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71. 发明专利

TWI261149B 微影設備及積體電路裝置製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE MANUFACTURING METHOD 失效
简体标题：微影设备及集成电路设备制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI261149B
公开(公告)日：2006-09-01
申请号：TW092133052
申请日：2003-11-25
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：馬卡斯安祖亞斯范德卡賀夫 VAN DE KERHOF, MARCUS ADRIANUS , 威海瑪斯皮特斯德包迪 DE BOEIJ, WILHELMUS PETRUS , 馬歇爾瑪里斯海默里克 HEMERIK, MARCEL MAURICE
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70558 , G01J1/429 , G01J1/58 , G03F7/7085
摘要：本發明提供一種微影投影設備，其包括：一用於提供初級輻射投影束之輻射系統；一用於支撐圖案化構件之支撐結構，其中該圖案化構件係用於根據所要圖案對投影束進行圖案化；一用於固持基板之基板臺；一用於將圖案化射束投影至基板的目標部分之上的投影系統；及一可在投影束穿過的路徑上移動，用以接收來自投影束之初級輻射的輻射感應器。其中，該輻射感應器包括：輻射敏感材料，其可將入射初級輻射轉換為次級輻射；感應構件，其能偵測自該材料出現之次級輻射；及濾光材料，其可防止次級輻射以離開該感應構件之方向行進。
简体摘要：本发明提供一种微影投影设备，其包括：一用于提供初级辐射投影束之辐射系统；一用于支撑图案化构件之支撑结构，其中该图案化构件系用于根据所要图案对投影束进行图案化；一用于固持基板之基板台；一用于将图案化射束投影至基板的目标部分之上的投影系统；及一可在投影束穿过的路径上移动，用以接收来自投影束之初级辐射的辐射感应器。其中，该辐射感应器包括：辐射敏感材料，其可将入射初级辐射转换为次级辐射；感应构件，其能侦测自该材料出现之次级辐射；及滤光材料，其可防止次级辐射以离开该感应构件之方向行进。

72. 发明专利

TW200630759A 基底台、測量一基底之一位置之方法以及微影裝置 SUBSTRATE TABLE, METHOD OF MEASURING A POSITION OF A SUBSTRATE AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
简体标题：基底台、测量一基底之一位置之方法以及微影设备 SUBSTRATE TABLE, METHOD OF MEASURING A POSITION OF A SUBSTRATE AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS
公开(公告)号：TW200630759A
公开(公告)日：2006-09-01
申请号：TW094140204
申请日：2005-11-16
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：亨利克斯威爾翰瑪斯瑪莉亞范布爾 VAN BUEL, HENRICUS WILHELMUS MARIA , 法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏班捷恩 BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 賈庫巴博荷恩 BURGHOORN, JACOBUS , 赫伊德彼特雷德特沙瑪 TOLSMA, HOITE PIETER THEODOOR , 彼得田柏基 TEN BERGE, PETER
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70716 , G03F9/7011 , G03F9/7049 , G03F9/7084
摘要：本發明係關於一種經配置以支撐一具有至少一個基底標記之基底的基底台。具有一位置之該至少一個基底標記可使用一對準系統測量。該基底台具有一光學系統，該光學系統具有一偏離於1之放大因子，進而用於提供一待藉由該對準系統測量之該至少一個基底標記的影像。
简体摘要：本发明系关于一种经配置以支撑一具有至少一个基底标记之基底的基底台。具有一位置之该至少一个基底标记可使用一对准系统测量。该基底台具有一光学系统，该光学系统具有一偏离于1之放大因子，进而用于提供一待借由该对准系统测量之该至少一个基底标记的影像。

73. 发明专利

TW200629014A 供決定Z位置失誤/變異及基材台平坦之微影裝置及方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING Z POSITION ERRORS/VARIATIONS AND SUBSTRATE TABLE FLATNESS 审中-公开
简体标题：供决定Z位置失误/变异及基材台平坦之微影设备及方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING Z POSITION ERRORS/VARIATIONS AND SUBSTRATE TABLE FLATNESS
公开(公告)号：TW200629014A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW094146564
申请日：2005-12-26
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：威蘭鶴鳴捷度達安納孔恩 KOENEN, WILLEM HERMAN GERTRUDA ANNA , 阿瑟威夫利德愛達斯明納特 MINNAERT, ARTHUR WINFRIED EDUARDUS , 路伯休斯奧萬漢 OUWEHAND, LUBERTHUS , 喬翰娜瑪希絲山鐸拉斯安東尼絲艾德琳思 ADRIAENS, JOHANNES MATHIAS THEODORUS ANTONIUS , 巫特歐諾佩瑞 PRIL, WOUTER, ONNO
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7049 , B23D43/04 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7034 , G03F9/7088
摘要：本發明揭示一種微影投影裝置，其包含：一照明系統，其經配置以提供一輻射光束；一支撐物，其經配置以支撐一圖案化器件，該圖案化器件經配置以在其斷面中賦予該光束一圖案；一基材台(WT)，其經配置以固持一基材(W)；一投影系統，其經配置以將該圖案化輻射投影至該基材(W)之一目標部分上；複數個位準感測器(LS)，其用於感測承載在該基材台(WT)上的一基材於複數個不同位置處的一位準；以及一系統，其用於決定該基材台(WT)之位置。本發明亦提供一控制器，其經配置以引起該基材(W)與該位準感測器陣列之間從進行一第一測量所處的一第一位置到進行進一步測量所處的複數個重疊位置之相對移動；與一計算器，其用於採用該等複數個重疊之測量來計算Z位置失誤及／或基材台(WT)不平坦度之一測量及／或該位準感測器(LS)位置／偏移之一測量。
简体摘要：本发明揭示一种微影投影设备，其包含：一照明系统，其经配置以提供一辐射光束；一支撑物，其经配置以支撑一图案化器件，该图案化器件经配置以在其断面中赋予该光束一图案；一基材台(WT)，其经配置以固持一基材(W)；一投影系统，其经配置以将该图案化辐射投影至该基材(W)之一目标部分上；复数个位准传感器(LS)，其用于传感承载在该基材台(WT)上的一基材于复数个不同位置处的一位准；以及一系统，其用于决定该基材台(WT)之位置。本发明亦提供一控制器，其经配置以引起该基材(W)与该位准传感器数组之间从进行一第一测量所处的一第一位置到进行进一步测量所处的复数个重叠位置之相对移动；与一计算器，其用于采用该等复数个重叠之测量来计算Z位置失误及／或基材台(WT)不平坦度之一测量及／或该位准传感器(LS)位置／偏移之一测量。

74. 发明专利

TWI259333B 用於維護機器部件的方法和裝置 METHOD AND APPARATUS FOR MAINTAINING A MACHINE PART 失效
简体标题：用于维护机器部件的方法和设备 METHOD AND APPARATUS FOR MAINTAINING A MACHINE PART
公开(公告)号：TWI259333B
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW093106321
申请日：2004-03-10
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：派特喬漢斯瑪里斯范葛魯斯 VAN GROOS, PIETER JOHANNES MARIUS , 愛柏特詹漢德克克羅柏 KLOMP, ALBERT JAN HENDRIK , 詹弗烈德毫坎 HOOGKAMP, JAN FREDERIK , 喬瑟夫克尼亞司喬漢斯安東尼亞弗特 VUGTS, JOSEPHUS CORNELIUS JOHANNES ANTONIUS , 羅博特高登李夫瑟 LIVESEY, ROBERT GORDON , 喬漢納亨利卡斯潔特斯法雷森 FRANSSEN, JOHANNES HENDRIKUS GERTRUDIS , 喬漢斯彼德斯瑪迪納斯博納德微曼蘭 VERMEULEN, JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS , 愛立克羅勞夫羅斯崔 LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70975 , G03F7/7075 , G03F7/70858 , G03F7/70991
摘要：本發明有關一種維護機器部件之方法，該機器部件配置在一機器(1)之內部空間(11)，在此該內部空間(11)係保持在第一壓力(Pvac)，且係經由一載入鎖(LL)由一具有第二壓力(Penv)之環境分開。該方法包含經由該載入鎖(LL)將一機器部件(32, WT)運送出該內部空間(11)；及經由該載入鎖(LL)將該維護機器部件及一分開替換機器部件之一運送進入該內部空間(11)。
简体摘要：本发明有关一种维护机器部件之方法，该机器部件配置在一机器(1)之内部空间(11)，在此该内部空间(11)系保持在第一压力(Pvac)，且系经由一加载锁(LL)由一具有第二压力(Penv)之环境分开。该方法包含经由该加载锁(LL)将一机器部件(32, WT)运送出该内部空间(11)；及经由该加载锁(LL)将该维护机器部件及一分开替换机器部件之一运送进入该内部空间(11)。

75. 发明专利

TW200627096A 光學位置評估裝置及方法 OPTICAL POSITION ASSESSMENT APPARATUS AND METHOD 审中-公开
简体标题：光学位置评估设备及方法 OPTICAL POSITION ASSESSMENT APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TW200627096A
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW094136097
申请日：2005-10-17
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：承-坤古 GUI, CHENG-QUN
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70216 , G03F7/70425
摘要：本發明係關於一種微影裝置，其包含一支撐一基板之基板台，該基板在其一表面上具有多個對準標記。該裝置進一步包含一框架，其可相對於該基板而移動以提供用於操作之一掃描或步進模式。投影系統之一陣列橫越該框架而安置，以用於將個別圖案化光束投影至該基板之一目標部分上。複數個對準標記偵測器附接至該框架，且使用個別線性驅動機構可相對於該框架而移動。一位置感測器與每一對準標記偵測器關聯以用於判定該偵測器相對於該框架之位置。一控制系統在一微影程序期間負責該等偵測器於該基板上之對準標記圖案上方的初始定位，並負責該框架及該基板之動態對準。
简体摘要：本发明系关于一种微影设备，其包含一支撑一基板之基板台，该基板在其一表面上具有多个对准标记。该设备进一步包含一框架，其可相对于该基板而移动以提供用于操作之一扫描或步进模式。投影系统之一数组横越该框架而安置，以用于将个别图案化光束投影至该基板之一目标部分上。复数个对准标记侦测器附接至该框架，且使用个别线性驱动机构可相对于该框架而移动。一位置传感器与每一对准标记侦测器关联以用于判定该侦测器相对于该框架之位置。一控制系统在一微影进程期间负责该等侦测器于该基板上之对准标记图案上方的初始定位，并负责该框架及该基板之动态对准。

76. 发明专利

TW200627088A 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200627088A
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW094145387
申请日：2005-12-20
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：喬納斯喬可巴斯麥修斯巴賽曼 BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 史喬德尼可拉斯藍伯特斯當德斯 DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS , 克里斯汀亞歷山大胡根登 HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER , 喬翁喬納斯蘇菲亞馬莉亞馬汀斯 MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA , 喬納斯凱瑟尼斯哈伯特斯馬肯斯 MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS , 包伯史崔弗科 STREEFKERK, BOB
IPC分类号： G03F , G01N , H01L
CPC分类号： G03F9/7023 , G03F7/70341 , G03F7/70883
摘要：本發明提供一種用於校正一浸沒微影裝置之一曝光參數的方法，在該方法中，使用一量測射束量測一曝光參數，該量測射束經投影而穿過該浸沒微影裝置之投影系統與一基板台之間的一液體，且基於影響一使用該量測射束進行之量測的一物理性質之一變化而確定偏移以至少部分校正該量測曝光參數。又，提供一種量測一光學元件之一高度的裝置及方法，該光學元件連接至該浸沒微影裝置之該投影系統與該基板台之間的液體。
简体摘要：本发明提供一种用于校正一浸没微影设备之一曝光参数的方法，在该方法中，使用一量测射束量测一曝光参数，该量测射束经投影而穿过该浸没微影设备之投影系统与一基板台之间的一液体，且基于影响一使用该量测射束进行之量测的一物理性质之一变化而确定偏移以至少部分校正该量测曝光参数。又，提供一种量测一光学组件之一高度的设备及方法，该光学组件连接至该浸没微影设备之该投影系统与该基板台之间的液体。

77. 发明专利

TWI258639B 微影投影裝置及用於其之基板固定器 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND SUBSTRATE HOLDER FOR THE SAME 有权
简体标题：微影投影设备及用于其之基板固定器 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND SUBSTRATE HOLDER FOR THE SAME
公开(公告)号：TWI258639B
公开(公告)日：2006-07-21
申请号：TW093117964
申请日：2004-06-21
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：捷寇安德安魯朶爾范英派爾 VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF , 愛恩羅德克亨利卡斯喬漢斯范密爾 VAN MEER, ASCHWIN LODEWIJK HENDRICUS JOHANNES , 孔恩賈庫博喬漢斯馬利亞薩爾 ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 湯恩安特捷 AANTJES, TON
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/707
摘要：一種微影投影裝置，其包括：一輻射系統，用於提供一輻射投影光束；一支撐結構，用以支撐圖案化構件，該等圖案化構件係用於根據預期圖案來圖案化該投影光束；一基板固定器，其包括複數個第一突出部，該等突出部的末端會界定一第一接觸表面，用以接觸一基板，該基板固定器配備鉗止構件，用以將該基板鉗止於該第一接觸表面之上；以及一投影系統，用於將該已圖案化的光束投影至該基板的一目標部份之上。該基板固定器包括複數個第二突出部，該等突出部的遠端會界定一第二接觸表面，用以支撐該基板，其中該等第二突出部的係排列於該基板被鉗止於該第一接觸表面之上時讓該第二接觸表面與該第一接觸表面實質相符，而且於該基板未被鉗止於該第一接觸表面之上時讓該晶圓與該第一接觸表面分離。
简体摘要：一种微影投影设备，其包括：一辐射系统，用于提供一辐射投影光束；一支撑结构，用以支撑图案化构件，该等图案化构件系用于根据预期图案来图案化该投影光束；一基板固定器，其包括复数个第一突出部，该等突出部的末端会界定一第一接触表面，用以接触一基板，该基板固定器配备钳止构件，用以将该基板钳止于该第一接触表面之上；以及一投影系统，用于将该已图案化的光束投影至该基板的一目标部份之上。该基板固定器包括复数个第二突出部，该等突出部的远程会界定一第二接触表面，用以支撑该基板，其中该等第二突出部的系排列于该基板被钳止于该第一接触表面之上时让该第二接触表面与该第一接触表面实质相符，而且于该基板未被钳止于该第一接触表面之上时让该晶圆与该第一接触表面分离。

78. 发明专利

TW200625016A 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 失效
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200625016A
公开(公告)日：2006-07-16
申请号：TW094134003
申请日：2005-09-29
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：海蕊克赫曼瑪蓮寇克絲 COX, HENRIKUS HERMAN MARIE , 漢司巴特勒 BUTLER, HANS , 羅那多凱司伯肯司特 KUNST, RONALD CASPER , 海曼克萊斯凡德蕭特 VAN DER SCHOOT, HARMEN KLAAS , 葉瑟芙卡倫馬莉雅丹佛絲 DE VOS, YOUSSEF KAREL MARIA
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70725
摘要：為了使得一微影裝置之一圖案支撐件或一基板台之高加速度及高移動速度成為可能，藉由一用於相對較大位移之致動器來支撐該圖案支撐件及該基板台中的一者，而省略一用於精確定位之致動器。藉由一致動器總成來支撐該圖案支撐件及該基板台中的另一者，該致動器總成包括一用於精確定位之致動器及一用於相對較大位移之致動器。藉由提供一控制系統來達成一圖案化器件及一基板的一對準精確度，該控制系統適用於定位該圖案支撐件及該基板台中之另一者，以致藉由定位該圖案支撐件及該基板台中之該另一者，而補償該圖案支撐件及該基板台中之該一者的定位誤差。
简体摘要：为了使得一微影设备之一图案支撑件或一基板台之高加速度及高移动速度成为可能，借由一用于相对较大位移之致动器来支撑该图案支撑件及该基板台中的一者，而省略一用于精确定位之致动器。借由一致动器总成来支撑该图案支撑件及该基板台中的另一者，该致动器总成包括一用于精确定位之致动器及一用于相对较大位移之致动器。借由提供一控制系统来达成一图案化器件及一基板的一对准精确度，该控制系统适用于定位该图案支撑件及该基板台中之另一者，以致借由定位该图案支撑件及该基板台中之该另一者，而补偿该图案支撑件及该基板台中之该一者的定位误差。

79. 发明专利

TWI257533B 具包括凸面與凹面鏡之集光器之微影投影裝置 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS WITH COLLECTOR INCLUDING CONCAVE AND CONVEX MIRRORS 失效
简体标题：具包括凸面与凹面镜之集光器之微影投影设备 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS WITH COLLECTOR INCLUDING CONCAVE AND CONVEX MIRRORS
公开(公告)号：TWI257533B
公开(公告)日：2006-07-01
申请号：TW093110723
申请日：2004-04-16
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：維頂維根維齊斑尼 BANINE, VADIM YEVGENYEVICH
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/70175
摘要：一種微影投影裝置，其包含一具有一集光器之遠紫外線(EUV)源，該集光器具有一設置在一凹曲表面上之第一反射器及一設置在一凸曲表面上之第二反射器，以獲得一聚歛的EUV輻射束。這些表面係用以鑲裝若干面鏡於其上。這表示可以省略在該集光器下游處設置若干面鏡。
简体摘要：一种微影投影设备，其包含一具有一集光器之远紫外线(EUV)源，该集光器具有一设置在一凹曲表面上之第一反射器及一设置在一凸曲表面上之第二反射器，以获得一聚敛的EUV辐射束。这些表面系用以镶装若干面镜于其上。这表示可以省略在该集光器下游处设置若干面镜。

80. 发明专利

TW200619871A 微影投影設備 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS 审中-公开
简体标题：微影投影设备 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS
公开(公告)号：TW200619871A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW094145721
申请日：2002-06-11
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：馬克克龍 MARK KROON , 珍艾佛特凡德瓦夫 JAN EVERT VAN DER WERF , 哈可菲特可克 HAICO VICTOR KOK
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：一種微影投影設備，包括一輻射系統用以提供一輻射投影光束；一支持結構，用以支持圖形形成裝置，該圖形形成裝置用於使該投影光束根據一所需圖形產生圖形；一基板台，用以固持一基板；一投影系統，用於將該已具形光束投影到訪基板的一靶標部分上；及一影像感測元件，用於量測已具形投影光束中的圖形。該影像感測元件包括一厚平板，該厚平板設有至少一個輻射敏感感測器在厚平板的一第一表面上，該感測器是該厚平板整體的一部分，而且是對該投影光束的輻射敏感；並包括一對於該投影光束的輻射是不透明之一材料之一薄膜，該薄膜是設置在該厚平板上在該感測器的上面，並在該感測器上方設置一具圖形的部分，俾以選擇性將該投影光束投射到該感測器上。該厚平板是用一與該第一表面相反的第二表面，安裝在一中間平板的承板面上。
简体摘要：一种微影投影设备，包括一辐射系统用以提供一辐射投影光束；一支持结构，用以支持图形形成设备，该图形形成设备用于使该投影光束根据一所需图形产生图形；一基板台，用以固持一基板；一投影系统，用于将该已具形光束投影到访基板的一靶标部分上；及一影像传感组件，用于量测已具形投影光束中的图形。该影像传感组件包括一厚平板，该厚平板设有至少一个辐射敏感传感器在厚平板的一第一表面上，该传感器是该厚平板整体的一部分，而且是对该投影光束的辐射敏感；并包括一对于该投影光束的辐射是不透明之一材料之一薄膜，该薄膜是设置在该厚平板上在该传感器的上面，并在该传感器上方设置一具图形的部分，俾以选择性将该投影光束投射到该传感器上。该厚平板是用一与该第一表面相反的第二表面，安装在一中间平板的承板面上。

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