专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

51. 发明专利

TW200627086A 微影裝置和器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备和器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200627086A
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW094144282
申请日：2005-12-14
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：安諾賈貝雷克 BLEEKER, ARNO JAN , 喬漢那約伯馬瑟仕貝西曼 BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 馬賽爾麥西斯希爾多爾馬里亞戴莉茲 DIERICHS, MARCEL MATHIJS THEODORE MARIE , 克莉絲汀華格那 WAGNER, CHRISTIAN , 理孚瑞理考夫 RYZHIKOV, LEV , 史坦尼斯拉夫Y 史密諾 SMIRNOV, STANISLAV Y. , 卡斯季格托斯特 TROOST, KARS ZEGER
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70291
摘要：本發明揭示一種用於引導一輻射光束非垂直地照射一用於圖案化該輻射光束之可分別控制元件之一圖案化陣列之系統及方法。該等可分別控制元件可改變該輻射光束之聚焦遠心。可藉由一凹透鏡或使用一置於該等可分別控制元件之物方視場中之折疊式鏡將該輻射光束投影至該等可分別控制元件上。另一選擇為，該等可分別控制元件可改變該輻射光束之光軸。
简体摘要：本发明揭示一种用于引导一辐射光束非垂直地照射一用于图案化该辐射光束之可分别控件之一图案化数组之系统及方法。该等可分别控件可改变该辐射光束之聚焦远心。可借由一凹透镜或使用一置于该等可分别控件之物方视场中之折叠式镜将该辐射光束投影至该等可分别控件上。另一选择为，该等可分别控件可改变该辐射光束之光轴。

52. 发明专利

TW200625029A 具有漏光及陰影補償的均勻性校正系統 UNIFORMITY CORRECTION SYSTEM HAVING LIGHT LEAK AND SHADOW COMPENSATION 失效
简体标题：具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统 UNIFORMITY CORRECTION SYSTEM HAVING LIGHT LEAK AND SHADOW COMPENSATION
公开(公告)号：TW200625029A
公开(公告)日：2006-07-16
申请号：TW094144138
申请日：2005-12-13
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：羅伯托魏納 WIENER, ROBERTO B.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/003 , G03B27/727 , G03F7/70066 , G03F7/70083 , G03F7/70091
摘要：提供一種具有漏光及陰影補償的均勻性校正系統與方法。該系統包含多個校正元件以及一光學補償板。相鄰的校正元件係由一間隙相隔開。該光學補償板包含具有多個間隙補償區段的一圖案。該圖案具有一衰減率，其係與該光學補償板的其餘部分之衰減率不相同。在該補償板上的每一補償區段之位置係對應至照明槽縫中相鄰校正元件之間的相對應間隙之位置。每一補償區段的寬度係依據入射至該校正系統上的光線之角度而定。該圖案可以位於該補償板的上表面或底表面上。再者，該補償板可以位於該些校正元件的上方或下方。
简体摘要：提供一种具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统与方法。该系统包含多个校正组件以及一光学补偿板。相邻的校正组件系由一间隙相隔开。该光学补偿板包含具有多个间隙补偿区段的一图案。该图案具有一衰减率，其系与该光学补偿板的其余部分之衰减率不相同。在该补偿板上的每一补偿区段之位置系对应至照明槽缝中相邻校正组件之间的相对应间隙之位置。每一补偿区段的宽度系依据入射至该校正系统上的光线之角度而定。该图案可以位于该补偿板的上表面或底表面上。再者，该补偿板可以位于该些校正组件的上方或下方。

53. 发明专利

TW200620525A 使用兩固持系統之圖案化的遮罩固持裝置及方法 PATTERNED MASK HOLDING DEVICE AND METHOD USING TWO HOLDING SYSTEMS 审中-公开
简体标题：使用两固持系统之图案化的遮罩固持设备及方法 PATTERNED MASK HOLDING DEVICE AND METHOD USING TWO HOLDING SYSTEMS
公开(公告)号：TW200620525A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW094124750
申请日：2005-07-21
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：丹尼爾蓋伯特 GALBURT, DANIEL N.
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70708
摘要：一種消除或實質上減少一圖案產生器相對於一圖案產生器固持裝置之滑動的系統及方法，於一曝光操作之掃瞄部分期間。於第一及第二範例中，此動作之完成係藉由(a)持續地或(b)當需要時同時地使用第一及第二圖案產生器固持系統以固持圖案產生器至圖案產生器固持裝置。於這些範例中，第一圖案產生器固持系統係利用一靜電系統以吸引圖案產生器至圖案產生器固持裝置，而第二圖案產生器固持系統係利用一真空系統以吸引圖案產生器至圖案產生器固持裝置。
简体摘要：一种消除或实质上减少一图案产生器相对于一图案产生器固持设备之滑动的系统及方法，于一曝光操作之扫瞄部分期间。于第一及第二范例中，此动作之完成系借由(a)持续地或(b)当需要时同时地使用第一及第二图案产生器固持系统以固持图案产生器至图案产生器固持设备。于这些范例中，第一图案产生器固持系统系利用一静电系统以吸引图案产生器至图案产生器固持设备，而第二图案产生器固持系统系利用一真空系统以吸引图案产生器至图案产生器固持设备。

54. 发明专利

TWI247339B 利用極化光之微影印刷 LITHOGRAPHIC PRINTING WITH POLARIZED LIGHT 有权
简体标题：利用极化光之微复印刷 LITHOGRAPHIC PRINTING WITH POLARIZED LIGHT
公开(公告)号：TWI247339B
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：TW093104315
申请日：2004-02-20
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：納畢拉巴巴阿里 BABA-ALI, NABILA , 賈斯汀克魯瑟 KREUZER, JUSTIN L. , 海瑞希威爾 SEWELL, HARRY O.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B27/28 , G03F7/2006
摘要：本發明提供以極化光改進微影印刷的系統及方法。在本發明的實施例中，極化光(放射或切線極化)係用於照亮相移遮罩(PSM)，並產生一曝光光束。一負光阻層接著經由該曝光光束的光而曝光。可使用一無鉻PSM。在本發明的進一步實施例中，放射極化光係用於照亮一遮罩並產生一曝光光束。一正光阻層接著經由該曝光光束的光而曝光。該遮罩可為一衰減PSM或二元遮罩。即使當在低k應用時，印刷不同點距的接點孔，亦可獲得極高的影像品質。
简体摘要：本发明提供以极化光改进微复印刷的系统及方法。在本发明的实施例中，极化光(放射或切线极化)系用于照亮相移遮罩(PSM)，并产生一曝光光束。一负光阻层接着经由该曝光光束的光而曝光。可使用一无铬PSM。在本发明的进一步实施例中，放射极化光系用于照亮一遮罩并产生一曝光光束。一正光阻层接着经由该曝光光束的光而曝光。该遮罩可为一衰减PSM或二元遮罩。即使当在低k应用时，印刷不同点距的接点孔，亦可获得极高的影像品质。

55. 发明专利

TW200540398A 具有動態滿光瞳之剪切干涉儀 SHEARING INTERFEROMETER WITH DYNAMIC PUPIL FILL 失效
简体标题：具有动态满光瞳之剪切干涉仪 SHEARING INTERFEROMETER WITH DYNAMIC PUPIL FILL
公开(公告)号：TW200540398A
公开(公告)日：2005-12-16
申请号：TW094115639
申请日：2005-05-13
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：阿薩特拉泰波夫 LATYPOV, AZAT , 薛曼波特尼 POULTNEY, SHERMAN K. , 優利維拉迪米爾斯基 VLADIMIRSKY, YULI
IPC分类号： G01B , G03H
CPC分类号： G03F7/706 , G01J9/0215
摘要：波前測量系統包含電磁輻射源。照明系統將電磁輻射輸送至物平面，繞射圖案源係位於物平面上。投影光學系統將繞射圖案投射在影像平面上，其包含一引進橫向剪切之機構(例如，剪切光柵)。偵測器係位於和光瞳光學性地共軛之平面中，且接收來自影像平面之瞬時的條紋圖案，係起因於剪切波長之間的干涉。繞射圖案被動態地掃描越過於投影光學系統的光瞳上，且獲得自偵測器之合成的時間積分干涉圖被用來測量越過於整個光瞳上的波前像差。
简体摘要：波前测量系统包含电磁辐射源。照明系统将电磁辐射输送至物平面，绕射图案源系位于物平面上。投影光学系统将绕射图案投射在影像平面上，其包含一引进横向剪切之机构(例如，剪切光栅)。侦测器系位于和光瞳光学性地共轭之平面中，且接收来自影像平面之瞬时的条纹图案，系起因于剪切波长之间的干涉。绕射图案被动态地扫描越过于投影光学系统的光瞳上，且获得自侦测器之合成的时间积分干涉图被用来测量越过于整个光瞳上的波前像差。

56. 发明专利

TW200534395A 於基材表面塗覆聚合物溶液之方法及系統 METHOD AND SYSTEM OF COATING POLYMER SOLUTION ON SURFACE OF A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：于基材表面涂覆聚合物溶液之方法及系统 METHOD AND SYSTEM OF COATING POLYMER SOLUTION ON SURFACE OF A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200534395A
公开(公告)日：2005-10-16
申请号：TW093132872
申请日：2004-10-29
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：安德魯古顏 NGUYEN, ANDREW
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/162
摘要：一種於例如半導體晶圓之基材上塗覆聚合物溶液之方法及系統。該方法包括提供一基材。使用一泵於該基材表面分配聚合物溶液。該泵與一緩衝槽及一聚合物溶液源流線連接，從而泵以連續流體路徑自該聚合物溶液源及該緩衝槽中汲取聚合物溶液以分配該聚合物溶液。聚合物溶液源連接至能引起聚合物溶液自聚合物溶液源轉移至緩衝槽的一壓力源。緩衝槽用於維持一相對恆定量的聚合物溶液。
简体摘要：一种于例如半导体晶圆之基材上涂覆聚合物溶液之方法及系统。该方法包括提供一基材。使用一泵于该基材表面分配聚合物溶液。该泵与一缓冲槽及一聚合物溶液源流线连接，从而泵以连续流体路径自该聚合物溶液源及该缓冲槽中汲取聚合物溶液以分配该聚合物溶液。聚合物溶液源连接至能引起聚合物溶液自聚合物溶液源转移至缓冲槽的一压力源。缓冲槽用于维持一相对恒定量的聚合物溶液。

57. 发明专利

TW200532260A 圖樣光柵元件偏光板 PATTERNED GRID ELEMENT POLARIZER 失效
简体标题：图样光栅组件偏光板 PATTERNED GRID ELEMENT POLARIZER
公开(公告)号：TW200532260A
公开(公告)日：2005-10-01
申请号：TW094109628
申请日：2005-03-28
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：麥克亞伯特 ALBERT, MICHAEL M. , 海瑞希威爾 SEWELL, HARRY O.
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/3075 , G02B5/3058 , G03F7/70566
摘要：本發明係有關於一種使用於微影的圖樣光柵偏光板，包含：可穿透紫外光的一基板，以及在該基板上圖樣化的一元件陣列，其中該些元件偏振化紫外光。該些元件可以被圖樣化以產生切線或輻射狀偏振紫外光。
简体摘要：本发明系有关于一种使用于微影的图样光栅偏光板，包含：可穿透紫外光的一基板，以及在该基板上图样化的一组件数组，其中该些组件偏振化紫外光。该些组件可以被图样化以产生切线或辐射状偏振紫外光。

58. 发明专利

TW200529935A 溶劑飽和室中在基板上塗層聚合物溶液之方法及系統 METHOD AND SYSTEM FOR COATING POLYMER SOLUTION ON A SUBSTRATE IN A SOLVENT SATURATED CHAMBER 审中-公开
简体标题：溶剂饱和室中在基板上涂层聚合物溶液之方法及系统 METHOD AND SYSTEM FOR COATING POLYMER SOLUTION ON A SUBSTRATE IN A SOLVENT SATURATED CHAMBER
公开(公告)号：TW200529935A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW093140590
申请日：2004-12-24
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：安德魯古顏 NGUYEN, ANDREW
IPC分类号： B05C
CPC分类号： H01L21/6715 , B05D1/005 , B05D3/0486 , G03F7/162
摘要：本發明揭示一種在諸如半導體晶圓之基板上塗層聚合物溶液之方法及裝置。該裝置包括一塗層室，其具有一用以支撐待由聚合物溶液塗層之基板之可旋轉夾盤。於基板上分配聚合物溶液之分配器延伸入塗層室。包括一具有與塗層室可連通之溶劑蒸汽產生器的蒸汽分佈器以使得溶劑轉化為溶劑蒸汽。載體氣體與溶劑蒸汽混合以形成載體溶劑蒸汽混合物。載體溶劑蒸汽混合物流入塗層室以使塗層室飽和。包括一與塗層室可連通之溶劑移除器來移除未轉化為溶劑蒸汽之過量溶劑，以阻止過量溶劑下落於基板上。
简体摘要：本发明揭示一种在诸如半导体晶圆之基板上涂层聚合物溶液之方法及设备。该设备包括一涂层室，其具有一用以支撑待由聚合物溶液涂层之基板之可旋转夹盘。于基板上分配聚合物溶液之分配器延伸入涂层室。包括一具有与涂层室可连通之溶剂蒸汽产生器的蒸汽分布器以使得溶剂转化为溶剂蒸汽。载体气体与溶剂蒸汽混合以形成载体溶剂蒸汽混合物。载体溶剂蒸汽混合物流入涂层室以使涂层室饱和。包括一与涂层室可连通之溶剂移除器来移除未转化为溶剂蒸汽之过量溶剂，以阻止过量溶剂下落于基板上。

59. 发明专利

TW200523673A 無遮罩光學寫入器 MASKLESS OPTICAL WRITER 审中-公开
简体标题：无遮罩光学写入器 MASKLESS OPTICAL WRITER
公开(公告)号：TW200523673A
公开(公告)日：2005-07-16
申请号：TW094100282
申请日：2005-01-05
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：海瑞希威爾 SEWELL, HARRY O.
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70566 , A61B6/4435 , G03F7/70283 , G03F7/70291
摘要：一種用於微影術之無遮罩圖案產生系統包含：一光源，其產生一光束、一可編程圖案產生器，其係根據一控制信號輸入以產生一來自該光束之圖案影像、及一控制器，用以根據提供至控制器之圖案資訊以提供控制信號輸入至可編程圖案產生器。控制信號輸入指示可編程圖案產生器以設定相應於一像素陣列中之個別像素的個別電壓位準，其中每一該等個別的電壓位準係相應於一指定給一特定個別像素之灰階位準。設定個別電壓位準提供所得圖案影像光束之一相位偏移，以容許可編程圖案產生器作用為一相位偏移遮罩。此無遮罩圖案寫入系統作用為一控制圖案影像之光閥，以像素接像素之基礎，以供直接寫入圖案之目的。
简体摘要：一种用于微影术之无遮罩图案产生系统包含：一光源，其产生一光束、一可编程图案产生器，其系根据一控制信号输入以产生一来自该光束之图案影像、及一控制器，用以根据提供至控制器之图案信息以提供控制信号输入至可编程图案产生器。控制信号输入指示可编程图案产生器以设置相应于一像素数组中之个别像素的个别电压位准，其中每一该等个别的电压位准系相应于一指定给一特定个别像素之灰阶位准。设置个别电压位准提供所得图案影像光束之一相位偏移，以容许可编程图案产生器作用为一相位偏移遮罩。此无遮罩图案写入系统作用为一控制图案影像之光阀，以像素接像素之基础，以供直接写入图案之目的。

60. 发明专利

TW200517791A 微影裝置及器件之製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及器件之制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200517791A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：TW093128597
申请日：2004-09-21
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：愛諾詹柏里克 BLEEKER, ARNO JAN , 多明哥斯賈庫博皮特拉安德納斯法蘭肯 FRANKEN, DOMINICUS JACOBUS PETRUS ADRIANUS , 彼德C 考齊斯博革 KOCHERSPERGER, PETER C. , 卡斯資捷杜斯特 TROOST, KARS ZEGER
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/703 , G03F7/70783
摘要：本發明揭示一種微影裝置及器件之製造方法。本發明透過複數個高度調整結構將一個以上可程式圖案化構件安裝於一安裝平板上，該等高度調整結構可促使該等欲控制的圖案化構件的主動表面保持平坦。該等高度調整結構可能包括一壓電啟動器或螺絲陣列。或者，可將該等圖案化構件的背面研磨呈現光學平坦程度，並且藉由晶結黏結至一剛性安裝主體的光學平坦表面。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备及器件之制造方法。本发明透过复数个高度调整结构将一个以上可进程图案化构件安装于一安装平板上，该等高度调整结构可促使该等欲控制的图案化构件的主动表面保持平坦。该等高度调整结构可能包括一压电启动器或螺丝数组。或者，可将该等图案化构件的背面研磨呈现光学平坦程度，并且借由晶结黏结至一刚性安装主体的光学平坦表面。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式