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    • 61. 发明专利
    • 準分子燈及搭載準分子燈之紫外線照射裝置
    • 准分子灯及搭载准分子灯之紫外线照射设备
    • TW200717575A
    • 2007-05-01
    • TW095129081
    • 2006-08-08
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 中村雅規 NAKAMURA, MASAKI
    • H01J
    • H01J65/00
    • 使可對應於各個準分子燈而設置IC標籤,再者使IC標籤不會由於供電至準分子之高頻高電壓而受到不良影響,不會對在IC標籤和天線之間的通訊造成障礙。其解決手段為:在框體10之內部配置多數支準分子燈1。於準分子燈1連接高壓供電纜線12c,在該端部設置高壓供電端子12。高壓供電端子12具有絕緣支撐器,在該空洞內設置IC標籤13,在框體13設置連接高壓供電端子12之連接器11,於連接器內設置用以與IC標籤13通訊之天線14。於高壓供電纜線12c和IC標籤13之間介存高頻電流吸收體,或設置空隙,藉由高壓供電纜線12c之高頻、高電壓所產生之電磁場,IC標籤不會受到不良影響。
    • 使可对应于各个准分子灯而设置IC标签,再者使IC标签不会由于供电至准分子之高频高电压而受到不良影响,不会对在IC标签和天线之间的通信造成障碍。其解决手段为:在框体10之内部配置多数支准分子灯1。于准分子灯1连接高压供电缆线12c,在该端部设置高压供电端子12。高压供电端子12具有绝缘支撑器,在该空洞内设置IC标签13,在框体13设置连接高压供电端子12之连接器11,于连接器内设置用以与IC标签13通信之天线14。于高压供电缆线12c和IC标签13之间介存高频电流吸收体,或设置空隙,借由高压供电缆线12c之高频、高电压所产生之电磁场,IC标签不会受到不良影响。
    • 62. 发明专利
    • 光照射裝置
    • 光照射设备
    • TWI276926B
    • 2007-03-21
    • TW093136167
    • 2004-11-24
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 大澤理 OSAWA, OSAMU
    • G03FH01L
    • 本發明揭示一種光照射裝置,其主要課題是即使使用照射區域狹小的積光鏡(integrator lens),光源像也不會超越到相鄰的透鏡,以避免光照射面上之曝光精度惡化。
      本發明之光照射裝置是將光源1射出的光,經由積光鏡4照射在光照射面8。在光源1附近設有用來遮住來自光源1的光,使射入積光鏡4的光的聚光角變小的遮光手段2。使光入射側透鏡群4a藉由透鏡移動機構4d朝光軸方向移動,要加長積光鏡4之光入射側透鏡群4a與光出射側透鏡群4b間的距離,使上述照射區域變小時是將上述遮光手段2插入光路內。而要縮短上述距離,使上述照射區域變大時是使上述遮光手段2從光路內退開。此外,亦可將遮光手段設在沿著積光鏡4之光出射側透鏡群的交界面之間。
    • 本发明揭示一种光照射设备,其主要课题是即使使用照射区域狭小的积光镜(integrator lens),光源像也不会超越到相邻的透镜,以避免光照射面上之曝光精度恶化。 本发明之光照射设备是将光源1射出的光,经由积光镜4照射在光照射面8。在光源1附近设有用来遮住来自光源1的光,使射入积光镜4的光的聚光角变小的遮光手段2。使光入射侧透镜群4a借由透镜移动机构4d朝光轴方向移动,要加长积光镜4之光入射侧透镜群4a与光出射侧透镜群4b间的距离,使上述照射区域变小时是将上述遮光手段2插入光路内。而要缩短上述距离,使上述照射区域变大时是使上述遮光手段2从光路内退开。此外,亦可将遮光手段设在沿着积光镜4之光出射侧透镜群的交界面之间。
    • 63. 发明专利
    • 放電燈供電裝置
    • 放电灯供电设备
    • TWI256276B
    • 2006-06-01
    • TW092108685
    • 2003-04-15
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 岡本昌士 OKAMOTO, MASASHI福田稔竹清敦
    • H05B
    • H05B41/2928H05B41/388Y02B20/208
    • 本發明具有高亮度放電燈的光源裝置的供電裝置中,可解決電弧放電轉移時電燈壽命縮短的問題。
      其解決手段,為了解決以上問題,上述供電裝置是控制使上述放電燈中流動的電流不超過預定的電流控制值,上述放電燈轉移至電弧放電為止,上述電流控制值為第1限制值,具有隨後將上述電流限制值變更為第2限制值的功能,上述第1限制值為上述第2限制值得70%以下,且上述放電燈轉移至電弧放電後,0.2ms以上的期間構成上述電流限制值保持著第1限制值。
    • 本发明具有高亮度放电灯的光源设备的供电设备中,可解决电弧放电转移时电灯寿命缩短的问题。 其解决手段,为了解决以上问题,上述供电设备是控制使上述放电灯中流动的电流不超过预定的电流控制值,上述放电灯转移至电弧放电为止,上述电流控制值为第1限制值,具有随后将上述电流限制值变更为第2限制值的功能,上述第1限制值为上述第2限制值得70%以下,且上述放电灯转移至电弧放电后,0.2ms以上的期间构成上述电流限制值保持着第1限制值。
    • 64. 发明专利
    • 光配向用偏光光線照射裝置
    • 光配向用偏光光线照射设备
    • TW200615657A
    • 2006-05-16
    • TW094125483
    • 2005-07-27
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 鹽谷紗由 SHIOTANI, SAYU
    • G02F
    • 本發明之課題提供一種可照射偏光軸之不平均較少之偏光光線,而於光配向膜產生期望方向之配向的光配向用偏光光線照射裝置。本發明之解決手段使來自具備棒狀燈21和管狀聚光鏡22,且光射出側具有線柵偏光元件10之光線照射部20的偏光光線,照射於光配向膜41來進行光配向處理。支撐光線照射部20之支柱24,係沿著軌道26移動,而光線照射部20則於對被搬運之光配向膜正交的軸附近,來旋轉移動。為了將光配向膜41之光配向方向設定為任意角度,係使光線照射部20於對光配向膜正交的軸附近來旋轉移動。因為光線照射部整體旋轉移動,故燈21之長邊方向和偏光元件10之線柵方向的關係不會變化,偏光軸之不平均也不會變化。更且,為了使偏光光線傾斜射入光配向膜41,亦可使光線照射部20傾斜地構成。
    • 本发明之课题提供一种可照射偏光轴之不平均较少之偏光光线,而于光配向膜产生期望方向之配向的光配向用偏光光线照射设备。本发明之解决手段使来自具备棒状灯21和管状聚光镜22,且光射出侧具有线栅偏光组件10之光线照射部20的偏光光线,照射于光配向膜41来进行光配向处理。支撑光线照射部20之支柱24,系沿着轨道26移动,而光线照射部20则于对被搬运之光配向膜正交的轴附近,来旋转移动。为了将光配向膜41之光配向方向设置为任意角度,系使光线照射部20于对光配向膜正交的轴附近来旋转移动。因为光线照射部整体旋转移动,故灯21之长边方向和偏光组件10之线栅方向的关系不会变化,偏光轴之不平均也不会变化。更且,为了使偏光光线倾斜射入光配向膜41,亦可使光线照射部20倾斜地构成。
    • 65. 发明专利
    • 準分子光燈裝置
    • 准分子光灯设备
    • TW200609990A
    • 2006-03-16
    • TW094118383
    • 2005-06-03
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 村上悟司 MURAKAMI, SATOSHI藤次英樹 FUJITUGU, HIDEKI廣瀨賢一 HIROSE, KENICHI
    • H01J
    • 本發明之課題提供一種即使對超過1000mm之長尺寸燈,亦可簡單且安全地進行更換,而可避免燈室內或輸送(Conveyer)室內被污染,可靠度較高的準分子光燈裝置。本發明之解決手段一種於燈室內收容準分子光燈,而將來自燈之紫外線照射往外部的準分子光燈裝置;其特徵係具備於燈室(10)內部平行並排的複數板狀方框(110);和被成形為略矩形箱型,底部形成有燈收容部(125)的單元(120);和被收容於燈收容部的準分子光燈(121);上述單元(120),係被插入於相對配置之方框(110、110)之間,同時可取出地被該方框(110、110)支撐。
    • 本发明之课题提供一种即使对超过1000mm之长尺寸灯,亦可简单且安全地进行更换,而可避免灯室内或输送(Conveyer)室内被污染,可靠度较高的准分子光灯设备。本发明之解决手段一种于灯室内收容准分子光灯,而将来自灯之紫外线照射往外部的准分子光灯设备;其特征系具备于灯室(10)内部平行并排的复数板状方框(110);和被成形为略矩形箱型,底部形成有灯收容部(125)的单元(120);和被收容于灯收容部的准分子光灯(121);上述单元(120),系被插入于相对配置之方框(110、110)之间,同时可取出地被该方框(110、110)支撑。
    • 66. 发明专利
    • 光處理裝置
    • 光处理设备
    • TWI251094B
    • 2006-03-11
    • TW089117277
    • 2000-08-25
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 飯田知之諸石光太郎
    • G02F
    • 提供有光處理裝置,不會使得用以抑制被照射物昇溫的熱線吸收濾光器之特性惡化,來可以進行光處理。又提供一種光處理裝置不會使熱線吸收濾光器之特性惡化,同時藉由有色玻璃濾光器之輻射熱不會使被照射物昇溫。
      將燈管1之光,依深紫外線切斷濾光器3使330nm以下之波長的光除去或衰減,及熱線吸收濾光器4使750nm以上之波長的光除去或衰減之順序使透過並照射於被照射物L。又,將熱線吸收濾光器4藉由流通閉空間的通風路之冷卻風加以冷卻。
    • 提供有光处理设备,不会使得用以抑制被照射物升温的热线吸收滤光器之特性恶化,来可以进行光处理。又提供一种光处理设备不会使热线吸收滤光器之特性恶化,同时借由有色玻璃滤光器之辐射热不会使被照射物升温。 将灯管1之光,依深紫外线切断滤光器3使330nm以下之波长的光除去或衰减,及热线吸收滤光器4使750nm以上之波长的光除去或衰减之顺序使透过并照射于被照射物L。又,将热线吸收滤光器4借由流通闭空间的通风路之冷却风加以冷却。
    • 67. 发明专利
    • 準分子燈點燈裝置
    • 准分子灯点灯设备
    • TW200608483A
    • 2006-03-01
    • TW094114260
    • 2005-05-03
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 中村雅規 NAKAMURA, MASAKI山森賢治 YAMAMORI, KENJI
    • H01L
    • H05B41/2813H01J65/046H01L21/67115Y02B20/22
    • 本發明是提供不會使電力供應給加熱機構之電源電路變複雜又大型化,且裝置的電路構成簡單化之準分子燈點燈裝置。該準分子燈點燈裝置係具備有:將稀有氣體封裝至放電空間之準分子燈5、及將準分子燈5點燈之準分子燈點燈用電源1和3、及內部配置有準分子燈5之燈室9、及將燈室9中準分子燈5所放射的準分子光透過之玻璃製的窗部8,其特徵為:在窗部8,設有從準分子燈點燈用電源1所供電之感應加熱線圈6、及藉由感應加熱線圈6來感應加熱,且形成準分子光可從窗部8透過並將窗部8加熱之感應加熱用導體7。
    • 本发明是提供不会使电力供应给加热机构之电源电路变复杂又大型化,且设备的电路构成简单化之准分子灯点灯设备。该准分子灯点灯设备系具备有:将稀有气体封装至放电空间之准分子灯5、及将准分子灯5点灯之准分子灯点灯用电源1和3、及内部配置有准分子灯5之灯室9、及将灯室9中准分子灯5所放射的准分子光透过之玻璃制的窗部8,其特征为:在窗部8,设有从准分子灯点灯用电源1所供电之感应加热线圈6、及借由感应加热线圈6来感应加热,且形成准分子光可从窗部8透过并将窗部8加热之感应加热用导体7。
    • 69. 发明专利
    • 光配向用偏光光照射裝置及光配向用偏光光照射裝置的偏光軸之調整方法
    • 光配向用偏光光照射设备及光配向用偏光光照射设备的偏光轴之调整方法
    • TW200530709A
    • 2005-09-16
    • TW093126380
    • 2004-09-01
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 三宮曉史 SANGU, AKIFUMI大澤理 OSAWA, OSAMU
    • G02F
    • G02F1/133788G02B27/286
    • 本發明之課題在於,於光配向用偏光光照射裝置當中,降低光照射面中之偏光軸的分散。本發明之解決手段為,包含照射燈1a所放射出的紫外線的光,於橢圓形聚光鏡1b當中聚光,介於第1平面鏡2及濾鏡4,藉由可由透鏡移動機構來調整光軸方向的位置之透鏡 5,而調整為平行光,並入射於偏光元件 6。入射於偏光元件6的光被偏光而分離,並入射於積分器7而使照度分佈達到一致,之後照射於圖中未顯示之配置於光照射面的處理件。由於設定為可調整透鏡5的光軸方向的位置,因此可改變對入射於偏光元件6及積分器7的主光線的光軸之平行度(遠心度(Telecentric))。因此,於光照射面上,可以使偏光軸的分散降到最低的方式,調整透鏡5的位置。
    • 本发明之课题在于,于光配向用偏光光照射设备当中,降低光照射面中之偏光轴的分散。本发明之解决手段为,包含照射灯1a所放射出的紫外线的光,于椭圆形聚光镜1b当中聚光,介于第1平面镜2及滤镜4,借由可由透镜移动机构来调整光轴方向的位置之透镜 5,而调整为平行光,并入射于偏光组件 6。入射于偏光组件6的光被偏光而分离,并入射于积分器7而使照度分布达到一致,之后照射于图中未显示之配置于光照射面的处理件。由于设置为可调整透镜5的光轴方向的位置,因此可改变对入射于偏光组件6及积分器7的主光线的光轴之平行度(远心度(Telecentric))。因此,于光照射面上,可以使偏光轴的分散降到最低的方式,调整透镜5的位置。
    • 70. 发明专利
    • 處理裝置
    • 处理设备
    • TW200518214A
    • 2005-06-01
    • TW093126532
    • 2004-09-02
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 松野博光 MATSUNO, HIROMITSU菱沼宣是 HISHINUMA, NOBUYUKI菅原寬 SUGAHARA, HIROSHI
    • H01L
    • 本發明之課題本發明係提供與先前,藉由活性化氧之處理不同,抑制被處理物之氧化之影響的處理裝置。更且,以提供利用真空紫外光之處理裝置,使藉由活性化氧之處理所無法獲得充分處理速度之處理,例如注入離子之光阻劑灰化.除去者,成為可能之處理裝置為目的。本發明之解決手段具備放射真空紫外光之光源,和具備該光源之放電容器以及/或處理空間,並配置有將經由光線照射而活性化之氣體加以導入之導入口的處理裝置;其中該活性化氣體係NmHn(N為氮原子,H為氫原子,m、n為任意之自然數),其特徵係具備以自上述光源放射之真空紫外光,照射該NmHn氣體之手段。
    • 本发明之课题本发明系提供与先前,借由活性化氧之处理不同,抑制被处理物之氧化之影响的处理设备。更且,以提供利用真空紫外光之处理设备,使借由活性化氧之处理所无法获得充分处理速度之处理,例如注入离子之光阻剂灰化.除去者,成为可能之处理设备为目的。本发明之解决手段具备放射真空紫外光之光源,和具备该光源之放电容器以及/或处理空间,并配置有将经由光线照射而活性化之气体加以导入之导入口的处理设备;其中该活性化气体系NmHn(N为氮原子,H为氢原子,m、n为任意之自然数),其特征系具备以自上述光源放射之真空紫外光,照射该NmHn气体之手段。