及加热设备(一) POWER-SUPPLYING MEMBER AND HEATING APPARATUS USING THE SAME (一)
公开(公告)号：TWI309141B
公开(公告)日：2009-04-21
申请号：TW095113756
申请日：2006-04-18
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：後藤義信 YOSHINOBU GOTO , 鶴田英芳 HIDEYOSHI TSURUTA
IPC分类号： H05B
CPC分类号： H01L21/67103 , H05B3/143
摘要： [課題] 提供可提高裝置信賴性的供電元件及利用此元件的加熱裝置。
[解決手段] 供電元件100係包括:第一棒狀元件101,與供電對象連接;第二棒狀元件103,與電源連接;以及熱膨脹吸收元件102,設置在第一棒狀元件101和第二棒狀元件103之間,對應於根據第一棒狀元件101和第二棒狀元件103的熱膨脹的縱長方向的變形,在縱長方向收縮。
简体摘要： [课题] 提供可提高设备信赖性的供电组件及利用此组件的加热设备。 [解决手段] 供电组件100系包括:第一棒状组件101,与供电对象连接;第二棒状组件103,与电源连接;以及热膨胀吸收组件102,设置在第一棒状组件101和第二棒状组件103之间,对应于根据第一棒状组件101和第二棒状组件103的热膨胀的纵长方向的变形,在纵长方向收缩。

4. 发明专利

TW200902475A 氧化釔材料、半導體製造裝置用構件及氧化釔材料之製造方法 YTTRIUM OXIDE-CONTAINING MATERIAL, COMPONENT OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT, AND METHOD OF PRODUCING YTTRIUM OXIDE-CONTAINING MATERIAL 审中-公开
简体标题：氧化钇材料、半导体制造设备用构件及氧化钇材料之制造方法 YTTRIUM OXIDE-CONTAINING MATERIAL, COMPONENT OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT, AND METHOD OF PRODUCING YTTRIUM OXIDE-CONTAINING MATERIAL
公开(公告)号：TW200902475A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097107855
申请日：2008-03-06
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD. , 國立大學法人長岡技術科學大學 NAGAOKA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
发明人：小林義政 YOSHIMASA KOBAYASHI , 勝田祐司 YUJI KATSUDA , 阪井博明 HIROAKI SAKAI , 新原皓一 KOICHI NIIHARA , 中山忠親 TADACHIKA NAKAYAMA
IPC分类号： C04B , H01L
摘要：提供一種機械特性優良的氧化釔材料。本發明者們發現藉由在氧化釔中添加碳化矽以及氟化釔而能夠使氧化釔材料强韌化,在應用於半導體製造裝置構件時的良率、操作性以及可靠性能夠提昇。
简体摘要：提供一种机械特性优良的氧化钇材料。本发明者们发现借由在氧化钇中添加碳化硅以及氟化钇而能够使氧化钇材料强韧化,在应用于半导体制造设备构件时的良率、操作性以及可靠性能够提升。

5. 发明专利

TWI297908B 處理裝置 PROCESSING DEVICE 有权
简体标题：处理设备 PROCESSING DEVICE
公开(公告)号：TWI297908B
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：TW095108551
申请日：2006-03-14
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：富田泰光 YASUMITSU TOMITA , 海野豊 YUTAKA UNNO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67103 , H01L21/68792 , H05B3/143
摘要：提供可安定地供給氣體之處理裝置。
處理裝置1包括保持處理對象物2之基體11。在基體11形成將氣體A供給基體11之外周部的截面為圓形之供氣路11a。
简体摘要：提供可安定地供给气体之处理设备。处理设备1包括保持处理对象物2之基体11。在基体11形成将气体A供给基体11之外周部的截面为圆形之供气路11a。

6. 发明专利

TW200818383A 靜電固持加熱器 ELECTROSTATIC CHUCK HEATER 审中-公开
简体标题：静电固持加热器 ELECTROSTATIC CHUCK HEATER
公开(公告)号：TW200818383A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW096125178
申请日：2007-07-11
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：森豊 YUTAKA MORI , 服部亮譽 AKIYOSHI HATTORI , 鳥越猛 TAKERU TORIGOE
IPC分类号： H01L
摘要：提供一種靜電固持加熱器,於高溫時在基板載置面所載置的基板的脫著應答性優良。本發明的靜電固持加熱器是藉由:在氧化鋁燒結體41的上面以及下面塗佈含黏結劑的導電膠43、45,以個別印刷靜電電極以及加熱電極,其後對此氧化鋁燒結體施加燒,於在靜電電極上配置氧化鋁粉體49、在加熱電極上配置氧化鋁粉體47情況下,將此些的氧化鋁粉體47、49與氧化鋁燒結體41加壓成形並加壓燒成以形成基體。介電層中的靜電電極附近的導電物質的擴散面積率設定為0.25%以下。
简体摘要：提供一种静电固持加热器,于高温时在基板载置面所载置的基板的脱着应答性优良。本发明的静电固持加热器是借由:在氧化铝烧结体41的上面以及下面涂布含黏结剂的导电胶43、45,以个别印刷静电电极以及加热电极,其后对此氧化铝烧结体施加烧,于在静电电极上配置氧化铝粉体49、在加热电极上配置氧化铝粉体47情况下,将此些的氧化铝粉体47、49与氧化铝烧结体41加压成形并加压烧成以形成基体。介电层中的静电电极附近的导电物质的扩散面积率设置为0.25%以下。

7. 发明专利

TW200816364A 具有加熱器之靜電夾持器以及具有加熱器之靜電夾持器的製造方法 ELECTROSTATIC CHUCK WITH HEATER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：具有加热器之静电夹持器以及具有加热器之静电夹持器的制造方法 ELECTROSTATIC CHUCK WITH HEATER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200816364A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096129955
申请日：2007-08-14
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：森岡育久 , 昇和宏 , 川尻哲也 , 服部亮
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6831 , Y10T279/23
摘要： [課題]提供一種吸附特性和均熱性及耐絕緣破壞特性良好之具有加熱器之靜電夾持器。[解決手段]包括由包含氧化鋁之燒結體所構成之基體2、設置在基體2中之上部側之ESC電極3以及埋設於基體中之下部側之電阻發熱體4的具有加熱器之靜電夾持器1之基體2係由ESC電極3開始至基體2之上面2a為止之介電質層21和由ESC電極3開始至基體2之下面2b為止之支持構件22所構成。支持構件22係在接合於介電質層21之ESC電極附近區域22a和比起該ESC電極附近區域22a還更加下方之下方區域22b,碳含有量呈不同,介電質層21中之碳含有量係100wt��ppm以下,ESC電極附近區域22a之碳含有量係0.13wt%以下,下方區域22b之碳含有量係0.03wt%以上,並且,該ESC電極附近區域之碳含有量係小於下方區域之碳含有量。電阻發熱體4係包含鈮或白金。
简体摘要： [课题]提供一种吸附特性和均热性及耐绝缘破坏特性良好之具有加热器之静电夹持器。[解决手段]包括由包含氧化铝之烧结体所构成之基体2、设置在基体2中之上部侧之ESC电极3以及埋设于基体中之下部侧之电阻发热体4的具有加热器之静电夹持器1之基体2系由ESC电极3开始至基体2之上面2a为止之介电质层21和由ESC电极3开始至基体2之下面2b为止之支持构件22所构成。支持构件22系在接合于介电质层21之ESC电极附近区域22a和比起该ESC电极附近区域22a还更加下方之下方区域22b,碳含有量呈不同,介电质层21中之碳含有量系100wt��ppm以下,ESC电极附近区域22a之碳含有量系0.13wt%以下,下方区域22b之碳含有量系0.03wt%以上,并且,该ESC电极附近区域之碳含有量系小于下方区域之碳含有量。电阻发热体4系包含铌或白金。

8. 发明专利

TW200811989A 具加熱器之靜電固持頭 ELECTROSTATIC CHUCK WITH HEATER 审中-公开
简体标题：具加热器之静电固持头 ELECTROSTATIC CHUCK WITH HEATER
公开(公告)号：TW200811989A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096125194
申请日：2007-07-11
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：昇和宏 KAZUHIRO NOBORI , 川尻哲也 TETSUYA KAWAJIRI , 服部亮 AKIYOSHI HATTORI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6831 , H01L21/68757
摘要：一種具加熱器之靜電固持頭,其包括有由含有氧化鋁的燒結體組成的基體、設置於該基體中的上部側的電極以及埋設於該基體中的下部側的電阻發熱體。前述基體由從電極至基體上面的介電層與從電極至基體下面的支撐構件構成,前述介電層中的碳含量為100ppm以下,且前述支撐構件的碳含量為0.03-0.25重量百分比(wt%),前述電阻發熱體形成線圈狀,且主成分為鈮。
简体摘要：一种具加热器之静电固持头,其包括有由含有氧化铝的烧结体组成的基体、设置于该基体中的上部侧的电极以及埋设于该基体中的下部侧的电阻发热体。前述基体由从电极至基体上面的介电层与从电极至基体下面的支撑构件构成,前述介电层中的碳含量为100ppm以下,且前述支撑构件的碳含量为0.03-0.25重量百分比(wt%),前述电阻发热体形成线圈状,且主成分为铌。

9. 发明专利

TW200735254A 靜電夾頭及其製造方法 ELECTROSTATIC CHUCK AND PRODUCING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：静电夹头及其制造方法 ELECTROSTATIC CHUCK AND PRODUCING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200735254A
公开(公告)日：2007-09-16
申请号：TW095111781
申请日：2006-04-03
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：今井康喜 YASUYOSHI IMAI , 太田充 MITSURU OHTA , 鳥越猛 TAKERU TORIGOE
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6833 , H02N13/00
摘要：【課題】謀求:在利用强生-拉貝克力(Johnson-Rahbek)之靜電夾頭之過剩漏電流的發生之抑制、吸著特性之長期維持、以及基板之脫著應答性之提高。【解決手段】靜電夾頭10係利用强生-拉貝克力(Johnson-Rahbek)之靜電夾頭,具備:包含陶瓷層13a與形成於陶瓷層13a上之樹脂層13b之介電體層13、使靜電吸著力發生之電極12a、12b。
简体摘要：【课题】谋求:在利用强生-拉贝克力(Johnson-Rahbek)之静电夹头之过剩漏电流的发生之抑制、吸着特性之长期维持、以及基板之脱着应答性之提高。【解决手段】静电夹头10系利用强生-拉贝克力(Johnson-Rahbek)之静电夹头,具备:包含陶瓷层13a与形成于陶瓷层13a上之树脂层13b之介电体层13、使静电吸着力发生之电极12a、12b。

10. 发明专利

TW200721364A 加熱裝置 HEATING DEVICE 审中-公开
简体标题：加热设备 HEATING DEVICE
公开(公告)号：TW200721364A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW095129161
申请日：2006-08-09
申请人：日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人：岡島久和 HISAKAZU OKAJIMA , 後藤義信 YOSHINOBU GOTO
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： H01L21/67103 , H01L21/67109
摘要： [課題]本發明提供一種可使從每個氣體通路的噴出口噴出的氣體噴出量均勻且可減少反應膜堆積的加熱裝置。[解決手段]一種加熱裝置100,其包括具有形成氣體噴出口12h的基板加熱面10a和供給氣體的供給口18、埋設有電阻發熱體11且由含有陶瓷的材料所構成的基體10、從氣體供給口18連通至氣體噴出口12h且在基體10內形成的氣體通路12及使氣體通路12的剖面積具有可變性的調整部。
简体摘要： [课题]本发明提供一种可使从每个气体通路的喷出口喷出的气体喷出量均匀且可减少反应膜堆积的加热设备。[解决手段]一种加热设备100,其包括具有形成气体喷出口12h的基板加热面10a和供给气体的供给口18、埋设有电阻发热体11且由含有陶瓷的材料所构成的基体10、从气体供给口18连通至气体喷出口12h且在基体10内形成的气体通路12及使气体通路12的剖面积具有可变性的调整部。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式