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    • 81. 发明专利
    • 階層式晶片上記憶體 HIERARCHICAL ON-CHIP MEMORY
    • 阶层式芯片上内存 HIERARCHICAL ON-CHIP MEMORY
    • TW201113986A
    • 2011-04-16
    • TW099116818
    • 2010-05-26
    • 惠普研發公司
    • 瑞比洛 吉爾伯托M威廉斯 R 史丹利皮奇特 馬修D
    • H01LG11C
    • G11C5/02G11C5/063G11C2213/71
    • 一階層式晶片上記憶體包括包含輸入/輸出功能及依電性記憶體的一區域分佈CMOS層及導孔陣列,該區域分佈CMOS層經配置成選擇性地為該導孔陣列定址。一交叉記憶體覆蓋在該區域分佈CMOS層上且包括透過該導孔陣列被唯一存取的可程式交叉點元件。一種利用階層式晶片上記憶體的方法包括將經常被重寫的資料儲存在一依電性記憶體中及將不常被重寫的資料儲存在一非依電性記憶體中,其中該依電性記憶體包含在一區域分佈CMOS層內且該非依電性記憶體被形成於該區域分佈CMOS層上並經由其被存取。
    • 一阶层式芯片上内存包括包含输入/输出功能及依电性内存的一区域分布CMOS层及导孔数组,该区域分布CMOS层经配置成选择性地为该导孔数组寻址。一交叉内存覆盖在该区域分布CMOS层上且包括透过该导孔数组被唯一存取的可进程交叉点组件。一种利用阶层式芯片上内存的方法包括将经常被重写的数据存储在一依电性内存中及将不常被重写的数据存储在一非依电性内存中,其中该依电性内存包含在一区域分布CMOS层内且该非依电性内存被形成于该区域分布CMOS层上并经由其被存取。
    • 83. 发明专利
    • 測試存取控制裝置及方法 TEST ACCESS CONTROL APPARATUS AND METHOD
    • 测试存取控制设备及方法 TEST ACCESS CONTROL APPARATUS AND METHOD
    • TW201101316A
    • 2011-01-01
    • TW098134717
    • 2009-10-14
    • 國立清華大學
    • 吳誠文駱致彥邢育肇
    • G11C
    • G01R31/318558G01R31/318513G11C5/02G11C29/32G11C2029/3202
    • 一種測試存取控制裝置包含:測試存取機制(TAM)滙流排及一延伸其原有功能之IEEE 1149.1測試存取埠(TAP)控制器。TAM滙流排支援:記憶體內建自我測試電路(memory BIST circuit)其係用在記憶體良裸晶粒(Known-Good-Die,KGD)測試、掃描鏈(scan chain)其係用在邏輯電路KGD測試、及直通矽穿孔(TSV)鏈其係用在TSV測試。TSV測試係確認堆疊晶片元件(stacked chip device)之任意二晶片層間之垂直內連線(vertical interconnect)有無缺陷。TAP控制器耦接於TAM滙流排,係用於控制記憶體KGD測試、邏輯電路KGD測試及二晶片層間之TSV測試。本發明亦提供一種具成本效益之第三維方向堆疊式積體電路(3D-IC)測試存取控制裝置之連接或配置方法。本發明之測試存取控制方法包含一考量3D-IC良率之測試方法,及支援單晶片系統(SOC)之異質測試協定並其相關測試存取控制裝置之整合流程。
    • 一种测试存取控制设备包含:测试存取机制(TAM)汇流排及一延伸其原有功能之IEEE 1149.1测试存取端口(TAP)控制器。TAM汇流排支持:内存内置自我测试电路(memory BIST circuit)其系用在内存良裸晶粒(Known-Good-Die,KGD)测试、扫描链(scan chain)其系用在逻辑电路KGD测试、及直通硅穿孔(TSV)链其系用在TSV测试。TSV测试系确认堆栈芯片组件(stacked chip device)之任意二芯片层间之垂直内连接(vertical interconnect)有无缺陷。TAP控制器耦接于TAM汇流排,系用于控制内存KGD测试、逻辑电路KGD测试及二芯片层间之TSV测试。本发明亦提供一种具成本效益之第三维方向堆栈式集成电路(3D-IC)测试存取控制设备之连接或配置方法。本发明之测试存取控制方法包含一考量3D-IC良率之测试方法,及支持单芯片系统(SOC)之异质测试协定并其相关测试存取控制设备之集成流程。
    • 85. 发明专利
    • 非揮發性半導體儲存裝置 NON-VOLATILE SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE
    • 非挥发性半导体存储设备 NON-VOLATILE SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE
    • TW201023350A
    • 2010-06-16
    • TW098133292
    • 2009-09-30
    • 東芝股份有限公司
    • 前田高志岩田佳久
    • H01L
    • G11C16/0483G11C5/02G11C7/18G11C16/10G11C16/14H01L27/11565H01L27/11578H01L27/11582
    • 記憶體串包括:一第一半導體層,其包括一在一垂直於一基板之方向上延伸之圓柱形部分;一第一電荷儲存層,其經形成以包圍該圓柱形部分之一側表面;及一第一導電層,其經形成以包圍該第一電荷儲存層。第一選擇電晶體包括:一第二半導體層,其自該圓柱形部分之一頂部表面向上延伸;一第二電荷儲存層,其經形成以包圍該第二半導體層之一側表面;及一第二導電層,其經形成以包圍該第二電荷儲存層。非揮發性半導體儲存裝置進一步包括一控制電路,該控制電路在自該等記憶體串中的一選定者讀取資料之前使電荷積聚於經連接至該等記憶體串之一未選定者的該等第一選擇電晶體中之一者的該第二電荷儲存層中。
    • 内存串包括:一第一半导体层,其包括一在一垂直于一基板之方向上延伸之圆柱形部分;一第一电荷存储层,其经形成以包围该圆柱形部分之一侧表面;及一第一导电层,其经形成以包围该第一电荷存储层。第一选择晶体管包括:一第二半导体层,其自该圆柱形部分之一顶部表面向上延伸;一第二电荷存储层,其经形成以包围该第二半导体层之一侧表面;及一第二导电层,其经形成以包围该第二电荷存储层。非挥发性半导体存储设备进一步包括一控制电路,该控制电路在自该等内存串中的一选定者读取数据之前使电荷积聚于经连接至该等内存串之一未选定者的该等第一选择晶体管中之一者的该第二电荷存储层中。