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1. 发明专利

TWI448329B 由３Ｃ廢液製備負載型奈米金屬觸媒之方法有权
简体标题：由３Ｃ废液制备负载型奈米金属触媒之方法
公开(公告)号：TWI448329B
公开(公告)日：2014-08-11
申请号：TW100121123
申请日：2011-06-16
申请人：佳龍科技工程股份有限公司 , SUPER DRAGON TECHNOLOGY CO., LTD. , 吳耀勳 , WU, YAU SHIUN , 吳界欣 , WU, JIE SHIN
发明人：楊重光 , YANG, CHUNG KUANG , 蘇昭瑾 , SU, CHAO CHIN , 邱德威 , CHIU, TE WEI , 吳界欣 , WU, JIE SHIN , 吳耀勳 , WU, YAU SHIUN , 沈芳如 , SHEN, FANG RU
IPC分类号： B01J37/16 , B01J37/34 , C22B7/00
CPC分类号： Y02P10/212

2. 发明专利

TW201223884A 去除廢液中重金屬之方法 METHOD OF REMOVING HEAVY METALS FROM WASTEWATER 审中-公开
简体标题：去除废液中重金属之方法 METHOD OF REMOVING HEAVY METALS FROM WASTEWATER
公开(公告)号：TW201223884A
公开(公告)日：2012-06-16
申请号：TW099143858
申请日：2010-12-14
申请人：佳龍科技工程股份有限公司 , 吳耀勳 , 吳界欣
发明人：楊重光 , 蘇昭瑾 , 邱德威 , 吳界欣 , 吳耀勳 , 沈芳如
IPC分类号： C02F
摘要：本發明提供一種去除廢液中重金屬的方法，利用光觸媒材料光還原方式，使廢液中的金屬離子還原成重金屬，之後將重金屬沉澱或過濾去除，讓廢液達到可排放標準。
简体摘要：本发明提供一种去除废液中重金属的方法，利用光触媒材料光还原方式，使废液中的金属离子还原成重金属，之后将重金属沉淀或过滤去除，让废液达到可排放标准。

3. 发明专利

TW201300168A 由３Ｃ廢液製備負載型奈米金屬觸媒之方法审中-公开
简体标题：由３Ｃ废液制备负载型奈米金属触媒之方法
公开(公告)号：TW201300168A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW100121123
申请日：2011-06-16
申请人：佳龍科技工程股份有限公司 , SUPER DRAGON TECHNOLOGY CO., LTD. , 吳耀勳 , WU, YAU SHIUN , 吳界欣 , WU, JIE SHIN
发明人：楊重光 , YANG, CHUNG KUANG , 蘇昭瑾 , SU, CHAO CHIN , 邱德威 , CHIU, TE WEI , 吳界欣 , WU, JIE SHIN , 吳耀勳 , WU, YAU SHIUN , 沈芳如 , SHEN, FANG RU
IPC分类号： B01J37/16 , B01J37/34 , C22B7/00
CPC分类号： Y02P10/212
摘要：本發明揭示一種自3C(電腦、通訊、消費性電子)廢液中，製備負載含奈米金屬觸媒之方法，其係以光還原法製備，先將光觸媒材料置入3C廢液中，再施以光照，以製備附載在二氧化鈦光觸媒之多重奈米金屬觸媒。本發明之備製過程除還原3C廢液中之重金屬外，同時氧化廢液中之氰化物，使之轉化為次毒性物質。
简体摘要：本发明揭示一种自3C(电脑、通信、消费性电子)废液中，制备负载含奈米金属触媒之方法，其系以光还原法制备，先将光触媒材料置入3C废液中，再施以光照，以制备附载在二氧化钛光触媒之多重奈米金属触媒。本发明之备制过程除还原3C废液中之重金属外，同时氧化废液中之氰化物，使之转化为次毒性物质。

4. 发明专利

TWI441783B 去除廢液中重金屬之方法有权
简体标题：去除废液中重金属之方法
公开(公告)号：TWI441783B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW099143858
申请日：2010-12-14
申请人：佳龍科技工程股份有限公司 , SUPER DRAGON TECHNOLOGY CO., LTD. , 吳耀勳 , WU, YAU SHIUN , 吳界欣 , WU, JIE SHIN
发明人：楊重光 , YANG, CHUNG KUANG , 蘇昭瑾 , SU, CHAO CHIN , 邱德威 , CHIU, TE WEI , 吳界欣 , WU, JIE SHIN , 吳耀勳 , WU, YAU SHIUN , 沈芳如 , SHEN, FANG RU
IPC分类号： C02F1/70 , C02F1/66 , C02F1/62 , C02F1/30

5. 实用新型

TWM419770U 光觸媒淨水裝置有权
简体标题：光触媒净水设备
公开(公告)号：TWM419770U
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW099224760
申请日：2010-12-21
申请人：佳龍科技工程股份有限公司 , 吳耀勳 , 吳界欣
发明人：楊重光 , 蘇昭瑾 , 邱德威 , 吳界欣 , 吳耀勳 , 沈芳如
IPC分类号： C02F
摘要：一種以光觸媒氧化/還原液體中之重金屬與(或)毒化物之裝置，包含一套筒，設有反光膜層的套筒內設有一螺旋溜槽而形成一反應塔，其中螺旋溜槽底部或側面安裝燈源，上部分約一半以上之長度之螺旋溜槽，鑿有多個小孔以使含光觸媒之液體部分通過，打旋形成紊流以增加擾動及均勻性，且因漿料自小孔穿過後舒緩部分離心力，而使固液相不被分離。另螺旋溜槽下方之剩餘之長度未鑿小孔，且可拆缷以供保養用。此外，也使已反應之光觸媒與液體分離，光觸媒及液體自上方的入口導入螺旋溜槽後，由下方收集固相的部分，而液體中的液體則在自底部排出。
简体摘要：一种以光触媒氧化/还原液体中之重金属与(或)毒化物之设备，包含一套筒，设有反光膜层的套筒内设有一螺旋熘槽而形成一反应塔，其中螺旋熘槽底部或侧面安装灯源，上部分约一半以上之长度之螺旋熘槽，凿有多个小孔以使含光触媒之液体部分通过，打旋形成紊流以增加扰动及均匀性，且因浆料自小孔穿过后舒缓部分离心力，而使固液相不被分离。另螺旋熘槽下方之剩余之长度未凿小孔，且可拆缷以供保养用。此外，也使已反应之光触媒与液体分离，光触媒及液体自上方的入口导入螺旋熘槽后，由下方收集固相的部分，而液体中的液体则在自底部排出。

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