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51. 发明专利

TWI394013B 微影裝置，投影系統及器件製造方法有权
简体标题：微影设备，投影系统及器件制造方法
公开(公告)号：TWI394013B
公开(公告)日：2013-04-21
申请号：TW097145748
申请日：2008-11-26
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：尤里喬哈奈賈瑞爾凡迪威弗 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL , 強尼斯賀伯特斯喬瑟芬那摩斯 , MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 溫迪林喬漢娜瑪莉亞維斯提格 , VERSTEEG, WENDELIN JOHANNA MARIA , 葛瑞德斯彼得瓊克斯 , JONKERS, PETER GERARDUS
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/52
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70866 , G03F7/70883 , G03F7/70916

52. 发明专利

TW201301348A 液體回收裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法审中-公开
简体标题：液体回收设备、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201301348A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101123703
申请日：2004-08-27
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI , 高岩宏明 , TAKAIWA, HIROAKI , 荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70533 , G03F7/70866 , G03F7/70933 , G03F7/70991
摘要：本發明提供一種曝光裝置，其在發生停電等之異常情形時，亦能抑制液體流出至基板外側。曝光裝置EX，係在投影光學系統PL與基板P間之充滿液體1，透過投影光學系統PL與液體1將圖案像投影至基板P上來使基板P曝光。曝光裝置EX，包含：具有以商用電源100所供應之電力來驅動之驅動部的液體回收機構20,60、與不同於商用電源100的不斷電電源102，在商用電源100之停電時，對驅動部之電力供應即切換為以不斷電電源102來進行。
简体摘要：本发明提供一种曝光设备，其在发生停电等之异常情形时，亦能抑制液体流出至基板外侧。曝光设备EX，系在投影光学系统PL与基板P间之充满液体1，透过投影光学系统PL与液体1将图案像投影至基板P上来使基板P曝光。曝光设备EX，包含：具有以商用电源100所供应之电力来驱动之驱动部的液体回收机构20,60、与不同于商用电源100的不断电电源102，在商用电源100之停电时，对驱动部之电力供应即切换为以不断电电源102来进行。

53. 发明专利

TWI314252B 微影裝置、光柵調換單元及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS, RETICLE EXCHANGE UNIT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备、光栅调换单元及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS, RETICLE EXCHANGE UNIT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI314252B
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW094141297
申请日：2005-11-24
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：尼可拉斯闐凱特 TEN KATE, NICOLAAS
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F1/64 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70933 , G03F7/70983
摘要：本發明揭示一種在微影裝置中移動一光柵的光柵調換單元。該光柵之表面係由一光罩護膜保護,該光罩護膜係藉著一氣體可滲透光罩護膜框架附接於該光柵。該光柵調換單元包括一光柵準備室,配置以造成光罩護膜框架之複數個曝露氣體可滲透部分面對光柵準備室的內部之一光柵運輸單元,及耦合至該光柵準備室之一沖洗氣壓及抽氣壓供應源配置,其係配置以當光罩護膜框架之曝露氣體可滲透部分係面對光柵準備室內部時,交替地提供一沖洗氣壓及低於沖洗氣壓之抽氣壓至光柵準備室,使得流過該光罩護膜框架的氣體交替地進入且離開光罩護膜及光柵間之光罩護膜空間。
简体摘要：本发明揭示一种在微影设备中移动一光栅的光栅调换单元。该光栅之表面系由一光罩护膜保护,该光罩护膜系借着一气体可渗透光罩护膜框架附接于该光栅。该光栅调换单元包括一光栅准备室,配置以造成光罩护膜框架之复数个曝露气体可渗透部分面对光栅准备室的内部之一光栅运输单元,及耦合至该光栅准备室之一冲洗气压及抽气压供应源配置,其系配置以当光罩护膜框架之曝露气体可渗透部分系面对光栅准备室内部时,交替地提供一冲洗气压及低于冲洗气压之抽气压至光栅准备室,使得流过该光罩护膜框架的气体交替地进入且离开光罩护膜及光栅间之光罩护膜空间。

54. 发明专利

TW200935185A 微影裝置,投影系統及器件製造方法 A LITHOGRAPHIC APPARATUS, A PROJECTION SYSTEM AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备,投影系统及器件制造方法 A LITHOGRAPHIC APPARATUS, A PROJECTION SYSTEM AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200935185A
公开(公告)日：2009-08-16
申请号：TW097145748
申请日：2008-11-26
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：尤里喬哈奈賈瑞爾凡迪威弗 VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL , 强尼斯賀伯特斯喬瑟芬那摩斯 MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 溫迪林喬漢娜瑪莉亞維斯提格 VERSTEEG, WENDELIN JOHANNA MARIA , 葛瑞德斯彼得瓊克斯 JONKERS, PETER GERARDUS
IPC分类号： G03F , G03B
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70866 , G03F7/70883 , G03F7/70916
摘要：本發明揭示一種微影裝置,該微影裝置包括:一投影系統,該投影系統經組態以將一經圖案化輻射光束投影至一基板之一目標部分上;一真空腔室,在使用期間經由該真空腔室而投影該經圖案化輻射光束;及一淨化系統,該淨化系統經組態以在該腔室中提供一淨化氣體流動。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备,该微影设备包括:一投影系统,该投影系统经组态以将一经图案化辐射光束投影至一基板之一目标部分上;一真空腔室,在使用期间经由该真空腔室而投影该经图案化辐射光束;及一净化系统,该净化系统经组态以在该腔室中提供一净化气体流动。

55. 发明专利

TWI312911B 微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI312911B
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW094110734
申请日：2005-04-04
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：阿卡斯尤米希可萊希燦可 KOLESNYCHENKO, ALEKSEY YURIEVICH , 喬納斯喬可巴斯麥修斯巴賽曼 BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 史喬德尼可拉斯藍伯特斯當德斯 DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS , 克里斯汀亞歷山大胡根登 HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER , 漢斯强森 JANSEN, HANS , 喬翁喬納斯蘇菲亞馬莉亞馬汀斯 MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA , 喬納斯凱瑟尼斯哈伯特斯馬肯斯 MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS , 費力克斯卡德弗萊彼得彼得斯 PEETERS, FELIX GODFRIED PETER , 包伯史崔弗科 STREEFKERK, BOB , 法蘭西斯克斯喬納斯赫曼馬里亞泰烏尼森 TEUNISSEN, FRANCISCUS JOHANNES HERMAN MARIA , 賀馬凡聖誕 VAN SANTEN, HELMAR
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
摘要：本發明揭示一種浸潤式微影裝置之基板平台,其包含一被組態成可收集液體之屏障件。該屏障件包圍該基板且與該基板相隔開。以此方式,從液體供應系統溢流出來之任何液體可被收集,以降低該微影投影裝置之精密元件受到污染的風險。
简体摘要：本发明揭示一种浸润式微影设备之基板平台,其包含一被组态成可收集液体之屏障件。该屏障件包围该基板且与该基板相隔开。以此方式,从液体供应系统溢流出来之任何液体可被收集,以降低该微影投影设备之精密组件受到污染的风险。

56. 发明专利

TWI311240B 保護光罩之原子束 ATOMIC BEAM TO PROTECT A RETICLE 有权
简体标题：保护光罩之原子束 ATOMIC BEAM TO PROTECT A RETICLE
公开(公告)号：TWI311240B
公开(公告)日：2009-06-21
申请号：TW094111558
申请日：2005-04-12
申请人：英特爾股份有限公司 INTEL CORPORATION
发明人：彼得索維曼 SILVERMAN, PETER
IPC分类号： G03F , G03B
CPC分类号： H05H3/02 , G03F7/70866 , G03F7/70916
摘要：本發明的實施例係提供光束產生器,以產生原子束,其會越過光罩的圖案化表面。原子束會與粒子互動,以防止粒子污染光罩。
简体摘要：本发明的实施例系提供光束产生器,以产生原子束,其会越过光罩的图案化表面。原子束会与粒子交互,以防止粒子污染光罩。

57. 发明专利

TW200832082A 在光罩上產生模糊的裝置 DEVICE FOR GENERATING HAZE ON A PHOTOMASK 审中-公开
简体标题：在光罩上产生模煳的设备 DEVICE FOR GENERATING HAZE ON A PHOTOMASK
公开(公告)号：TW200832082A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096145174
申请日：2007-11-28
申请人：科尼克系統股份有限公司 KORNIC SYSTEMS CORPORATION
发明人：金大鎮 KIM, DAE-JIN , 高建燮 GO, GUN-SUP , 金賢中 KIM, HYUN JUNG , 嚴升煥 EOM, SEUNG-HWAN , 李光在 LEE, KWANG-JAE
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F1/82 , G03F7/70525 , G03F7/70533 , G03F7/70866
摘要：一種在光罩上產生模糊的裝置,能夠在模糊產生之前將預定能量强度的雷射束照射到光罩上,獲得累積於光罩上的雷射束能量的準確數量,並且控制處理室內的環境。模糊產生裝置包括:雷射發射單元、光學系統、處理室、監測單元、濕氣供應單元、氣體供應單元、加熱單元以及環境控制單元。其中,環境控制單元基於處理室內的濕度、溫度以及氣體成分比率來控制濕氣供應單元,氣體供應單元以及加熱單元,使得在處理室的空間形成具有預定參考濕度、溫度以及氣體成分比率的參考環境。
简体摘要：一种在光罩上产生模煳的设备,能够在模煳产生之前将预定能量强度的激光束照射到光罩上,获得累积于光罩上的激光束能量的准确数量,并且控制处理室内的环境。模煳产生设备包括:激光发射单元、光学系统、处理室、监测单元、湿气供应单元、气体供应单元、加热单元以及环境控制单元。其中,环境控制单元基于处理室内的湿度、温度以及气体成分比率来控制湿气供应单元,气体供应单元以及加热单元,使得在处理室的空间形成具有预定参考湿度、温度以及气体成分比率的参考环境。

58. 发明专利

TW200823967A 曝光裝置、元件製造方法、清潔方法及清潔用構件审中-公开
简体标题：曝光设备、组件制造方法、清洁方法及清洁用构件
公开(公告)号：TW200823967A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096132030
申请日：2007-08-29
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：長博之 NAGASAKA, HIROYUKI , 藤原朋春 FUJIWARA, TOMOHARU , 濱谷正人 HAMATANI, MASATO , 依田安史 YODA, YASUSHI
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要：曝光裝置,具備:第1構件,係能以第1液體充滿曝光用光之光路的方式,以第1液體形成液浸部;第2構件,係能在與第1構件分離之位置以第2液體形成液浸部;以及振動產生裝置,係對既定構件與第2構件之間之第2液體施加振動。
简体摘要：曝光设备,具备:第1构件,系能以第1液体充满曝光用光之光路的方式,以第1液体形成液浸部;第2构件,系能在与第1构件分离之位置以第2液体形成液浸部;以及振动产生设备,系对既定构件与第2构件之间之第2液体施加振动。

59. 发明专利

TW200817252A 清潔光罩儲存器之系統 SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE 审中-公开
简体标题：清洁光罩存储器之系统 SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE
公开(公告)号：TW200817252A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW096122041
申请日：2007-06-20
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：歐雷格P 寇許柯維奇 KISHKOVICH, OLEG P. , 夏菲爾賈巴爾 GABARRE, XAVIER , 威廉M 古德溫 GOODWIN, WILLIAM M. , 羅詹思 LO, JAMES , 卓依思葛金斯 SCOGGINS, TROY
IPC分类号： B65D , F26B , G03B
CPC分类号： H01L21/67769 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70933 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , H01L21/67353 , H01L21/67359 , H01L21/67386 , H01L21/67389 , H01L21/67393 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/139 , Y10S414/14
摘要：本發明提供一種用以保護光罩且具體而言用以使儲存及使用期間光罩上之霧霾形成最小化之方法、系統及組件。藉由在具有一減低之濕度水準之存儲外殼中實質持續地保持對光罩進行清潔,或藉由在不進行清潔時在一容器中靠近一乾燥劑或吸濕劑暫時儲存光罩,可消除、最小化或充分地控制霧霾形成。此外,該容器中之一過濾媒介可放置成在實質持續地清潔該光罩期間得到「重新補充」,在當前不清潔該容器時可容易地在該光罩容器中保持一減低之所期望濕度水準。另外,本發明之系統可包含與該清潔系統相結合之一離化器。舉例而言,該離化器可與該清潔系統之複數個清潔管線至少其中之一相結合。本發明之系統亦可包含連接至該清潔系統之一清潔氣體源,該清潔氣體源包含一CDA源或超CDA源。該儲存外殼可包含複數個擱架,各擱架包含複數個光罩儲存容座。
简体摘要：本发明提供一种用以保护光罩且具体而言用以使存储及使用期间光罩上之雾霾形成最小化之方法、系统及组件。借由在具有一减低之湿度水准之存储外壳中实质持续地保持对光罩进行清洁,或借由在不进行清洁时在一容器中靠近一干燥剂或吸湿剂暂时存储光罩,可消除、最小化或充分地控制雾霾形成。此外,该容器中之一过滤媒介可放置成在实质持续地清洁该光罩期间得到“重新补充”,在当前不清洁该容器时可容易地在该光罩容器中保持一减低之所期望湿度水准。另外,本发明之系统可包含与该清洁系统相结合之一离化器。举例而言,该离化器可与该清洁系统之复数个清洁管线至少其中之一相结合。本发明之系统亦可包含连接至该清洁系统之一清洁气体源,该清洁气体源包含一CDA源或超CDA源。该存储外壳可包含复数个搁架,各搁架包含复数个光罩存储容座。

60. 发明专利

TWI275913B 微影裝置及偵測正確夾持物件之方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD TO DETECT CORRECT CLAMPING OF AN OBJECT 失效
简体标题：微影设备及侦测正确夹持对象之方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD TO DETECT CORRECT CLAMPING OF AN OBJECT
公开(公告)号：TWI275913B
公开(公告)日：2007-03-11
申请号：TW093102769
申请日：2004-02-06
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：漢德利克安東尼喬漢納尼豪夫 NEERHOF, HENDRIK ANTONY JOHANNES
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70866
摘要：本發明揭示一種微影裝置(1)，其包括一適用於夾持物件(W；MA；5)之支撐結構(MT；WT)。該支撐結構(MT；WT)與夾在其上之物件(W；MA；5)界定一隔室。供應構件(11)連接至該隔室，而且供應一流體給該隔室。該供應構件(11)包括一計量器(15)，以測量該流體之流速與該流體之壓力至少之一之變化。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备(1)，其包括一适用于夹持对象(W；MA；5)之支撑结构(MT；WT)。该支撑结构(MT；WT)与夹在其上之对象(W；MA；5)界定一隔室。供应构件(11)连接至该隔室，而且供应一流体给该隔室。该供应构件(11)包括一计量器(15)，以测量该流体之流速与该流体之压力至少之一之变化。

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