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81. 发明专利

TW200745696A 液晶配向劑及液晶顯示元件 LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT 审中-公开
简体标题：液晶配向剂及液晶显示组件 LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
公开(公告)号：TW200745696A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096105907
申请日：2007-02-16
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：宮本佳和 MIYAMOTO, YOSHIKAZU , 松本貴博 MATSUMOTO, TAKAHIRO , 植阪裕介 UESAKA, YUUSUKE , 林英治 HAYASHI, EIJI , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI
IPC分类号： G02F
摘要：本發明係提供一種液晶配向劑以及具有由其所形成之液晶配向膜的液晶顯示元件,該液晶配向劑具有表現預傾角的成分,能夠賦予所期望的1~90�預傾角、且不會發生因液晶注入所導致的不良。本發明係根據以下的液晶配向劑以及具有由其所形成之液晶配向膜的液晶顯示元件而構成,該液晶配向劑係含有由作為雙(胺苯)取代苯甲烷的第1二胺、與作為二胺化合物的第2二胺和四羧酸二酐進行反應所得到的聚醯胺酸,和使該聚醯胺酸脫水閉環所生成之醯亞胺化聚合物中的至少一者。
简体摘要：本发明系提供一种液晶配向剂以及具有由其所形成之液晶配向膜的液晶显示组件,该液晶配向剂具有表现预倾角的成分,能够赋予所期望的1~90�预倾角、且不会发生因液晶注入所导致的不良。本发明系根据以下的液晶配向剂以及具有由其所形成之液晶配向膜的液晶显示组件而构成,该液晶配向剂系含有由作为双(胺苯)取代苯甲烷的第1二胺、与作为二胺化合物的第2二胺和四羧酸二酐进行反应所得到的聚酰胺酸,和使该聚酰胺酸脱水闭环所生成之酰亚胺化聚合物中的至少一者。

82. 发明专利

TW200745181A 透明複合體及其製造方法审中-公开
简体标题：透明复合体及其制造方法
公开(公告)号：TW200745181A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096101629
申请日：2007-01-16
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：林俊仁 HAYASHI, TOSHIHIRO , 阪上俊規 SAKAGAMI, TOSHINORI
IPC分类号： C08F , C08K , C03C
摘要：本發明提供一種無色、透明性與耐熱性優越、光學異向性少、且線膨脹係數小,適合使用於液晶顯示用基板、有機EL顯示元件基板、濾色片用基板、觸摸面板用基板、太陽電池基板等光學薄片、透明板、光學透鏡、光學元件、光導波路、LED封閉材料等之可替代玻璃的透明複合體,及其製造方法。其特徵為含有:【A】環狀烯烴系熱塑性樹脂,與【B】玻璃纖維布。
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简体摘要：本发明提供一种无色、透明性与耐热性优越、光学异向性少、且线膨胀系数小,适合使用于液晶显示用基板、有机EL显示组件基板、滤色片用基板、触摸皮肤用基板、太阳电池基板等光学薄片、透明板、光学透镜、光学组件、光导波路、LED封闭材料等之可替代玻璃的透明复合体,及其制造方法。其特征为含有:【A】环状烯烃系热塑性树脂,与【B】玻璃钢布。 096101629-p01.bmp

83. 发明专利

TW200745010A 含有酸解離性基之化合物及敏輻射線性組成物 COMPOUND HAVING ACID DISSOCIABLE GROUP AND RADIATION SENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：含有酸解离性基之化合物及敏辐射线性组成物 COMPOUND HAVING ACID DISSOCIABLE GROUP AND RADIATION SENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW200745010A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096105273
申请日：2007-02-13
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：清水大輔 SHIMIZU, DAISUKE , 甲斐敏之 KAI, TOSHIYUKI , 松村信司 MATSUMURA, NOBUJI , 丸山研 MARUYAMA, KEN
IPC分类号： C07C , G03F , H01L
CPC分类号： C07C43/23 , C07C69/734 , C07C69/96 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要：本發明係有效感應電子線及深紫外線,可得到可以高精度,且安定形成粗糙度、耐蝕刻性、感度優,且微細圖案之光阻膜者,含有:(a)具有2~5個羥基,具有2~5個芳香環,同時使用凝膠滲透色譜(GPC)所測定之標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量為290~600之前驅物化合物之前述羥基之至少一個取代成酸解離性基之形成光阻膜用的含有酸解離性基之化合物,(b)藉由照射輻射線產生酸之敏輻射線性酸產生劑。
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简体摘要：本发明系有效感应电子线及深紫外线,可得到可以高精度,且安定形成粗糙度、耐蚀刻性、感度优,且微细图案之光阻膜者,含有:(a)具有2~5个羟基,具有2~5个芳香环,同时使用凝胶渗透色谱(GPC)所测定之标准聚苯乙烯换算之重量平均分子量为290~600之前驱物化合物之前述羟基之至少一个取代成酸解离性基之形成光阻膜用的含有酸解离性基之化合物,(b)借由照射辐射线产生酸之敏辐射线性酸产生剂。 096105273-p01.bmp

84. 发明专利

TW200744787A 化學機械研磨墊及其製造方法审中-公开
简体标题：化学机械研磨垫及其制造方法
公开(公告)号：TW200744787A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096102686
申请日：2007-01-24
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：保幸生 HOSAKA, YUKIO , 昭衛 TSUJI, SHOEI
IPC分类号： B24B
CPC分类号： B24D18/00 , B24B37/20 , H01L21/67294
摘要：本發明之化學機械研磨墊,係具有圓形之研磨面與該研磨面之背面的非研磨面,於內部含有可使用電磁波而非接觸性讀取或讀寫之資訊記錄媒體而成;較佳係在研磨面之半徑方向中的資訊記錄媒體之重心位置為從研磨面之半徑上之中心朝外周之方向,在於研磨面之半徑的0~10%或80~100%的範圍內。
简体摘要：本发明之化学机械研磨垫,系具有圆形之研磨面与该研磨面之背面的非研磨面,于内部含有可使用电磁波而非接触性读取或读写之信息记录媒体而成;较佳系在研磨面之半径方向中的信息记录媒体之重心位置为从研磨面之半径上之中心朝外周之方向,在于研磨面之半径的0~10%或80~100%的范围内。

85. 发明专利

TWI290504B 化學機械研磨墊及化學機械研磨方法 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD 有权
简体标题：化学机械研磨垫及化学机械研磨方法 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD
公开(公告)号：TWI290504B
公开(公告)日：2007-12-01
申请号：TW093121392
申请日：2004-07-16
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：志保浩司 SHIHO, HIROSHI , 保幸生 HOSAKA, YUKIO , 長谷川亨 HASEGAWA, KOU , 川橋信夫 KAWAHASHI, NOBUO
IPC分类号： B24B
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/013
摘要：一種化學機械研磨墊。這種墊含有水不溶性基質及分散於水不溶性基質物質中的水溶性粒子，且具有研磨表面及研磨表面反面之非研磨表面。該墊具有透光區域，光可由研磨表面通至非研磨表面。透光區域之非研磨表面，其表面粗糙度(Ra)為10 μm或以下。
简体摘要：一种化学机械研磨垫。这种垫含有水不溶性基质及分散于水不溶性基质物质中的水溶性粒子，且具有研磨表面及研磨表面反面之非研磨表面。该垫具有透光区域，光可由研磨表面通至非研磨表面。透光区域之非研磨表面，其表面粗糙度(Ra)为10 μm或以下。

86. 发明专利

TW200741221A 晶圓檢查用電路基板裝置、探針卡及晶圓檢查裝置、以及複合導電性膜片及連接裝置审中-公开
简体标题：晶圆检查用电路基板设备、探针卡及晶圆检查设备、以及复合导电性膜片及连接设备
公开(公告)号：TW200741221A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW095148219
申请日：2006-12-21
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：山田大典 YAMADA, DAISUKE , 木村潔 KIMURA, KIYOSHI , 原富士雄 HARA, FUJIO
IPC分类号： G01R , H01R , H01L
CPC分类号： G01R1/07378 , G01R3/00 , G01R31/2889 , H01R13/2414 , H01R2201/20
摘要：揭示有製造成本低、接續信賴性高的晶圓檢查用電路基板裝置,具有該晶圓檢查用電路基板裝置之探針卡及晶圓檢查裝置。晶圓檢查用電路基板裝置係,具有:基板本體,與堆疊複數個連接器單元所成之連接裝置;連接器單元係,具有:第1向異導電性彈性薄片、複合導電性膜片、第2向異導電性彈性薄片、與間距變換板;複合導電性膜片係,具有:形成複數個貫通孔之絕緣性膜片,於該絕緣性膜片、配置成從各個絕緣性膜片的兩面突出之剛性導體;剛性導體係,於插通於絕緣性膜片的貫通孔之胴部的兩端,形成具有比絕緣性膜片的貫通孔的徑還要大的徑之端子部,對該絕緣性膜片可以移動於厚度方向。
简体摘要：揭示有制造成本低、接续信赖性高的晶圆检查用电路基板设备,具有该晶圆检查用电路基板设备之探针卡及晶圆检查设备。晶圆检查用电路基板设备系,具有:基板本体,与堆栈复数个连接器单元所成之连接设备;连接器单元系,具有:第1向异导电性弹性薄片、复合导电性膜片、第2向异导电性弹性薄片、与间距变换板;复合导电性膜片系,具有:形成复数个贯通孔之绝缘性膜片,于该绝缘性膜片、配置成从各个绝缘性膜片的两面突出之刚性导体;刚性导体系,于插通于绝缘性膜片的贯通孔之胴部的两端,形成具有比绝缘性膜片的贯通孔的径还要大的径之端子部,对该绝缘性膜片可以移动于厚度方向。

87. 发明专利

TW200741029A 無電解鍍液审中-公开
简体标题：无电解镀液
公开(公告)号：TW200741029A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096108988
申请日：2007-03-15
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：金野智久 KONNO, TOMOHISA , 松本太一 MATSUMOTO, TAICHI
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： H01L21/288 , C08G65/327 , C08G65/329 , C08G2650/60 , C23C18/50
摘要：本發明係提供一種無電解鍍液,其特徵係可於具有配線構造之半導體裝置之製造中,在露出之該配線表面上選擇性地形成保護膜而使用之無電解鍍液,該無電解鍍液,係含有鈷離子、與鈷相異之第2金屬之離子、鉗合劑、還原劑、界面活性劑及特定之氫氧化四烷基銨;該界面活性劑,係選自由下述式(2a)或(2b)所示之化合物、磺酸型陰離子界面活性劑、聚氧基伸乙基烷基醚磷酸酯、及聚氧基伸烷基單烷基醚所成之群,
096108988-p01.bmp
096108988-p02.bmp
(R^5~R^8係表示氫原子或特定之烷基,R^9及R^10各係表示碳數2~5之伸烷基,j及k係各自獨立地為1以上之整數,j及k之和為2~50。)根據本發明,能在銅配線上以高選擇率而形成具有防止均一擴散能力之保護膜。
简体摘要：本发明系提供一种无电解镀液,其特征系可于具有配线构造之半导体设备之制造中,在露出之该配线表面上选择性地形成保护膜而使用之无电解镀液,该无电解镀液,系含有钴离子、与钴相异之第2金属之离子、钳合剂、还原剂、界面活性剂及特定之氢氧化四烷基铵;该界面活性剂,系选自由下述式(2a)或(2b)所示之化合物、磺酸型阴离子界面活性剂、聚氧基伸乙基烷基醚磷酸酯、及聚氧基伸烷基单烷基醚所成之群, 096108988-p01.bmp 096108988-p02.bmp (R^5~R^8系表示氢原子或特定之烷基,R^9及R^10各系表示碳数2~5之伸烷基,j及k系各自独立地为1以上之整数,j及k之和为2~50。)根据本发明,能在铜配在线以高选择率而形成具有防止均一扩散能力之保护膜。

88. 发明专利

TW200740883A 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
公开(公告)号：TW200740883A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096109642
申请日：2007-03-21
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：吉尾浩平 YOSHIO, KOHEI , 林英治 HAYASHI, EIJI
IPC分类号： C08G , G02F
摘要：本發明涉及液晶配向劑、液晶配向膜和液晶顯示元件。本發明提供能夠形成液晶配向性良好的液晶配向膜的液晶配向劑、所形成的液晶配向膜和具備該液晶配向膜的液晶顯示元件。藉由四羧酸二酐與二胺化合物反應所得的聚醯胺酸、具有將該聚醯胺酸脫水閉環所得結構的醯亞胺化聚合物,或者由聚醯胺酸與醯亞胺化聚合物的混合物構成的液晶配向劑,其為含有從3-烷氧基-N,N-二烷基丙醯胺構成的醯胺類溶劑的群中選擇的至少一種溶劑的溶液之液晶配向劑,及具備由其所形成之液晶配向膜之液晶顯示元件而達成本發明。
简体摘要：本发明涉及液晶配向剂、液晶配向膜和液晶显示组件。本发明提供能够形成液晶配向性良好的液晶配向膜的液晶配向剂、所形成的液晶配向膜和具备该液晶配向膜的液晶显示组件。借由四羧酸二酐与二胺化合物反应所得的聚酰胺酸、具有将该聚酰胺酸脱水闭环所得结构的酰亚胺化聚合物,或者由聚酰胺酸与酰亚胺化聚合物的混合物构成的液晶配向剂,其为含有从3-烷氧基-N,N-二烷基丙酰胺构成的酰胺类溶剂的群中选择的至少一种溶剂的溶液之液晶配向剂,及具备由其所形成之液晶配向膜之液晶显示组件而达成本发明。

89. 发明专利

TW200739258A 敏輻射線性樹脂組成物审中-公开
简体标题：敏辐射线性树脂组成物
公开(公告)号：TW200739258A
公开(公告)日：2007-10-16
申请号：TW095143067
申请日：2006-11-21
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：中村敦 NAKAMURA, ATSUSHI , 王勇 WANG, YONG , 隆幸 TSUJI, TAKAYUKI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0397
摘要：本發明係揭示一種敏輻射線性樹脂組成物,其能使液浸曝光方法所得之圖型形狀良好,且具有優良解像度及焦點深度充裕性,又對液浸曝光時所接觸之折射率液體(浸漬液)的溶出物量較少,可形成透鏡及光阻膜之間介由波長193nm的折射率超過1.44但未達1.85的液浸曝光用液體照射輻射線之液浸曝光微影蝕刻法所使用的光阻膜。又該敏輻射線性樹脂組成物含有,含具有內酯構造之重覆單位的鹼不溶性或鹼難溶性但酸作用下可成為鹼易溶性之樹脂,及敏輻射線性酸發生劑。
简体摘要：本发明系揭示一种敏辐射线性树脂组成物,其能使液浸曝光方法所得之图型形状良好,且具有优良解像度及焦点深度充裕性,又对液浸曝光时所接触之折射率液体(浸渍液)的溶出物量较少,可形成透镜及光阻膜之间介由波长193nm的折射率超过1.44但未达1.85的液浸曝光用液体照射辐射线之液浸曝光微影蚀刻法所使用的光阻膜。又该敏辐射线性树脂组成物含有,含具有内酯构造之重复单位的碱不溶性或碱难溶性但酸作用下可成为碱易溶性之树脂,及敏辐射线性酸发生剂。

90. 发明专利

TW200738777A 環狀烯烴系樹脂組成物,由該樹脂組成物所成樹脂成形品的製造方法,以及該樹脂組成物所成薄膜审中-公开
简体标题：环状烯烃系树脂组成物,由该树脂组成物所成树脂成形品的制造方法,以及该树脂组成物所成薄膜
公开(公告)号：TW200738777A
公开(公告)日：2007-10-16
申请号：TW096101936
申请日：2007-01-18
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：松村武 MATSUMURA, TAKESHI , 鷲見浩一 SUMI, KOICHI , 山崎大輔 YAMAZAKI, DAISUKE
IPC分类号： C08G , C08J
摘要：本發明係提供一種環狀烯烴系樹脂組成物,其特徵為對環狀烯烴系開環聚合物的氫化物(A)為100重量部時,含有1分子中具受阻胺(hindered amine)構造以及受阻酚構造(hindered phenol)兩者之化合物(B)0.3~0.7重量部,以及具有受阻酚構造之該(B)成分以外的化合物(C)0.3~0.7重量部,其中分子量為3000以下的化合物的總含量為1.0重量部以下。根據本發明,可提供成形時不易污染鑄模、滾輪等的成形機具,耐熱性、透明性優異之適合作為成形體的材料之環狀烯烴系樹脂組成物,使用其之樹脂成形品以及薄膜的製造方法。本發明的環狀烯烴系樹脂組成物,特別適合用於各種光學構件用途、電氣電子材料等的成形品的用途。
简体摘要：本发明系提供一种环状烯烃系树脂组成物,其特征为对环状烯烃系开环聚合物的氢化物(A)为100重量部时,含有1分子中具受阻胺(hindered amine)构造以及受阻酚构造(hindered phenol)两者之化合物(B)0.3~0.7重量部,以及具有受阻酚构造之该(B)成分以外的化合物(C)0.3~0.7重量部,其中分子量为3000以下的化合物的总含量为1.0重量部以下。根据本发明,可提供成形时不易污染铸模、滚轮等的成形机具,耐热性、透明性优异之适合作为成形体的材料之环状烯烃系树脂组成物,使用其之树脂成形品以及薄膜的制造方法。本发明的环状烯烃系树脂组成物,特别适合用于各种光学构件用途、电气电子材料等的成形品的用途。

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