专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明专利

TW200803534A 影像訊號之對比伸張與溢位補償系統及方法 SYSTEM AND METHOD FOR IMAGE SIGNAL CONTRAST ADJUSTMENT AND OVERFLOW COMPENSATION 审中-公开
简体标题：影像信号之对比伸张与溢出补偿系统及方法 SYSTEM AND METHOD FOR IMAGE SIGNAL CONTRAST ADJUSTMENT AND OVERFLOW COMPENSATION
公开(公告)号：TW200803534A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW095122841
申请日：2006-06-23
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：余義盛 YU, YI SHENG , 高旭彬 KAO, HSU PIN , 單益嘉 SHAN, YI CHIA , 蔡璨鴻 TSAI, TSAN HUNG
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G06T5/40 , G06T5/009 , G06T2207/10016 , G06T2207/20012
摘要：本發明提供一種影像訊號之對比伸張與溢位補償系統及方法,以避免訊號飽和溢位時在顯示器呈現出大面積的透亮的畫面,並還原出畫面原本的亮暗層次,提高觀賞時之影像品質。該系統包含有至少一記憶體以及至少一影像訊號處理器。記憶體中儲存一預定之對比伸張對照表以及溢位補償對照表,影像訊號處理器包含一影像灰階邊界判斷單元、一對比伸張單元、一溢位判斷模組以及一溢位補償模組。溢位判斷模組用以依據像素之灰階値,來判斷影像訊號之像素是否已發生溢位現象。影像灰階邊界判斷單元定義出像素中之一最大値及一最小値,並計算兩者之差値,對比伸張單元選擇出相對應之對比伸張參數,來對於像素進行對比伸張之調整。溢位補償模組則用以對影像訊號之像素進行補償。當溢位判斷模組判斷影像訊號之某一像素已經發生溢位現象時,溢位補償模組會依據像素之灰階値,選擇溢位補償對照表中相對應之溢位補償參數來調降該像素之灰階値,以克服溢位現象。
简体摘要：本发明提供一种影像信号之对比伸张与溢出补偿系统及方法,以避免信号饱和溢出时在显示器呈现出大面积的透亮的画面,并还原出画面原本的亮暗层次,提高观赏时之影像品质。该系统包含有至少一内存以及至少一影像信号处理器。内存中存储一预定之对比伸张对照表以及溢出补偿对照表,影像信号处理器包含一影像灰阶边界判断单元、一对比伸张单元、一溢出判断模块以及一溢出补偿模块。溢出判断模块用以依据像素之灰阶値,来判断影像信号之像素是否已发生溢出现象。影像灰阶边界判断单元定义出像素中之一最大値及一最小値,并计算两者之差値,对比伸张单元选择出相对应之对比伸张参数,来对于像素进行对比伸张之调整。溢出补偿模块则用以对影像信号之像素进行补偿。当溢出判断模块判断影像信号之某一像素已经发生溢出现象时,溢出补偿模块会依据像素之灰阶値,选择溢出补偿对照表中相对应之溢出补偿参数来调降该像素之灰阶値,以克服溢出现象。

82. 发明专利

TWI288907B 應用於平面顯示器上對亮度誤差進行補償的方法有权
简体标题：应用于平面显示器上对亮度误差进行补偿的方法
公开(公告)号：TWI288907B
公开(公告)日：2007-10-21
申请号：TW094140414
申请日：2005-11-17
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：余義盛 , 高旭彬 , 單益嘉 SHAN, YI CHIA , 許凱翔 HSU, KAI HSIANG
IPC分类号： G09G
CPC分类号： G09G3/2059 , G09G3/20 , G09G3/2803 , G09G2320/0233 , G09G2320/0242 , G09G2320/0276 , G09G2320/0285 , G09G2360/145
摘要：本發明係一種應用於平面顯示器上對亮度誤差進行補償的方法，該方法係在固定發光維持頻率(sustain frequency，簡稱fs)下，對一平面顯示器輸入一系列的灰階信號(Gray)，並對該平面顯示器輸出的亮度，進行測量，得到實際輸出亮度Ymea(fs ,Gray)，且根據該等輸入灰階與其理想輸出亮度間的線性等比例關係，計算出該等輸入灰階對應的理想輸出亮度Yideal(fs,Gray)，再依據該實際輸出亮度Ymea(fS ,Gray)及該理想輸出亮度Yideal(fs,Gray)，建立一對照表，該對照表包含一系列的轉換灰階(Gray’)及亮度誤差補償值，各該轉換灰階對應的實際輸出亮度Ymea(fs ,Gray’)係最接近各該輸入灰階的理想輸出亮度Yideal(fs,Gray)，各該亮度補償值係各該轉換灰階Gray’對應的實際輸出亮度Ymea(fs ,Gray’)與各該輸入灰階Gray對應的理想輸出亮度Yideal(fs,Gray)間的誤差，如此，當一灰階欲輸入該平面顯示器時，可透過該對照表，先查找到一對應的轉換灰階，將該轉換灰階輸入該平面顯示器，即可令該平面顯示器輸出一最接近理想輸出亮度Yideal(fs,Gray)的灰階亮度，以有效解決平面顯示器的實際輸出亮度與理想輸出亮度間的誤差問題。
简体摘要：本发明系一种应用于平面显示器上对亮度误差进行补偿的方法，该方法系在固定发光维持频率(sustain frequency，简称fs)下，对一平面显示器输入一系列的灰阶信号(Gray)，并对该平面显示器输出的亮度，进行测量，得到实际输出亮度Ymea(fs ,Gray)，且根据该等输入灰阶与其理想输出亮度间的线性等比例关系，计算出该等输入灰阶对应的理想输出亮度Yideal(fs,Gray)，再依据该实际输出亮度Ymea(fS ,Gray)及该理想输出亮度Yideal(fs,Gray)，创建一对照表，该对照表包含一系列的转换灰阶(Gray’)及亮度误差补偿值，各该转换灰阶对应的实际输出亮度Ymea(fs ,Gray’)系最接近各该输入灰阶的理想输出亮度Yideal(fs,Gray)，各该亮度补偿值系各该转换灰阶Gray’对应的实际输出亮度Ymea(fs ,Gray’)与各该输入灰阶Gray对应的理想输出亮度Yideal(fs,Gray)间的误差，如此，当一灰阶欲输入该平面显示器时，可透过该对照表，先查找到一对应的转换灰阶，将该转换灰阶输入该平面显示器，即可令该平面显示器输出一最接近理想输出亮度Yideal(fs,Gray)的灰阶亮度，以有效解决平面显示器的实际输出亮度与理想输出亮度间的误差问题。

83. 实用新型

TWM316248U 基材輸送設備失效
简体标题：基材输送设备
公开(公告)号：TWM316248U
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：TW096203392
申请日：2007-03-01
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：陳典廷 , 鍾淵樞
IPC分类号： B65G
摘要：本創作係提供一種基材輸送設備，該基材輸送設備係包括：輸送設備主體，係界定形成有輸送台面；空氣噴射單元，組設於輸送台面上預定區域，所述空氣噴射單元之頂部設有氣體噴出孔；輸送帶單元，配置於空氣噴射單元之至少二側位置，所述輸送帶單元係界定形成輸送面；凸出狀支撐部，間隔設置於輸送帶單元之輸送面上；藉此，除了可藉由該空氣噴射單元達到氣浮式支撐基材大部份面積而具有防止沾附灰塵污物及產生靜電之優點外，更可藉由該輸送帶單元之輸送面設有凸出狀支撐部之特色，使基材二側獲得間隔點狀之承置帶動效果，進而同樣可達到大幅降低灰塵污物沾附及磨擦靜電現象之實用進步性。
简体摘要：本创作系提供一种基材输送设备，该基材输送设备系包括：输送设备主体，系界定形成有输送台面；空气喷射单元，组设于输送台面上预定区域，所述空气喷射单元之顶部设有气体喷出孔；输送带单元，配置于空气喷射单元之至少二侧位置，所述输送带单元系界定形成输送面；凸出状支撑部，间隔设置于输送带单元之输送面上；借此，除了可借由该空气喷射单元达到气浮式支撑基材大部份面积而具有防止沾附灰尘污物及产生静电之优点外，更可借由该输送带单元之输送面设有凸出状支撑部之特色，使基材二侧获得间隔点状之承置带动效果，进而同样可达到大幅降低灰尘污物沾附及磨擦静电现象之实用进步性。

84. 发明专利

TW200721225A 對向放電型電漿平面顯示器的蔭罩的製作方法失效
简体标题：对向放电型等离子平面显示器的荫罩的制作方法
公开(公告)号：TW200721225A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW094140918
申请日：2005-11-22
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：高旭彬 , 梁建錚 , 許勝文 , 高旭佳 KAO, HSU CHIA
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J11/36 , H01J9/242 , H01J11/12
摘要：本發明係一種對向放電型電漿平面顯示器的蔭罩的製作方法,該方法係在一金屬平板的一側表面上,利用蝕刻製程,沿垂直及水平方向,分別蝕刻出複數條相互平行且呈等距間隔的阻隔牆,且每四個相鄰阻隔牆間圍繞成一放電單元,各該放電單元的中央位置並蝕刻有一貫穿該金屬平板的一蔭孔;在該金屬平板的另一側表面上,則係利用滾壓或沖壓製程,在對應於各該放電單元的位置,製作出與該蔭孔相導通的至少一凹槽,相鄰凹槽係相互連通,以在該另一側表面上形成複數條導氣通道,如此,即可簡單且快速地製作出該對向放電型電漿平面顯示器所需的一蔭罩,除可減少傳統雙面蝕刻所造成的化學污染問題外,尚可有效提高產品良率及減少製作成本。
简体摘要：本发明系一种对向放电型等离子平面显示器的荫罩的制作方法,该方法系在一金属平板的一侧表面上,利用蚀刻制程,沿垂直及水平方向,分别蚀刻出复数条相互平行且呈等距间隔的阻隔墙,且每四个相邻阻隔墙间围绕成一放电单元,各该放电单元的中央位置并蚀刻有一贯穿该金属平板的一荫孔;在该金属平板的另一侧表面上,则系利用滚压或冲压制程,在对应于各该放电单元的位置,制作出与该荫孔相导通的至少一凹槽,相邻凹槽系相互连通,以在该另一侧表面上形成复数条导气信道,如此,即可简单且快速地制作出该对向放电型等离子平面显示器所需的一荫罩,除可减少传统双面蚀刻所造成的化学污染问题外,尚可有效提高产品良率及减少制作成本。

85. 发明专利

TWI265543B 對向放電型電漿平面顯示器的蔭罩的製作方法失效
简体标题：对向放电型等离子平面显示器的荫罩的制作方法
公开(公告)号：TWI265543B
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：TW094140918
申请日：2005-11-22
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：高旭彬 , 梁建錚 , 許勝文 , 高旭佳 KAO, HSU CHIA
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J11/36 , H01J9/242 , H01J11/12
摘要：本發明係一種對向放電型電漿平面顯示器的蔭罩的製作方法，該方法係在一金屬平板的一側表面上，利用蝕刻製程，沿垂直及水平方向，分別蝕刻出複數條相互平行且呈等距間隔的阻隔牆，且每四個相鄰阻隔牆間圍繞成一放電單元，各該放電單元的中央位置並蝕刻有一貫穿該金屬平板的一蔭孔；在該金屬平板的另一側表面上，則係利用滾壓或沖壓製程，在對應於各該放電單元的位置，製作出與該蔭孔相導通的至少一凹槽，相鄰凹槽係相互連通，以在該另一側表面上形成複數條導氣通道，如此，即可簡單且快速地製作出該對向放電型電漿平面顯示器所需的一蔭罩，除可減少傳統雙面蝕刻所造成的化學污染問題外，尚可有效提高產品良率及減少製作成本。
简体摘要：本发明系一种对向放电型等离子平面显示器的荫罩的制作方法，该方法系在一金属平板的一侧表面上，利用蚀刻制程，沿垂直及水平方向，分别蚀刻出复数条相互平行且呈等距间隔的阻隔墙，且每四个相邻阻隔墙间围绕成一放电单元，各该放电单元的中央位置并蚀刻有一贯穿该金属平板的一荫孔；在该金属平板的另一侧表面上，则系利用滚压或冲压制程，在对应于各该放电单元的位置，制作出与该荫孔相导通的至少一凹槽，相邻凹槽系相互连通，以在该另一侧表面上形成复数条导气信道，如此，即可简单且快速地制作出该对向放电型等离子平面显示器所需的一荫罩，除可减少传统双面蚀刻所造成的化学污染问题外，尚可有效提高产品良率及减少制作成本。

86. 实用新型

TWM287936U LCD邊緣檢測機結構之改良失效
简体标题： LCD边缘检测机结构之改良
公开(公告)号：TWM287936U
公开(公告)日：2006-02-21
申请号：TW094215151
申请日：2005-09-02
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：王俊杰 , 陳典廷 , 劉中平 LIU, CHUNG-PING , 莊明傑
IPC分类号： G01N
摘要：本創作係提供一種「LCD邊緣檢測機結構之改良」，係由一前段程序機台、一檢視機台、一後段程序機台、一緩衝區機台及一磨邊導角機台所構成，其該前段程序機台、檢視機台與後段程序機台內均設有一輸送帶，其中，該前段程序機台之入口端裝設有一靜電消除吹風機，並裝設有一條碼判讀機；該檢視機台之內部共設有4台檢測器，且分別係於檢視機台內之左右處各裝設2台，其中，左右處之各1台檢測器具有偏光菱鏡；該後段程序機台內設有一夾臂及一懸臂；該緩衝機台內設有10層的置放層，其每一層均係由有煞止住功能的滑輪所構成，以利LCD送入或送出緩衝區機台。
简体摘要：本创作系提供一种“LCD边缘检测机结构之改良”，系由一前段进程机台、一视图机台、一后段进程机台、一缓冲区机台及一磨边导角机台所构成，其该前段进程机台、视图机台与后段进程机台内均设有一输送带，其中，该前段进程机台之入口端装设有一静电消除吹风机，并装设有一条码判读机；该视图机台之内部共设有4台检测器，且分别系于视图机台内之左右处各装设2台，其中，左右处之各1台检测器具有偏光菱镜；该后段进程机台内设有一夹臂及一悬臂；该缓冲机台内设有10层的置放层，其每一层均系由有煞止住功能的滑轮所构成，以利LCD送入或送出缓冲区机台。

87. 实用新型

TWM255508U 晶圓盤旋轉機構失效
简体标题：晶圆盘旋转机构
公开(公告)号：TWM255508U
公开(公告)日：2005-01-11
申请号：TW093204677
申请日：2004-03-26
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：詹博善 , 王維淳 , 王俊杰
IPC分类号： H01L
摘要：本創作係提供一種「晶圓盤旋轉機構」，係由一座體、二支撐臂及一架體所構成，其中，在該二支撐臂之上端面各開設一孔洞並裝設培林座，然後於該二支撐臂之間裝設一架體，其該架體兩側邊的支撐軸分別各插入二支撐臂之培林座內，則其中一支撐軸向外裸露出一適當段，且設有一傳動輪；於該座體之一側的底面裝設有一馬達，該馬達的轉軸設有一傳動輪並朝向外側，則該馬達之傳動輪與該支撐軸之傳動輪呈一直線對應，一傳動帶套設於馬達之傳動輪與該支撐軸之傳動輪上。
简体摘要：本创作系提供一种“晶圆盘旋转机构”，系由一座体、二支撑臂及一架体所构成，其中，在该二支撑臂之上端面各开设一孔洞并装设培林座，然后于该二支撑臂之间装设一架体，其该架体两侧边的支撑轴分别各插入二支撑臂之培林座内，则其中一支撑轴向外裸露出一适当段，且设有一传动轮；于该座体之一侧的底面装设有一马达，该马达的转轴设有一传动轮并朝向外侧，则该马达之传动轮与该支撑轴之传动轮呈一直线对应，一传动带套设于马达之传动轮与该支撑轴之传动轮上。

88. 实用新型

TW570299U 晶圓夾持機構之結構改良失效
简体标题：晶圆夹持机构之结构改良
公开(公告)号：TW570299U
公开(公告)日：2004-01-01
申请号：TW092208904
申请日：2003-05-15
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：詹博善 , 王維淳 , 王俊杰
IPC分类号： H01L
摘要：本創作係提供一種「晶圓夾持機構之結構改良」，該夾持機構係由一架體、一定位元件及數支夾爪機構所組成，其中該夾爪機構係由滾輪、夾爪、彈性物件及螺絲等組成；該定位元件之周面設有數個定位槽；當架體在旋轉動作時，其該夾爪機構會跟著一併轉動，此時該夾爪機構之滾輪會沿著定位元件之周面滾動，當夾爪機構。五、(一)、本案代表圖為：第一圖
(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明：
其中圖號(1)為晶圓夾持機構，圖號(10)為架體，圖號(11)為嵌槽，圖號(12)為缺口，圖號(13)為位置槽，圖號(20)為定位元件，圖號(21)為定位槽，圖號(30)為夾爪機構，圖號(31)為夾爪本體，圖號(32)為滾輪，圖號(33)為爪口，圖號(34)為彈性元件。
简体摘要：本创作系提供一种“晶圆夹持机构之结构改良”，该夹持机构系由一架体、一定比特件及数支夹爪机构所组成，其中该夹爪机构系由滚轮、夹爪、弹性对象及螺丝等组成；该定比特件之周面设有数个定位槽；当架体在旋转动作时，其该夹爪机构会跟着一并转动，此时该夹爪机构之滚轮会沿着定比特件之周面滚动，当夹爪机构。五、(一)、本案代表图为：第一图 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明：其中图号(1)为晶圆夹持机构，图号(10)为架体，图号(11)为嵌槽，图号(12)为缺口，图号(13)为位置槽，图号(20)为定比特件，图号(21)为定位槽，图号(30)为夹爪机构，图号(31)为夹爪本体，图号(32)为滚轮，图号(33)为爪口，图号(34)为弹性组件。

89. 发明专利

TW200302509A 金屬遮罩在IC製程之應用方法审中-公开
简体标题：金属遮罩在IC制程之应用方法
公开(公告)号：TW200302509A
公开(公告)日：2003-08-01
申请号：TW092107014
申请日：2001-09-12
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：林智富
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係提供一種「金屬遮罩在IC製程之應用方法」，選定一金屬材質所製之遮罩板，該遮罩板經光阻、曝光後以形成一個樣式圖形後，則再使用乾蝕刻或濕蝕刻將金屬遮罩板上的圖形吃出，而後將該遮罩板放置於晶圓上，即開始對晶圓進行蝕刻、長膜和離子植入等相關製程，直到製程結束將晶圓取出。
简体摘要：本发明系提供一种“金属遮罩在IC制程之应用方法”，选定一金属材质所制之遮罩板，该遮罩板经光阻、曝光后以形成一个样式图形后，则再使用干蚀刻或湿蚀刻将金属遮罩板上的图形吃出，而后将该遮罩板放置于晶圆上，即开始对晶圆进行蚀刻、长膜和离子植入等相关制程，直到制程结束将晶圆取出。

90. 发明专利

TWI691441B 化學桶自動開蓋換接頭裝置有权
简体标题：化学桶自动开盖换接头设备
公开(公告)号：TWI691441B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW106134689
申请日：2017-10-11
申请人：帆宣系統科技股份有限公司 , MARKETECH INTERNATIONAL CORP.
发明人：魯建國 , LU, CHIEN-KUO , 彭啟元 , PUNG, CHI-YUAN , 葉啟達 , YEH, CHI-TA
IPC分类号： B65D55/00 , B65D85/84

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式