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1. 发明专利

TW201540815A 沉積聚合物溶液形成光學元件审中-公开
简体标题：沉积聚合物溶液形成光学组件
公开(公告)号：TW201540815A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103114815
申请日：2014-04-24
申请人：光聚合物控股公司 , LIGHT POLYMERS HOLDING
发明人：卡西安歐瓦伊瑞納 , KASYANOVA, IRINA , 派瑞特瑪莉 , PARENT, MARY , 波利亞柯維艾堅尼 , POLIAKOV, EVGENI , 庫茲明凡勒立 , KUZMIN, VALERY
IPC分类号： C09K19/04 , C09K19/38
摘要：提供將聚合物溶液沉積到基底上形成各種光學元件之方法。聚合物溶液可包含大約為0.1wt%-0wt%具有剛性棒狀分子之特定聚合物。上述分子可包含各種Core、連接基和側基以確保其溶解度、粘度和交聯能力。上述沉積技術可包括狹縫模、噴霧、模塑、輥塗等等。預沉積技術可用於提高基底之潤濕性和粘附性。後沉積技術可包括紫外線交聯、特定乾燥技術、蒸發溶劑、用鹽溶液處理和成型。上述公開的聚合物和沉積加工可獲得具有高折射率數值、例如大於1.6之光學元件。這些光學元件可被用作+A板、-C板或雙軸聚合物和在LCD有源板中用作相位差板或用作光准直器和光波導。
简体摘要：提供将聚合物溶液沉积到基底上形成各种光学组件之方法。聚合物溶液可包含大约为0.1wt%-0wt%具有刚性棒状分子之特定聚合物。上述分子可包含各种Core、连接基和侧基以确保其溶解度、粘度和交联能力。上述沉积技术可包括狭缝模、喷雾、模塑、辊涂等等。预沉积技术可用于提高基底之润湿性和粘附性。后沉积技术可包括紫外线交联、特定干燥技术、蒸发溶剂、用盐溶液处理和成型。上述公开的聚合物和沉积加工可获得具有高折射率数值、例如大于1.6之光学组件。这些光学组件可被用作+A板、-C板或双轴聚合物和在LCD有源板中用作相位差板或用作光准直器和光波导。

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