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1. 发明专利

TW572963B 氫化苯乙烯系嵌段共聚物組成物及使用其之光碟基板有权
简体标题：氢化苯乙烯系嵌段共聚物组成物及使用其之光盘基板
公开(公告)号：TW572963B
公开(公告)日：2004-01-21
申请号：TW090122138
申请日：2001-09-06
申请人：帝人股份有限公司 TEIJIN LIMITED , 拜耳股份有限公司 BAYER AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：新田英昭 , 佐佐木毅 , 松村俊一 , 城戶伸明
IPC分类号： C08L , G11B
CPC分类号： C08L53/025 , G11B7/2533 , C08L2666/24
摘要：本發明係關於一種氫化苯乙烯系嵌段共聚物，其為藉由以一定之重量比混合(a)由苯乙烯成分及共軛二烯成分所成之低分子量氫化苯乙烯系嵌段共聚物、及(b)高分子量之氫化苯乙烯系嵌段共聚物所得者，並關於使用其之光碟基板。根據本發明，可提供一種聚合物組成物，其具有熔融流動性高、具韌性、且彈性模數之降低值小、碟片成形後之翹曲量少等特性。
简体摘要：本发明系关于一种氢化苯乙烯系嵌段共聚物，其为借由以一定之重量比混合(a)由苯乙烯成分及共轭二烯成分所成之低分子量氢化苯乙烯系嵌段共聚物、及(b)高分子量之氢化苯乙烯系嵌段共聚物所得者，并关于使用其之光盘基板。根据本发明，可提供一种聚合物组成物，其具有熔融流动性高、具韧性、且弹性模数之降低值小、盘片成形后之翘曲量少等特性。

2. 发明专利

TW575589B 經氫化之不飽和含環狀烴聚合物的製造方法失效
简体标题：经氢化之不饱和含环状烃聚合物的制造方法
公开(公告)号：TW575589B
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：TW090104764
申请日：2001-03-01
申请人：帝人股份有限公司 TEIJIN LIMITED , 拜耳股份有限公司 BAYER AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：芳賀宏典 , 竹內正基 , 村岡剛 , 岩田薰
IPC分类号： C08F
CPC分类号： G01C21/26 , C08F8/04 , C08G61/06 , C08G61/08 , C08F232/00
摘要：本發明係提供一種降低含不均勻觸媒合率之不飽和含環狀烴聚合物之氫化物製造方法。
使不飽和含環狀烴聚合物於不均勻觸媒存在下，不活性溶媒中藉由氫加壓後附與氫化反應後，使含有所取得之氫化聚合物懸浮液於反應系統中所添加之氫壓力下壓送入液體旋風分離器後，於該液體旋風分離器內分離回收不均勻觸媒，同時製造降低不均勻觸媒含有率之氫化聚合物。
简体摘要：本发明系提供一种降低含不均匀触媒合率之不饱和含环状烃聚合物之氢化物制造方法。使不饱和含环状烃聚合物于不均匀触媒存在下，不活性溶媒中借由氢加压后附与氢化反应后，使含有所取得之氢化聚合物悬浮液于反应系统中所添加之氢压力下压送入液体旋风分离器后，于该液体旋风分离器内分离回收不均匀触媒，同时制造降低不均匀触媒含有率之氢化聚合物。

3. 发明专利

TWI230035B 經取代之三唑酮類及其作為除草劑、殺昆蟲劑與殺劑之用途失效
简体标题：经取代之三唑酮类及其作为除草剂、杀昆虫剂与杀剂之用途
公开(公告)号：TWI230035B
公开(公告)日：2005-04-01
申请号：TW082108655
申请日：1993-10-19
申请人：拜耳股份有限公司 BAYER AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：哈偉漢 WILHELM HAAS , 費庫特 KURT FINDEISEN , 李卡茲 KARL-HEINZ LINKER , 史歐頓 OTTO SCHALLNER , 寇科斯 KLAUS KONIG , 馬伯特 ALBERECHT MARHOLD , 史漢喬 HANS-JOACHIM SANTEL , 杜邁斯 MARKUS DOLLINGER , 魏瑞克 ULRIKE WACHENDORFF-NEUMANN
IPC分类号： A01N , C07D
CPC分类号： C07D401/12 , A01N43/653 , C07C255/50 , C07D249/12 , C07D403/12 , C07D405/12 , C07F7/0812 , C07F9/65181
摘要：本發明涉及新穎之式(I)經取代的三唑酮及它們的多種製備方法和作為除草劑、殺昆蟲劑和殺劑的用途，
(I)其中 R1代表含1至2個碳原子和1至5個相同或不同鹵素原子
(特別是氟或氯)的鹵代烷基； R2代表氫、胺基、含1至4個碳原子的直鏈或支鏈烷基
、烯丙基、含1至2個碳原子和1至5個鹵素原子(特
別是氟或氯)的鹵代烷基、各自於烷基部分含1至2
個碳原子的烷氧基烷基、2-亞丙基亞胺基、環丙基
或環丙基甲基，其各自被相同或不同的鹵素原子(
特別是氟或氯)任意單或二取代； R3代表氫、氟或氯； R4代表氰基或硝基； R5代表氰基、氟或氯或下述基團：R6、-O-R6、
-S-R6、-SO2-O-R6、-O-SO2-R6、-NR6R7、-SO2-
NR6R7或下式的基團： X代表氧或硫；其中 R6和R7各自獨立地代表氫或含1至6個碳原子且任意經
單取代或二取代的直鏈或支鏈烷基，適宜的取代基
如下：氰基、各自於烷基部分含1至4個碳原子的直
鏈或支鏈烷氧基、烷氧基烷氧基、烷硫基、二烷基
胺基、烷氧基羰基、烷氧基羰基烷基或三烷基甲矽
烷基或含1至2個相同或不同雜原子(特別是氮和／
或氧且任意經甲基、乙基、氯或酮基取代之4元至6
元的飽和或不飽和的雜環基； R6和R7還代表含有1至3個碳原子和1至7個相同或不同
的鹵素原子(特別是氟或氯)並進一步被氰基、羧基
、胺基甲醯基、C1-2烷氧基胺基甲醯基、C3-6環烷基
胺基羰基、C1-4烷基胺基羰基、C1-2二烷基胺基羰基
、C3-4烯基胺基羰基、C3-5炔基胺基羰基或C1-2烷基
磺醯基胺基羰基任意取代的直鏈或支鏈鹵代烷基； R6和R7還代表各自含2至5個碳原子且被相同或不同的
鹵素取代基(特別是氟或氯)任意單取代至三取代的
烯基或炔基； R6和R7還代表含3至6個碳原子且被甲基任意取代的環
烷基； R6和R7還代表C3-6-環烷基-C1-C2-烷基；或者 R6和R7還代表苯基烷基或苯基(烷基部分含1至2個碳原
子而苯基部分各自被適當的氟、C1-2烷基或C1-2烷氧
基任意取代)。
简体摘要：本发明涉及新颖之式(I)经取代的三唑酮及它们的多种制备方法和作为除草剂、杀昆虫剂和杀剂的用途， (I)其中 R1代表含1至2个碳原子和1至5个相同或不同卤素原子 (特别是氟或氯)的卤代烷基； R2代表氢、胺基、含1至4个碳原子的直链或支链烷基、烯丙基、含1至2个碳原子和1至5个卤素原子(特别是氟或氯)的卤代烷基、各自于烷基部分含1至2 个碳原子的烷氧基烷基、2-亚丙基亚胺基、环丙基或环丙基甲基，其各自被相同或不同的卤素原子( 特别是氟或氯)任意单或二取代； R3代表氢、氟或氯； R4代表氰基或硝基； R5代表氰基、氟或氯或下述基团：R6、-O-R6、 -S-R6、-SO2-O-R6、-O-SO2-R6、-NR6R7、-SO2- NR6R7或下式的基团： X代表氧或硫；其中 R6和R7各自独立地代表氢或含1至6个碳原子且任意经单取代或二取代的直链或支链烷基，适宜的取代基如下：氰基、各自于烷基部分含1至4个碳原子的直链或支链烷氧基、烷氧基烷氧基、烷硫基、二烷基胺基、烷氧基羰基、烷氧基羰基烷基或三烷基甲硅烷基或含1至2个相同或不同杂原子(特别是氮和／或氧且任意经甲基、乙基、氯或酮基取代之4元至6 元的饱和或不饱和的杂环基； R6和R7还代表含有1至3个碳原子和1至7个相同或不同的卤素原子(特别是氟或氯)并进一步被氰基、羧基、胺基甲酰基、C1-2烷氧基胺基甲酰基、C3-6环烷基胺基羰基、C1-4烷基胺基羰基、C1-2二烷基胺基羰基、C3-4烯基胺基羰基、C3-5炔基胺基羰基或C1-2烷基磺酰基胺基羰基任意取代的直链或支链卤代烷基； R6和R7还代表各自含2至5个碳原子且被相同或不同的卤素取代基(特别是氟或氯)任意单取代至三取代的烯基或炔基； R6和R7还代表含3至6个碳原子且被甲基任意取代的环烷基； R6和R7还代表C3-6-环烷基-C1-C2-烷基；或者 R6和R7还代表苯基烷基或苯基(烷基部分含1至2个碳原子而苯基部分各自被适当的氟、C1-2烷基或C1-2烷氧基任意取代)。

4. 发明专利

TW571307B 光記錄媒體及其基板失效
简体标题：光记录媒体及其基板
公开(公告)号：TW571307B
公开(公告)日：2004-01-11
申请号：TW090109933
申请日：2001-04-25
申请人：帝人股份有限公司 TEIJIN LIMITED , 拜耳股份有限公司 BAYER AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：城戶伸明 , 松村俊一 , 新田英昭 , 橋爪清成 , 竹內正基 , 河野一輝 , 鈴木和富 , 富江崇 , 岩田薰
IPC分类号： G11B , C08F
CPC分类号： C08F8/04 , G11B7/24 , G11B7/2433 , G11B7/2533 , G11B7/2536 , G11B7/2578 , G11B7/2585 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , C08F12/08
摘要：利用由光之照射而生成的記錄層之物理特性之變化，進行資訊之記錄，還原的光記錄媒體。該基板係由經予核加氫的苯乙烯聚合單位含有率在80重量%以上的氫化聚苯乙烯聚合物而成，具有110℃以上的玻璃轉移溫度，在400nm之透光率為88%以上，且由基板面之法線方向傾斜0°及30°之遲延絕對值在30nm以下。此光記錄媒體係適於可對應光頭之高開口數化短波長化的高密度光記錄媒體。
简体摘要：利用由光之照射而生成的记录层之物理特性之变化，进行信息之记录，还原的光记录媒体。该基板系由经予核加氢的苯乙烯聚合单位含有率在80重量%以上的氢化聚苯乙烯聚合物而成，具有110℃以上的玻璃转移温度，在400nm之透光率为88%以上，且由基板面之法线方向倾斜0°及30°之迟延绝对值在30nm以下。此光记录媒体系适于可对应光头之高开口数化短波长化的高密度光记录媒体。

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