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61. 发明专利

TWI269124B 微影投影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 失效
简体标题：微影投影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI269124B
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：TW093139875
申请日：2004-12-21
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：派特威廉鶴鳴戴嘉格 DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70933
摘要：本發明揭示一種用以圖案化一基板之系統及方法。自一輻射系統接收到的一投影光束係使用一個別可控制元件的陣列圖案化。該投影光束的一部份係被直接導引至該等個別可控制元件中之一上，且使用聚焦元件的一第一陣列中每一個收集自該等個別可控制元件中之一反射的輻射。聚焦元件之該第一陣列的一影像係使用一投影系統投影至聚焦元件的一第二陣列上，因此從該等個別可控制元件中之一反射的輻射，會經由聚焦元件的該第一陣列中之一聚焦元件及該投影系統，投影在該第二陣列中的該等聚焦元件中之一，其將該輻射聚焦至該基板上的一點上。
简体摘要：本发明揭示一种用以图案化一基板之系统及方法。自一辐射系统接收到的一投影光束系使用一个别可控件的数组图案化。该投影光束的一部份系被直接导引至该等个别可控件中之一上，且使用聚焦组件的一第一数组中每一个收集自该等个别可控件中之一反射的辐射。聚焦组件之该第一数组的一影像系使用一投影系统投影至聚焦组件的一第二数组上，因此从该等个别可控件中之一反射的辐射，会经由聚焦组件的该第一数组中之一聚焦组件及该投影系统，投影在该第二数组中的该等聚焦组件中之一，其将该辐射聚焦至该基板上的一点上。

62. 发明专利

TWI251127B 微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI251127B
公开(公告)日：2006-03-11
申请号：TW092131520
申请日：2003-11-11
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：茄利羅夫 JOERI LOF , 愛克夏寇蘭辛嘉寇 ALEKSEY KOLESNYCHENKO , 愛立克羅勞夫魯絲垂 ERIK ROELOF LOOPSTRA , 亨迪卡斯喬漢司瑪利亞枚捷 HENDRICUS JOHANNES MARIA MEIJER , 捷羅喬漢斯蘇菲雅瑪利亞麻登思 JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA MERTENS , 喬奈思嘉瑟琳那哈博特司姆肯斯 JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS, MULKENS , 羅夫愛寇賽布蘭 ROELOF AEILKO SIEBRAND RITSEMA , 提姆瑟法蘭西斯參格 TIMOTHEUS FRANCISCUS SENGERS , 卡拉司賽門 KLAUS SIMON , 喬安那斯朶爾戴斯密特 JOANNES THEODOOR DE SMIT , 愛利克安德斯崔捷 ALEXANDER STRAAIJER , 包博斯崔夫克 BOB STREEFKERK , 海莫范參登 HELMAR VAN SANTEN , 克利斯汀愛利克安德護根擔 CHRISTIAAN, ALEXANDER HOOGENDAM , 斯喬德尼考拉司蘭博特司當德司 SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS DONDERS , 愛立克賽朶斯瑪利亞畢拉特 ERIK, THEODORUS, MARIA BIJLAART , 漢斯巴樂 HANS BUTLER , 法蘭克范絲嘉克 FRANK VAN SCHAIK
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要：本發明揭露一種微影投影裝置，其中投影系統之最終元件與基板之間之空間係以液體填注，一緣部密封構件17、117至少部分地圍繞於基板平台WT上之基板W或其他物體，以利於當成像或照射於基板之緣部時可防止重大之液體損失。
简体摘要：本发明揭露一种微影投影设备，其中投影系统之最终组件与基板之间之空间系以液体填注，一缘部密封构件17、117至少部分地围绕于基板平台WT上之基板W或其他物体，以利于当成像或照射于基板之缘部时可防止重大之液体损失。

63. 发明专利

TW200528918A 降低和監控光罩上沉澱缺陷之系統與方法 METHOD AND SYSTEM FOR REDUCING AND MONITORING PRECIPITATED DEFECTS ON MASK RETICLES 审中-公开
简体标题：降低和监控光罩上沉淀缺陷之系统与方法 METHOD AND SYSTEM FOR REDUCING AND MONITORING PRECIPITATED DEFECTS ON MASK RETICLES
公开(公告)号：TW200528918A
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：TW093129125
申请日：2004-09-24
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：戴逸明 DAI, YI MING , 林庭瑜 LIN, TINGYU , 藍和谷 LAN, HOKU , 滕立功 TURN, LIKONG , 劉恆信 LIU, HENGHSIN , 劉曉强 LIU, LOUIE , 吳東立 WU, TONY , 廖啓宏 LIAO, CHIHUNG
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70741 , G03F7/70983
摘要：一種降低和監控光罩上沉澱缺陷之系統與方法，係在光罩組件周圍的環境中導入一預定的氣體，以降低在短波長微影系統中，所產生沉澱缺陷的情形。
简体摘要：一种降低和监控光罩上沉淀缺陷之系统与方法，系在光罩组件周围的环境中导入一预定的气体，以降低在短波长微影系统中，所产生沉淀缺陷的情形。

64. 发明专利

TW200500817A 圖案描繪裝置及圖案描繪方法 PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD 失效
简体标题：图案描绘设备及图案描绘方法 PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD
公开(公告)号：TW200500817A
公开(公告)日：2005-01-01
申请号：TW093109909
申请日：2004-04-09
申请人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 須川成利 SUGAWA, SHIGETOSHI , 柳田公雄 YANAGIDA, KIMIO , 武久究 TAKEHISA, KIWAMU
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/70433 , G03F7/70441 , G03F7/70466 , G03F7/70866
摘要：使用從包含以二維陣列來排列之微小反射鏡的反射鏡裝置所輸出的投影圖案，來於基板上描繪圖案的圖案描繪方法中，對各微小反射鏡進行ON／OFF控制的同時，使來自反射鏡裝置的投影圖案，至少於一維的方向一部分重疊，來進行曝光，藉此可以正確地控制中間光能曝光。
简体摘要：使用从包含以二维数组来排列之微小反射镜的反射镜设备所输出的投影图案，来于基板上描绘图案的图案描绘方法中，对各微小反射镜进行ON／OFF控制的同时，使来自反射镜设备的投影图案，至少于一维的方向一部分重叠，来进行曝光，借此可以正确地控制中间光能曝光。

65. 发明专利

TWI222668B 氣體清除方法及曝光裝置、以及元件製造方法失效
简体标题：气体清除方法及曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI222668B
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：TW091136791
申请日：2002-12-20
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：白石直正
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70866
摘要：為實現不必使用大型且重之氣密型遮蔽容器，而將配置於既定波長光之光路上的物體與光學裝置之間之空間的高精度之氣體置換。
將配置於既定波長光EL之光路上的特定物體RST(或 R)與光學裝置ILU之間之空間，進行氣體清除時，以與特定物體之間形成既定間隙之狀態下，配置用以將光學裝置與特定物體之間之空間IM與外氣阻隔的遮蔽構件22，將吸收該光之特性小的特定氣體，透過連接於遮蔽構件的供氣用配管60供應於該空間IM。又，將空間IM內之內部氣體，透過連接於遮蔽構件的排氣用配管61向外部排氣。藉此，僅使用覆蓋光學裝置與特定物體之間之空間的小型遮蔽構件，能進行與使用大型且重之氣密型遮蔽容器時大致相同程度的高精度之氣體置換。
简体摘要：为实现不必使用大型且重之气密型屏蔽容器，而将配置于既定波长光之光路上的物体与光学设备之间之空间的高精度之气体置换。将配置于既定波长光EL之光路上的特定物体RST(或 R)与光学设备ILU之间之空间，进行气体清除时，以与特定物体之间形成既定间隙之状态下，配置用以将光学设备与特定物体之间之空间IM与外气阻隔的屏蔽构件22，将吸收该光之特性小的特定气体，透过连接于屏蔽构件的供气用配管60供应于该空间IM。又，将空间IM内之内部气体，透过连接于屏蔽构件的排气用配管61向外部排气。借此，仅使用覆盖光学设备与特定物体之间之空间的小型屏蔽构件，能进行与使用大型且重之气密型屏蔽容器时大致相同程度的高精度之气体置换。

66. 发明专利

TW200407967A 溫度控制方法及裝置、曝光方法及裝置、以及元件製造方法失效
简体标题：温度控制方法及设备、曝光方法及设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW200407967A
公开(公告)日：2004-05-16
申请号：TW092123901
申请日：2003-08-29
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , 吉田友之
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70858 , F24F3/161 , F24F11/30 , F24F2003/1614 , F24F2003/1621 , F24F2110/10 , F24F2110/20 , G03F7/70866 , G03F7/70875 , G03F7/70933
摘要：為提供一種溫度控制技術與曝光技術，在使用溫度受控制之流體時，就算使用隨流體之狀態會產生熱變化之裝置，仍可獲得高精度的溫度控制。將由溫度控制對象之標線片室32回收之氣體、與來自氣體供給源35之高純度清除氣體在混合部45混合，利用冷凍機47降低混合氣體之溫度後，以濕度感測器49測量該濕度。測量後之氣體經過加熱機52、隨濕度吸放熱之化學過濾器53以及防塵過濾器54供給至標線片室32。根據標線片室32內之溫度感測器39B提供之溫度資訊與濕度感測器49提供之濕度資訊，來控制在加熱機52之該氣體之加熱量。
简体摘要：为提供一种温度控制技术与曝光技术，在使用温度受控制之流体时，就算使用随流体之状态会产生热变化之设备，仍可获得高精度的温度控制。将由温度控制对象之标线片室32回收之气体、与来自气体供给源35之高纯度清除气体在混合部45混合，利用冷冻机47降低混合气体之温度后，以湿度传感器49测量该湿度。测量后之气体经过加热机52、随湿度吸放热之化学过滤器53以及防尘过滤器54供给至标线片室32。根据标线片室32内之温度传感器39B提供之温度信息与湿度传感器49提供之湿度信息，来控制在加热机52之该气体之加热量。

67. 发明专利

TW200307979A 氣體清除方法及曝光裝置、以及元件製造方法失效
简体标题：气体清除方法及曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW200307979A
公开(公告)日：2003-12-16
申请号：TW091136791
申请日：2002-12-20
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：白石直正
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70866
摘要：為實現不必使用大型且重之氣密型遮蔽容器，而將配置於既定波長光之光路上的物體與光學裝置之間之空間的高精度之氣體置換。將配置於既定波長光EL之光路上的特定物體RST（或R）與光學裝置ILU之間之空間，進行氣體清除時，以與特定物體之間形成既定間隙之狀態下，配置用以將光學裝置與特定物體之間之空間IM與外氣阻隔的遮蔽構件22，將吸收該光之特性小的特定氣體，透過連接於遮蔽構件的供氣用配管60供應於該空間IM。又，將空間IM內之內部氣體，透過連接於遮蔽構件的排氣用配管61向外部排氣。藉此，僅使用覆蓋光學裝置與特定物體之間之空間的小型遮蔽構件，能進行與使用大型且重之氣密型遮蔽容器時大致相同程度的高精度之氣體置換。
简体摘要：为实现不必使用大型且重之气密型屏蔽容器，而将配置于既定波长光之光路上的物体与光学设备之间之空间的高精度之气体置换。将配置于既定波长光EL之光路上的特定物体RST（或R）与光学设备ILU之间之空间，进行气体清除时，以与特定物体之间形成既定间隙之状态下，配置用以将光学设备与特定物体之间之空间IM与外气阻隔的屏蔽构件22，将吸收该光之特性小的特定气体，透过连接于屏蔽构件的供气用配管60供应于该空间IM。又，将空间IM内之内部气体，透过连接于屏蔽构件的排气用配管61向外部排气。借此，仅使用覆盖光学设备与特定物体之间之空间的小型屏蔽构件，能进行与使用大型且重之气密型屏蔽容器时大致相同程度的高精度之气体置换。

68. 发明专利

TW418349B 曝光設備之標準標記的保護裝置失效
简体标题：曝光设备之标准标记的保护设备
公开(公告)号：TW418349B
公开(公告)日：2001-01-11
申请号：TW086109474
申请日：1997-07-03
申请人：三星電子股份有限公司
发明人：朴淳鍾
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F9/70
摘要：一種曝光設備的標準標記藉由裝置的保護來防止受到污染，該保護裝置包括一個在該標準標記的上面被選擇性地關閉或開啟而藉以遮蓋該標準標記之像開閉器的蓋子機組、一個用以供應驅動力進入該蓋子機組之中的驅動力供應部分、以及一個用以控制其驅動的控制部分等等。
简体摘要：一种曝光设备的标准标记借由设备的保护来防止受到污染，该保护设备包括一个在该标准标记的上面被选择性地关闭或打开而借以遮盖该标准标记之像开闭器的盖子机组、一个用以供应驱动力进入该盖子机组之中的驱动力供应部分、以及一个用以控制其驱动的控制部分等等。

69. 发明专利

TW313535B 步進機真空吸座擦拭器失效
简体标题：步进机真空吸座擦拭器
公开(公告)号：TW313535B
公开(公告)日：1997-08-21
申请号：TW085112455
申请日：1996-10-11
申请人：聯華電子股份有限公司
发明人：呂忠乾 , 李錫煌 , 唐恩田
IPC分类号： B08B
CPC分类号： G03F7/707 , B08B1/00 , G03F7/70866 , H01L21/6833
摘要：一種步進機真空吸座擦拭器，可使用於清潔步進機真空吸座。步進機真空吸座擦拭器包括：一桿型主體，其第一端有一通孔；一軸承裝置套接於通孔內側；一喇叭形軟性材質護套套接於軸承裝置內側，其喇叭口位於下方，且喇叭口端面直徑大於軸承裝置外徑；一擦拭棒套接於喇叭形軟性材質護套內側；以及一照明裝置，用以照明擦拭部位，包括一發光器，一電池組藕接於桿型主體之第二端，用以提供發光器發光所需之電能，及一開關藕接至發光器與電池組，用以控制發光器之明暗，其中發光器與開關皆配置於桿型主體上。
简体摘要：一种步进机真空吸座擦拭器，可使用于清洁步进机真空吸座。步进机真空吸座擦拭器包括：一杆型主体，其第一端有一通孔；一轴承设备套接于通孔内侧；一喇叭形软性材质护套套接于轴承设备内侧，其喇叭口位于下方，且喇叭口端面直径大于轴承设备外径；一擦拭棒套接于喇叭形软性材质护套内侧；以及一照明设备，用以照明擦拭部位，包括一发光器，一电池组藕接于杆型主体之第二端，用以提供发光器发光所需之电能，及一开关藕接至发光器与电池组，用以控制发光器之明暗，其中发光器与开关皆配置于杆型主体上。

70. 发明专利

TW215512B 光學薄膜握持器失效
简体标题：光学薄膜握持器
公开(公告)号：TW215512B
公开(公告)日：1993-11-01
申请号：TW081100852
申请日：1992-02-08
申请人：嚴雍載
发明人：嚴雍載
IPC分类号： H04N , G02B , G02F
CPC分类号： H01L21/67346 , G03F1/64 , G03F1/66 , G03F7/70866
摘要：一種用以將光學薄膜握持住的裝置，係由一薄膜架構及一薄膜膜皮所構成。此裝置包括一個實際上為硬的平面元件，具有一中間的置放視窗以便可移的的容納一光學薄膜。該視窗的內部大小僅較該薄膜的外部大小略大一些，即如在該平面元件及薄膜間以一種摩擦配合的方式結合者著。該平面元件包括一個靠在該處的凸肩以供該薄膜放置於該處。該凸肩向內延伸之程度不可較該薄膜架構的厚度為大。該平面元件同時包括一傾斜部份面向該襯窗的內部以可彎曲的方式將薄膜支撐在該處。
简体摘要：一种用以将光学薄膜握持住的设备，系由一薄膜架构及一薄膜膜皮所构成。此设备包括一个实际上为硬的平面组件，具有一中间的置放窗口以便可移的的容纳一光学薄膜。该窗口的内部大小仅较该薄膜的外部大小略大一些，即如在该平面组件及薄膜间以一种摩擦配合的方式结合者着。该平面组件包括一个靠在该处的凸肩以供该薄膜放置于该处。该凸肩向内延伸之程度不可较该薄膜架构的厚度为大。该平面组件同时包括一倾斜部份面向该衬窗的内部以可弯曲的方式将薄膜支撑在该处。

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