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    • 73. 发明专利
    • 含有二氧化矽的塗佈用樹脂組成物及層合體
    • 含有二氧化硅的涂布用树脂组成物及层合体
    • TW201400563A
    • 2014-01-01
    • TW102110884
    • 2013-03-27
    • 新日鐵住金化學股份有限公司NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
    • 神谷美幸KAMIYA, MIYUKI齋藤憲SAITO, TAKASHI
    • C09D4/00C08K9/06B32B27/20
    • C08F2/44C08F220/20C09D4/00
    • 本發明之課題為提供一種未使用真空腔等之乾式製程而可適應濕式製程,且使用熱硬化可以比較短時間硬化之光硬化,可賦予接近玻璃之耐磨耗性之塗佈用樹脂組成物、及層合體。用以解決課題的手段為提供一種層合體,其特徵為包含下述一般式(1)所示之具有(甲基)丙烯基與羥基之自由基聚合性化合物(A) (惟,R為具有(甲基)丙烯醯基之有機官能基,X為具有氫或(甲基)丙烯醯基之有機官能基,n為0或1之整數)、光聚合起始劑、及平均粒徑1~100nm之二氧化矽微粒子(B),其中,在前述自由基聚合性化合物(A)與二氧化矽微粒子(B)的合計100重量份,含有60~85重量份範圍之二氧化矽微粒子(B)之含有二氧化矽的塗佈用樹脂組成物,具備使用其而形成硬塗層之層合體。
    • 本发明之课题为提供一种未使用真空腔等之干式制程而可适应湿式制程,且使用热硬化可以比较短时间硬化之光硬化,可赋予接近玻璃之耐磨耗性之涂布用树脂组成物、及层合体。用以解决课题的手段为提供一种层合体,其特征为包含下述一般式(1)所示之具有(甲基)丙烯基与羟基之自由基聚合性化合物(A) (惟,R为具有(甲基)丙烯酰基之有机官能基,X为具有氢或(甲基)丙烯酰基之有机官能基,n为0或1之整数)、光聚合起始剂、及平均粒径1~100nm之二氧化硅微粒子(B),其中,在前述自由基聚合性化合物(A)与二氧化硅微粒子(B)的合计100重量份,含有60~85重量份范围之二氧化硅微粒子(B)之含有二氧化硅的涂布用树脂组成物,具备使用其而形成硬涂层之层合体。
    • 76. 发明专利
    • 層合薄膜及塗裝構件用樹脂組成物之製造方法
    • 层合薄膜及涂装构件用树脂组成物之制造方法
    • TW201247714A
    • 2012-12-01
    • TW101106277
    • 2012-02-24
    • ADEKA股份有限公司
    • 川本尚史漆原剛岡本康平瀨口哲哉
    • C08FC08J
    • C08K5/20B32B7/12B32B27/08B32B27/32B32B27/36C08F2/44
    • 本發明係提供可製造與層合用基材之接著性優異、對溶劑的添加劑的溶出少之層合薄膜的層合薄膜的製造方法。其特徵係具備在具有乙烯性不飽和鍵的單體的聚合前或聚合中,使下述一般式(1)所表示的酚系抗氧化劑經有機鋁化合物掩蔽處理者,相對聚合所得到的聚合物100質量份以0.001~0.5質量份搭配之方式,添加於觸媒系、聚合系及配管中任一處以上之步驟的層合薄膜的製造方法。
      (式中,R1及R2各自獨立,為氫原子、可具有分支的碳原子數1~5之烷基等,R為可具有分支的碳原子數1~30的烷基等。)
    • 本发明系提供可制造与层合用基材之接着性优异、对溶剂的添加剂的溶出少之层合薄膜的层合薄膜的制造方法。其特征系具备在具有乙烯性不饱和键的单体的聚合前或聚合中,使下述一般式(1)所表示的酚系抗氧化剂经有机铝化合物掩蔽处理者,相对聚合所得到的聚合物100质量份以0.001~0.5质量份搭配之方式,添加于触媒系、聚合系及配管中任一处以上之步骤的层合薄膜的制造方法。 (式中,R1及R2各自独立,为氢原子、可具有分支的碳原子数1~5之烷基等,R为可具有分支的碳原子数1~30的烷基等。)
    • 78. 发明专利
    • 活性能量射線硬化性樹脂組成物及塗佈劑
    • 活性能量射线硬化性树脂组成物及涂布剂
    • TW201235424A
    • 2012-09-01
    • TW101102505
    • 2012-01-20
    • 日本合成化學工業股份有限公司
    • 達本篤志
    • C09DC08L
    • C08F2/44C08F290/067C08G18/672C09D4/00C09D5/002C09D101/08C09D101/14C09D175/16
    • 為了提供一種活性能量射線硬化性樹脂組成物,其即使利用薄膜塗佈而形成塗膜,仍能隱蔽由於含有在塗料中之微粒或異物等引起的凹凸,具有塗膜外觀、平滑性、透明性優異之效果,尤其對於有微細的設計性的基材,不會堵塞其設計部分而可進行薄膜塗佈,而且可以隱蔽硬化塗膜中所含之微粒或異物的影響導致的凹凸,能形成設計追隨性、透明性優異之塗膜,為此本發明之活性能量射線硬化性樹脂組成物採用的構成為含有:胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物(A)及多糖衍生物(B)。
    • 为了提供一种活性能量射线硬化性树脂组成物,其即使利用薄膜涂布而形成涂膜,仍能隐蔽由于含有在涂料中之微粒或异物等引起的凹凸,具有涂膜外观、平滑性、透明性优异之效果,尤其对于有微细的设计性的基材,不会堵塞其设计部分而可进行薄膜涂布,而且可以隐蔽硬化涂膜中所含之微粒或异物的影响导致的凹凸,能形成设计追随性、透明性优异之涂膜,为此本发明之活性能量射线硬化性树脂组成物采用的构成为含有:胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物(A)及多糖衍生物(B)。