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1. 发明专利

TW202026321A 光敏樹脂組成物及包含其的顯示裝置审中-公开
简体标题：光敏树脂组成物及包含其的显示设备
公开(公告)号：TW202026321A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108135181
申请日：2019-09-27
申请人：南韓商三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. , 南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：沈承輔 , SHIM, SEUNG BO , 郭昌訓 , KWAK, CHANG HUN , 章惠媛 , JANG, HYE WON , 金炳旭 , KIM, BYUNG UK , 呂泰勳 , YEO, TAI HOON , 尹赫敏 , YOUN, HYOC-MIN , 李相勳 , LEE, SANG-HOON , 趙泰杓 , CHO, TAE PYO
IPC分类号： C08F220/26 , C08K5/42 , C08K5/5435 , G03F7/075 , H01L21/312 , G02F1/1333
摘要：一種光敏性樹脂組成物，其包含a)由共聚合i) 含羥基之不飽和化合物；ii) 不飽和羧酸、不飽和羧酸酐或其混合物；iii) 含環氧基之不飽和化合物；以及iv) 烯烴系不飽和化合物取得之丙烯酸系共聚物、b) 具有酚化合物的1,2-醌二疊氮5-磺酸酯化合物，該酚化合物包含由上述化學式A表示的化合物作為安定劑、c) 矽烷耦合劑以及d)溶劑。
简体摘要：一种光敏性树脂组成物，其包含a)由共聚合i) 含羟基之不饱和化合物；ii) 不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或其混合物；iii) 含环氧基之不饱和化合物；以及iv) 烯烃系不饱和化合物取得之丙烯酸系共聚物、b) 具有酚化合物的1,2-醌二叠氮5-磺酸酯化合物，该酚化合物包含由上述化学式A表示的化合物作为安定剂、c) 硅烷耦合剂以及d)溶剂。

2. 发明专利

TW202007754A 化學機械研磨組成物、化學機械研磨漿料及基板研磨方法审中-公开
简体标题：化学机械研磨组成物、化学机械研磨浆料及基板研磨方法
公开(公告)号：TW202007754A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW108125680
申请日：2019-07-19
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：朴惠貞 , PARK, HYEJUNG , 李敏鍵 , LEE, MINGUN , 朴鍾大 , PARK, JONGDAI , 金宰賢 , KIM, JAE-HYUN
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304
摘要：本發明提供一種化學機械研磨組成物、化學機械研磨漿料及基板研磨方法，即使減少金屬總含量，也可實現等同或更高於傳統研磨劑的研磨速度，或者當使用相同於傳統的金屬總含量時，可實現明顯高於傳統研磨劑的研磨速度。化學機械研磨組成物包含鐵系金屬觸媒和鎂系金屬觸媒，金屬觸媒的總含量中鐵系金屬觸媒的金屬含量等於或更多於鎂系金屬觸媒的金屬含量。
简体摘要：本发明提供一种化学机械研磨组成物、化学机械研磨浆料及基板研磨方法，即使减少金属总含量，也可实现等同或更高于传统研磨剂的研磨速度，或者当使用相同于传统的金属总含量时，可实现明显高于传统研磨剂的研磨速度。化学机械研磨组成物包含铁系金属触媒和镁系金属触媒，金属触媒的总含量中铁系金属触媒的金属含量等于或更多于镁系金属触媒的金属含量。

3. 发明专利

TW201903031A 用於形成具有高蝕刻速率的有機防反射膜的組合物审中-公开
简体标题：用于形成具有高蚀刻速率的有机防反射膜的组合物
公开(公告)号：TW201903031A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107119378
申请日：2018-06-05
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：盧孝貞 , ROH, HYO JUNG , 金知賢 , KIM, JI HYUN , 金昇振 , KIM, SEUNG JIN , 金炫辰 , KIM, HYUN JIN
IPC分类号： C08L33/14 , C08F220/26 , C08F220/18 , C08F212/14 , C08F212/08 , C08K5/3492 , G03F7/11 , H01L21/027
摘要：本發明揭露了具有防反射功能並有用於步驟的簡化且圖案輪廓優秀的具有高蝕刻速率的用於形成有機防反射膜的組合物及其形成方法。所述用於形成有機防反射膜的組合物包含：防反射高分子，包含由以下化學式1-1、化學式1-2及化學式1-3表示的重複單元；異氰脲酸酯化合物，包含一個以上的由以下化學式2表示的部分；以及有機溶劑，用於溶解所述成分，化學式1-1：、化學式1-2：、化學式1-3：、化學式2：。在化學式1-1至化學式1-3中，R1分別獨立地為氫或甲基，R2為氫、甲基或包含0～2個雜原子的碳數為1至5的烴基，R3為不包含發色團且包含0～2個雜原子的碳數為1至12的烴基，R4作為包含0～2個雜原子的碳數為6至20的鏈形或環形的飽和或不飽和烴基，為包含發色團的烴基。在化學式2中，R為氫或甲基，R’分別獨立地為包含0至6個的雜原子的碳數為1～15的鏈形或碳數為3～15的環形的飽和或不飽和烴基，R’’為包含0～8個的雜原子的碳數為1～15的鏈形或碳數為3～15的環形的飽和或不飽和烴基，R’’’分別獨立地為NH或O。R*分別獨立地為S或O，相鄰的官能團具有相同的元素。由化學式2表示的部分可藉由R’連接2個以上，x、y及z作為構成高分子的各個重複單元的莫耳百分比，X為30莫耳百分比至50莫耳百分比，y為10莫耳百分比至50莫耳百分比及z為10莫耳百分比至50莫耳百分比。
简体摘要：本发明揭露了具有防反射功能并有用于步骤的简化且图案轮廓优秀的具有高蚀刻速率的用于形成有机防反射膜的组合物及其形成方法。所述用于形成有机防反射膜的组合物包含：防反射高分子，包含由以下化学式1-1、化学式1-2及化学式1-3表示的重复单元；异氰脲酸酯化合物，包含一个以上的由以下化学式2表示的部分；以及有机溶剂，用于溶解所述成分，化学式1-1：、化学式1-2：、化学式1-3：、化学式2：。在化学式1-1至化学式1-3中，R1分别独立地为氢或甲基，R2为氢、甲基或包含0～2个杂原子的碳数为1至5的烃基，R3为不包含发色团且包含0～2个杂原子的碳数为1至12的烃基，R4作为包含0～2个杂原子的碳数为6至20的链形或环形的饱和或不饱和烃基，为包含发色团的烃基。在化学式2中，R为氢或甲基，R’分别独立地为包含0至6个的杂原子的碳数为1～15的链形或碳数为3～15的环形的饱和或不饱和烃基，R’’为包含0～8个的杂原子的碳数为1～15的链形或碳数为3～15的环形的饱和或不饱和烃基，R’’’分别独立地为NH或O。R*分别独立地为S或O，相邻的官能团具有相同的元素。由化学式2表示的部分可借由R’连接2个以上，x、y及z作为构成高分子的各个重复单元的莫耳百分比，X为30莫耳百分比至50莫耳百分比，y为10莫耳百分比至50莫耳百分比及z为10莫耳百分比至50莫耳百分比。

4. 发明专利

TW201833078A 正型感光性樹脂組合物、其顯示元件及其顯示元件的圖案形成方法审中-公开
简体标题：正型感光性树脂组合物、其显示组件及其显示组件的图案形成方法
公开(公告)号：TW201833078A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107108181
申请日：2018-03-09
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：李相勳 , LEE, SANG HOON , 尹赫敏 , YOUN, HYOC-MIN , 呂泰勳 , YEO, TAI HOON , 黃致容 , HWANG, CHI YONG
IPC分类号： C07C309/74 , C08F220/04 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F212/08 , G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/075 , G03F7/039 , G02F1/1333 , G02F1/1339 , H01L51/52
摘要：本發明涉及正型感光性樹脂組合物，更詳細地，涉及包含a）下述化學式1或化學式2的1,2-醌二疊氮化合物；b）丙烯酸類共聚物；c）矽烷偶聯劑；以及d）溶劑的正型感光性樹脂組合物：所述化學式1的R1、化學式2的R3分別獨立地為氫原子或1,2-醌二疊氮類磺酸酯，化學式1的R2、化學式2的R4分別獨立地表示氫原子或碳數為1至20的烴基，所述R1、R3中的至少一個為1,2-醌二疊氮類磺酸酯。
简体摘要：本发明涉及正型感光性树脂组合物，更详细地，涉及包含a）下述化学式1或化学式2的1,2-醌二叠氮化合物；b）丙烯酸类共聚物；c）硅烷偶联剂；以及d）溶剂的正型感光性树脂组合物：所述化学式1的R1、化学式2的R3分别独立地为氢原子或1,2-醌二叠氮类磺酸酯，化学式1的R2、化学式2的R4分别独立地表示氢原子或碳数为1至20的烃基，所述R1、R3中的至少一个为1,2-醌二叠氮类磺酸酯。

5. 发明专利

TW202026763A 正型感光性樹脂組合物审中-公开
简体标题：正型感光性树脂组合物
公开(公告)号：TW202026763A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108148663
申请日：2019-12-31
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：金東明 , KIM, DONGMYUNG , 尹赫敏 , YOUN, HYOCMIN , 呂泰勳 , YEO, TAIHOON , 申景順 , SHIN, KYOUNGSOON , 李基善 , LEE, GISEON , 黃現旻 , HWANG, HYUNMIN , 朴阿凜 , PARK, AHRUM
IPC分类号： G03F7/075 , H01L21/312
摘要：本發明的正型感光性樹脂組合物包含：矽氧烷類聚合物，聚合一種以上的反應性矽烷來獲取；烯烴類聚合物，包含重複單元，上述重複單元包含一種以上的羥基苯基或苯基；1,2-醌二疊氮化合物；以及溶劑。本發明的正型感光性樹脂組合物具有優秀的靈敏度、耐熱變色性等性能，尤其，具有優秀的耐熱性，因此，在將其用於顯示面板的情況下，防止裂紋並提高耐化學性，從而可確保優秀的面板可靠性。
简体摘要：本发明的正型感光性树脂组合物包含：硅氧烷类聚合物，聚合一种以上的反应性硅烷来获取；烯烃类聚合物，包含重复单元，上述重复单元包含一种以上的羟基苯基或苯基；1,2-醌二叠氮化合物；以及溶剂。本发明的正型感光性树脂组合物具有优秀的灵敏度、耐热变色性等性能，尤其，具有优秀的耐热性，因此，在将其用于显示皮肤的情况下，防止裂纹并提高耐化学性，从而可确保优秀的皮肤可靠性。

6. 发明专利

TWI681041B 液晶顯示器及其所用之液晶合成物有权
简体标题：液晶显示器及其所用之液晶合成物
公开(公告)号：TWI681041B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW105111721
申请日：2016-04-15
申请人：南韓商三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. , 南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：金施昕 , KIM, SI HEUN , 申範秀 , SHIN, BEOM SOO , 吳根燦 , OH, KEUN CHAN , 金奉熙 , KIM, BONG HEE , 徐永湖 , SEO, YOUNG HO
IPC分类号： C09K19/20 , C09K19/30 , C09K19/34 , G02F1/13

7. 发明专利

TW201839076A 用於化學機械研磨的漿料組成物审中-公开
简体标题：用于化学机械研磨的浆料组成物
公开(公告)号：TW201839076A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107107780
申请日：2018-03-07
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：朴惠貞 , PARK, HYEJUNG , 李敏鍵 , LEE, MINGUN , 朴昌墉 , PARK, CHANG YONG , 朴民成 , PARK, MIN-SUNG , 陳成勳 , JIN, SUNGHOON , 李玖和 , LEE, GOO-HWA , 朴鍾大 , PARK, JONGDAI , 金宰賢 , KIM, JAEHYUN
IPC分类号： C09G1/02 , H01L21/321 , H01L21/304
摘要：本發明有關於一種用於化學機械研磨的漿料組成物。更具體地，本發明有關於一種用於化學機械研磨的漿料組成物及利用它的半導體基板的研磨方法，使用具有磷酸鹽基的化合物作為研磨選擇比調節劑且選擇性地與上述研磨選擇比調節劑一起進一步使用三級胺化合物，與以往相比，可對氮化矽膜等絕緣膜或鎢等金屬膜單獨或同時進行研磨，尤其可調節它們的研磨速度，從而可使半導體元件的層與層之間段差最小化。
简体摘要：本发明有关于一种用于化学机械研磨的浆料组成物。更具体地，本发明有关于一种用于化学机械研磨的浆料组成物及利用它的半导体基板的研磨方法，使用具有磷酸盐基的化合物作为研磨选择比调节剂且选择性地与上述研磨选择比调节剂一起进一步使用三级胺化合物，与以往相比，可对氮化硅膜等绝缘膜或钨等金属膜单独或同时进行研磨，尤其可调节它们的研磨速度，从而可使半导体组件的层与层之间段差最小化。

8. 发明专利

TW201831726A 金屬線蝕刻液組合物审中-公开
简体标题：金属线蚀刻液组合物
公开(公告)号：TW201831726A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106143514
申请日：2017-12-12
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：具炳秀 , KU, BYOUNG SOO , 朴民奎 , PARK, MIN KYU
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/26 , C09K13/08
摘要：本發明揭露一種蝕刻金屬膜而形成構成半導體線路的薄膜電晶體的閘極及源/汲極區域的金屬線蝕刻液組合物。該金屬線蝕刻液組合物，包括：氧化劑、二元醇化合物、不包含氨基的唑類化合物及水。
简体摘要：本发明揭露一种蚀刻金属膜而形成构成半导体线路的薄膜晶体管的闸极及源/汲极区域的金属线蚀刻液组合物。该金属线蚀刻液组合物，包括：氧化剂、二元醇化合物、不包含氨基的唑类化合物及水。

9. 发明专利

TW201817707A 新穎化合物及包含其的有機發光裝置审中-公开
简体标题：新颖化合物及包含其的有机发光设备
公开(公告)号：TW201817707A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106136265
申请日：2017-10-20
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：咸昊完 , HAM, HO-WAN , 安賢哲 , AN, HYUN-CHEOL , 姜京敏 , KANG, KYONG-MIN , 裵惟珍 , BAE, YU-JIN , 金東駿 , KIM, DONG-JUN , 閔丙哲 , MIN, BYUNG-CHEOL , 金槿泰 , GIM, GEUN-TAE , 李螢振 , LEE, HYUNG-JIN , 林東煥 , LIM, DONG-WHAN , 林大喆 , LIM, DAE-CHUL , 權桐熱 , KWON, DONG-YUEL
IPC分类号： C07C211/61 , H05B33/14 , C09K11/06 , H01L51/50
摘要：本發明涉及新穎化合物及包含其的有機發光裝置。
简体摘要：本发明涉及新颖化合物及包含其的有机发光设备。

10. 发明专利

TW202018415A 正型感光性樹脂組成物审中-公开
简体标题：正型感光性树脂组成物
公开(公告)号：TW202018415A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108139529
申请日：2019-10-31
申请人：南韓商東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：李相勳 , LEE, SANG HOON , 尹赫敏 , YOUN, HYOC-MIN , 呂泰勳 , YEO, TAI HOON , 朴鐘赫 , PARK, JONGHYUK
IPC分类号： G03F7/008 , G03F7/039 , G03F7/075
摘要：本發明藉由包含具有特定結構的共聚物以及丙烯酸共聚物，不僅具有比以往更優異的分辨率、光刻製程裕度和耐熱性，而且敏感度和穿透性均優異，並且顯著提高了黏著力，從而提供適合於在LCD和OLED的製程中形成層間絕緣膜、PDL、柱狀間隔物等的正型感光性樹脂組成物。
简体摘要：本发明借由包含具有特定结构的共聚物以及丙烯酸共聚物，不仅具有比以往更优异的分辨率、光刻制程裕度和耐热性，而且敏感度和穿透性均优异，并且显着提高了黏着力，从而提供适合于在LCD和OLED的制程中形成层间绝缘膜、PDL、柱状间隔物等的正型感光性树脂组成物。

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