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51. 发明专利

TWI620930B 殘留毒物檢測系統及其方法有权
简体标题：残留毒物检测系统及其方法
公开(公告)号：TWI620930B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW106104870
申请日：2017-02-15
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張家榮 , CHANG, CHIA JUNG , 蔡睿浤 , TSAI, JUI HUNG , 許志豪 , HSU, CHIH HAO , 林靖淵 , LIN, JING YUAN
IPC分类号： G01N21/85 , G01N21/31 , G01N33/18 , G01N33/15 , A23N12/02

52. 发明专利

TW201804980A 固體製劑用模板生成方法、儲存有固體製劑用模板生成程式之電腦可讀儲存媒體、固體製劑印刷檢查方法以及固體製劑印刷檢查裝置审中-公开
简体标题：固体制剂用模板生成方法、存储有固体制剂用模板生成进程之电脑可读存储媒体、固体制剂印刷检查方法以及固体制剂印刷检查设备
公开(公告)号：TW201804980A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106100178
申请日：2017-01-04
申请人：服洛因得產業股份有限公司 , FREUND CORPORATION
发明人：蜂谷栄一 , HACHIYA, EIICHI , 米田睦仁 , YONETA, MUTSUHITO , 今井聖 , IMAI, KIYOSHI
IPC分类号： A61J3/06 , A61J3/07 , B41J29/393 , B41J3/407 , G01N21/85 , G06T1/00 , G06T7/00
CPC分类号： A61J3/06 , A61J3/07 , B41J3/407 , B41J29/393 , G01N21/85 , G06T1/00 , G06T7/00
摘要：本發明係提供一種可節省生成檢查固型製劑表面印刷之文字等所需模板之勞力和時間的固型製劑用模板生成方法，該固體製劑用模板用以實行檢查由印刷手段印刷在固體製劑表面之文字等之固體製劑檢查工序，其特徵係具備：在由前述印刷手段將文字等印刷在檢查對象之前述固體製劑之前，對於前述檢查對象之固體製劑，基於前述印刷手段預定使用之印刷數據生成印刷檢查模板之印刷檢查模板生成工序。根據本發明可以節省生成檢查固體製劑表面印刷之文字等所需模板之勞力和時間。
简体摘要：本发明系提供一种可节省生成检查固型制剂表面印刷之文本等所需模板之劳力和时间的固型制剂用模板生成方法，该固体制剂用模板用以实行检查由印刷手段印刷在固体制剂表面之文本等之固体制剂检查工序，其特征系具备：在由前述印刷手段将文本等印刷在检查对象之前述固体制剂之前，对于前述检查对象之固体制剂，基于前述印刷手段预定使用之印刷数据生成印刷检查模板之印刷检查模板生成工序。根据本发明可以节省生成检查固体制剂表面印刷之文本等所需模板之劳力和时间。

53. 发明专利

TW201800740A 用於監測和控制沈積形成的方法和設備审中-公开
简体标题：用于监测和控制沉积形成的方法和设备
公开(公告)号：TW201800740A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW105142804
申请日：2016-12-22
申请人：克密拉股份有限公司 , KEMIRA OYJ
发明人：皮朗南馬里亞塔 , PIIRONEN, MARJATTA , 約恩蘇愛麗絲 , JOENSUU, IIRIS , 海桑保羅邁赫達德 , HESAMPOUR, MEHRDAD , 艾克曼雅克 , EKMAN, JAAKKO
IPC分类号： G01N21/64 , G01N21/94 , G01N33/18 , G01N21/85 , G06K9/78 , B01D61/12 , B01D61/22 , C02F1/00
CPC分类号： G01N21/85 , C02F1/004 , C02F1/008 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/444 , C02F1/5209 , C02F1/5281 , C02F2103/023 , C02F2103/10 , C02F2103/28 , C02F2209/00 , C02F2209/005 , C02F2303/20 , C12M1/3476 , C12M31/02 , G01N17/008 , G01N21/6428 , G01N21/6456 , G01N21/6486 , G01N21/94 , G06K9/036 , G06K9/2018 , G06K2209/19
摘要：用於在包含液流的製程中監測沈積形成之方法及設備被提供。根據本發明，水成液的給液流被提供至待監測之承接表面上。承接表面的至少一部分係以至少一光源照射。視覺資料係越過該承接表面被收集及分析。附著至該承接表面之沈積的品質及型式係基於由該經分析之視覺資料所獲得的資訊被分類，且定量積垢及/或結垢指示係基於該分類被計算。
简体摘要：用于在包含液流的制程中监测沉积形成之方法及设备被提供。根据本发明，水成液的给液流被提供至待监测之承接表面上。承接表面的至少一部分系以至少一光源照射。视觉数据系越过该承接表面被收集及分析。附着至该承接表面之沉积的品质及型式系基于由该经分析之视觉数据所获得的信息被分类，且定量积垢及/或结垢指示系基于该分类被计算。

54. 发明专利

TWI608228B 檢查裝置有权
简体标题：检查设备
公开(公告)号：TWI608228B
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：TW102148826
申请日：2013-12-27
申请人：佐竹股份有限公司 , SATAKE CORPORATION
发明人：河村陽一 , KAWAMURA, YOICHI , 池田信義 , IKEDA, NOBUYOSHI
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/85
CPC分类号： B07C5/342 , B07C2501/0018 , G01N21/85

55. 发明专利

TW201720410A 錠劑印刷裝置审中-公开
简体标题：锭剂印刷设备
公开(公告)号：TW201720410A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105125460
申请日：2016-08-10
申请人：服洛因得產業股份有限公司 , FREUND CORPORATION
发明人：今井聖 , IMAI, KIYOSHI , 村上聡 , MURAKAMI, SATOSHI , 米田睦人 , YONETA, MUTSUHITO , 佐治義人 , SAJI, YOSHITO
IPC分类号： A61J3/06 , B65G65/48 , G01N21/85 , B41J2/01
CPC分类号： A61J3/06
摘要：錠劑印刷裝置(1)，是具有：搬送盤(5)，其是邊吸附支持錠劑(3)的側面(9)邊搬送錠劑(3)、以及噴墨頭(6)，其是可對藉由搬送盤(5)被搬送的錠劑(3)的表裏面(7a、7b)進行印刷處理。錠劑(3)，是在搬送盤(4)邊被吸附表裏面(7a、7b)邊被搬送，並藉由側面檢查裝置(15)檢查側面(9)。錠劑(3)，是由錠劑收授部(8)從搬送盤(4)被移到搬送盤(5)，並藉由被形成在搬送盤(5)的端面(5a)的吸附孔(18)，以表裏面(7a、7b)整體露出的狀態被吸附支持。之後，藉由噴墨頭(6)同時印刷處理錠劑(3)的表裏面(7a、7b)，在印字檢查之後，僅良品從良品排出部(10)被排出。
简体摘要：锭剂印刷设备(1)，是具有：搬送盘(5)，其是边吸附支持锭剂(3)的侧面(9)边搬送锭剂(3)、以及喷墨头(6)，其是可对借由搬送盘(5)被搬送的锭剂(3)的表里面(7a、7b)进行印刷处理。锭剂(3)，是在搬送盘(4)边被吸附表里面(7a、7b)边被搬送，并借由侧面检查设备(15)检查侧面(9)。锭剂(3)，是由锭剂收授部(8)从搬送盘(4)被移到搬送盘(5)，并借由被形成在搬送盘(5)的端面(5a)的吸附孔(18)，以表里面(7a、7b)整体露出的状态被吸附支持。之后，借由喷墨头(6)同时印刷处理锭剂(3)的表里面(7a、7b)，在印字检查之后，仅良品从良品排出部(10)被排出。

56. 发明专利

TW201712322A 具備光學單元的裝置审中-公开
简体标题：具备光学单元的设备
公开(公告)号：TW201712322A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105127499
申请日：2016-08-26
申请人：佐竹股份有限公司 , SATAKE CORPORATION , 捷耐勝股份有限公司 , GENESIA CORPORATION
发明人：河村陽一 , KAWAMURA, YOICHI , 池田信義 , IKEDA, NOBUYOSHI , 武山芸英 , TAKEYAMA, NORIHIDE , 金井美一 , KANAI, YOSHIKAZU
IPC分类号： G01N21/85 , B07C5/342
CPC分类号： B07C5/342 , G01N21/85
摘要：目的為提供一種裝置，具備小型且高精度的光學單元，能從近距離攝影被攝物體之粒狀等的物體，並捕抓該全體像。使用作為在光學單元內具備的凹曲面鏡，例如偏移拋物凹面鏡時，配置在偏移拋物凹面鏡的幾何焦點位置具有入射瞳的集光光學系統後，因為與偏移拋物凹面鏡的光軸平行入射的光線群，相對與偏移拋物凹面鏡的光軸垂直的物體面，成為遠心主光線，能夠以無死角的方式，在偏移拋物凹面鏡的焦點位置的集光光學系統所形成的二次像面上，檢出從對象物體面上的各物點發散光。再來，因為在將偏移拋物凹面鏡所反射的光束藉由反射鏡曲折後入射至集光光學系統後，檢出對象物的像，可以更加實現裝置的緊湊化及低價格化。
简体摘要：目的为提供一种设备，具备小型且高精度的光学单元，能从近距离摄影被摄物体之粒状等的物体，并捕抓该全体像。使用作为在光学单元内具备的凹曲面镜，例如偏移抛物凹面镜时，配置在偏移抛物凹面镜的几何焦点位置具有入射瞳的集光光学系统后，因为与偏移抛物凹面镜的光轴平行入射的光线群，相对与偏移抛物凹面镜的光轴垂直的物体面，成为远心主光线，能够以无死角的方式，在偏移抛物凹面镜的焦点位置的集光光学系统所形成的二次像面上，检出从对象物体面上的各物点发散光。再来，因为在将偏移抛物凹面镜所反射的光束借由反射镜曲折后入射至集光光学系统后，检出对象物的像，可以更加实现设备的紧凑化及低价格化。

57. 发明专利

TWI571188B 編帶單元及電子零件檢查裝置有权
简体标题：编带单元及电子零件检查设备
公开(公告)号：TWI571188B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102131909
申请日：2013-09-05
申请人：上野精機股份有限公司 , UENO SEIKI CO., LTD.
发明人：宮田正人 , MIYATA, MASATO
IPC分类号： H05K13/00 , G01N21/85 , G01N21/89 , B65B15/04

58. 发明专利

TWI507675B 穀粒外觀等級判別裝置之等級別重量比率計算方法有权
简体标题：谷粒外观等级判别设备之等级别重量比率计算方法
公开(公告)号：TWI507675B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW100115198
申请日：2011-04-29
申请人：佐竹股份有限公司 , SATAKE CORPORATION
发明人：石突裕樹 , ISHIZUKI, HIROKI , 江盛貴之 , EMORI, TAKAYUKI , 中田恵久 , NAKATA, YOSHIHISA
IPC分类号： G01N21/85
CPC分类号： G01N21/84 , G01N21/85 , G01N2021/8466 , G06K9/628 , G06T7/0004 , G06T2207/30128

59. 发明专利

TW201531691A 流體檢測裝置及其耦合器审中-公开
简体标题：流体检测设备及其耦合器
公开(公告)号：TW201531691A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103104439
申请日：2014-02-11
申请人：國立中山大學 , NATIONAL SUN YAT-SEN UNIVERSITY
发明人：王朝盛 , WANG, JAU SHENG , 劉廣鑄 , LAO, KUONG-CHU , 何昶緯 , HO, CHANG WEI , 陳嘉慶 , CHEN, JIA CHING
IPC分类号： G01N21/85
摘要：一種流體檢測裝置，係包含：一耦合器，具有一空心光纖、一實心光纖及一套管，該空心光纖及該實心光纖係共同包覆於該套管中；一流體輸送組件，該流體輸送組件具有一流體輸出端及一流體回收端，該流體輸出端連接該空心光纖之第一輸入端，該流體回收端連接該空心光纖之第一輸出端；一光訊號產生器，連接該實心光纖之第二輸入端；一檢測模組，具有一光感應器、一資料庫及一處理器，該光感應器連接該實心光纖之第二輸出端，該資料庫用以儲存數個樣本資料，該處理器電性連接該光感應器及該資料庫，藉此提升流體檢測效率及檢測準確度。
简体摘要：一种流体检测设备，系包含：一耦合器，具有一空心光纤、一实心光纤及一套管，该空心光纤及该实心光纤系共同包覆于该套管中；一流体输送组件，该流体输送组件具有一流体输出端及一流体回收端，该流体输出端连接该空心光纤之第一输入端，该流体回收端连接该空心光纤之第一输出端；一光信号产生器，连接该实心光纤之第二输入端；一检测模块，具有一光感应器、一数据库及一处理器，该光感应器连接该实心光纤之第二输出端，该数据库用以存储数个样本数据，该处理器电性连接该光感应器及该数据库，借此提升流体检测效率及检测准确度。

60. 发明专利

TWI458963B 被檢查物之搬送裝置及外觀檢查裝置有权
简体标题：被检查物之搬送设备及外观检查设备
公开(公告)号：TWI458963B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW097118475
申请日：2008-05-20
申请人：古歐力卡普思股份有限公司 , QUALICAPS CO., LTD.
发明人：柳生元啓 , YAGYU, MOTOHIRO , 笠井健一 , KASAI, KENICHI , 佐藤健 , SATO, KEN , 安井淳祐 , YASUI, JUNSUKE , 長尾明 , NAGAO, AKIRA , 石田哲久 , ISHIDA, TETSUHISA
IPC分类号： G01N21/85 , G01B11/00 , G06T7/00 , H05K13/02
CPC分类号： G01N21/9508 , B65G47/1421 , B65G47/1492 , B65G47/248 , B65G2201/027 , G01N2021/845

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