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51. 发明专利

TW136494B 堆疊金屬片工件之裝卸裝置失效
简体标题：堆栈金属片工件之装卸设备
公开(公告)号：TW136494B
公开(公告)日：1990-06-21
申请号：TW078103709
申请日：1989-05-15
申请人：日本酸素股份有限公司
发明人：木本武
IPC分类号： B65H , B65G
摘要：此揭示之裝卸裝置包括：一貯存單位設定一貯存空間以容納堆疊之金屬片工件；一分離單位以將貯存空間內之堆疊工件互相分開；及一檢取單位以由最高之工件開始，輪流將貯存空間內之工件逐一檢起，並將已檢起之工件傳送至在貯存空間之外的預定位置。分離單位包括一磁鐵單位。此磁鐵單位在貯存空間內產生磁場，此磁場之磁力線會在貯存空間之內水平延伸。此磁場會使貯存空間內的工件磁化而互相排斥。貯存空間會將貯存空間內之堆疊工件保持恰好垂直之排列。所以工件會彼此互相分開，而某些工件甚至當在貯存空間內被磁化時，會懸浮在空中。
简体摘要：此揭示之装卸设备包括：一贮存单位设置一贮存空间以容纳堆栈之金属片工件；一分离单位以将贮存空间内之堆栈工件互相分开；及一检取单位以由最高之工件开始，轮流将贮存空间内之工件逐一检起，并将已检起之工件发送至在贮存空间之外的预定位置。分离单位包括一磁铁单位。此磁铁单位在贮存空间内产生磁场，此磁场之磁力线会在贮存空间之内水平延伸。此磁场会使贮存空间内的工件磁化而互相排斥。贮存空间会将贮存空间内之堆栈工件保持恰好垂直之排列。所以工件会彼此互相分开，而某些工件甚至当在贮存空间内被磁化时，会悬浮在空中。

52. 发明专利

TWI302118B 熔接遮蔽氣體及熔接方法 WELDING SHIELD GAS AND WELDING METHOD 有权
简体标题：熔接屏蔽气体及熔接方法 WELDING SHIELD GAS AND WELDING METHOD
公开(公告)号：TWI302118B
公开(公告)日：2008-10-21
申请号：TW093108471
申请日：2004-03-29
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：木村裕 KIMURA, YUTAKA , 五十嵐裕治 IGARASHI, YUUJI
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K35/383 , B23K9/23 , B23K2203/05
摘要：一種熔接遮蔽氣體,其包含有惰性氣體與氮氣,其中
氮氣濃度為1至95體積%;或包含有惰性氣體與氦氣,其
中氦氣濃度為35至95體積%;或包含有惰性氣體、氮氣
與氦氣,其中氮氣濃度不低於1體積%並小於65體積%,
且氦氣濃度為35至95體積%。該遮蔽氣體可使用於由不
銹鋼組成之熔接材料的非消耗型電極電弧熔接。
简体摘要：一种熔接屏蔽气体,其包含有惰性气体与氮气,其中氮气浓度为1至95体积%;或包含有惰性气体与氦气,其中氦气浓度为35至95体积%;或包含有惰性气体、氮气与氦气,其中氮气浓度不低于1体积%并小于65体积%, 且氦气浓度为35至95体积%。该屏蔽气体可使用于由不锈钢组成之熔接材料的非消耗型电极电弧熔接。

53. 发明专利

TWI299672B 氣體分離方法及其裝置 GAS SEPARATION METHOD AND APPARATUS THEREFOR 有权
简体标题：气体分离方法及其设备 GAS SEPARATION METHOD AND APPARATUS THEREFOR
公开(公告)号：TWI299672B
公开(公告)日：2008-08-11
申请号：TW091105274
申请日：2002-03-20
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：川井雅人 KAWAI MASATO , 中村章寬 AKIHIRO NAKAMURA , 飛彈野龍也 TATSUYA HIDANO
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/047 , B01D53/053 , B01D53/261 , B01D2253/102 , B01D2253/104 , B01D2253/108 , B01D2253/116 , B01D2253/25 , B01D2256/10 , B01D2256/12 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/11 , B01D2257/80 , B01D2259/40052 , B01D2259/40081 , B01D2259/402 , B01D2259/414
摘要：一種能夠容易的以PSA法進行操作之氣體分離方法
與裝置,能夠於氣體混合物中同時分離採取具有高純度之
複數種成分,且其裝置結構簡單、裝置成本便宜。利用壓
縮機1加壓具有兩種以上主成分氣體例如是空氣MA之氣
體混合物M後,使其通過填充有對第一主要氣體成分氧氣
具有難吸附性且對第二主要氣體成分氮氣具有易吸附性之
吸附劑的吸附筒2A,以進行將作為第一產品氣體(富氧氣
體MO)之第一主要成分氣體氧氣分離之製程,然後使加壓
後之作為氣體混合物M的空氣MA通過填充有對第一主要
氣體成分氧氣具有易吸附性且對第二主要氣體成分氮氣具
有難吸附性之吸附劑的吸附筒2B,以進行將作為第二產品
氣體(富氮氣體MN)之第二主要成分氣體氮氣分離之製
程,然後交互操作上述製程,而可以從上述氣體混合物同
時出產第一產品氣體與第二產品氣體。
简体摘要：一种能够容易的以PSA法进行操作之气体分离方法与设备,能够于气体混合物中同时分离采取具有高纯度之复数种成分,且其设备结构简单、设备成本便宜。利用压缩机1加压具有两种以上主成分气体例如是空气MA之气体混合物M后,使其通过填充有对第一主要气体成分氧气具有难吸附性且对第二主要气体成分氮气具有易吸附性之吸附剂的吸附筒2A,以进行将作为第一产品气体(富氧气体MO)之第一主要成分气体氧气分离之制程,然后使加压后之作为气体混合物M的空气MA通过填充有对第一主要气体成分氧气具有易吸附性且对第二主要气体成分氮气具有难吸附性之吸附剂的吸附筒2B,以进行将作为第二产品气体(富氮气体MN)之第二主要成分气体氮气分离之制程,然后交互操作上述制程,而可以从上述气体混合物同时出产第一产品气体与第二产品气体。

54. 发明专利

TWI282748B 氣體精製方法及裝置 GAS PURIFICATION METHOD AND APPARATUS THEREOF 失效
简体标题：气体精制方法及设备 GAS PURIFICATION METHOD AND APPARATUS THEREOF
公开(公告)号：TWI282748B
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：TW092113057
申请日：2003-05-14
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：矢崎隆一 RYUICHI YAZAKI , 川井雅人 MASATO KAWAI , 君島哲也 TETSUYA KIMIJIMA , 松田州央 KUNIO MATSUDA , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
IPC分类号： B01D
CPC分类号： C01B21/0466 , B01D53/04 , B01D53/26 , B01D53/75 , B01D53/86 , B01D2253/108 , B01D2257/80 , C01B5/00 , C01B21/0416 , C01B21/0422 , C01B23/0021 , C01B23/0026 , C01B2210/0035 , C01B2210/0037 , C01B2210/0053 , C01B2210/0075 , Y02C20/10
摘要：一種氣體精製方法及裝置，能夠有效率的除去使用氪氣或氙氣之各種製程的排放氣體中所含有之不純物，而且可以實現在半導體製造裝置附近設置能夠將排氣中之稀有氣體連續的分離、回收再利用之小型系統。此方法係為從以稀有氣體與氮氣作為主成分，且含有以氫氣、氮與氫所組成之反應生成物、水蒸氣作為微量不純物之氣體混合物中除去上述微量不純物之氣體精製方法，包括能夠除去由氮與氫所形成之反應生成物與水蒸氣之吸附製程、使氫氣在氧氣存在下經由氫氣氧化觸媒反應而能夠轉換成水蒸氣之氫氣氧化製程以及除去在氫氣氧化製程中所生成之水蒸氣之乾燥製程，而且，在含有作為微量不純物之氮氧化物之情況下，在吸附製程之前段，進行使氮氧化物在還原物質存在下經由脫氮觸媒反應而能夠轉換成氮氣與水蒸氣之脫氮製程。
简体摘要：一种气体精制方法及设备，能够有效率的除去使用氪气或氙气之各种制程的排放气体中所含有之不纯物，而且可以实现在半导体制造设备附近设置能够将排气中之稀有气体连续的分离、回收再利用之小型系统。此方法系为从以稀有气体与氮气作为主成分，且含有以氢气、氮与氢所组成之反应生成物、水蒸气作为微量不纯物之气体混合物中除去上述微量不纯物之气体精制方法，包括能够除去由氮与氢所形成之反应生成物与水蒸气之吸附制程、使氢气在氧气存在下经由氢气氧化触媒反应而能够转换成水蒸气之氢气氧化制程以及除去在氢气氧化制程中所生成之水蒸气之干燥制程，而且，在含有作为微量不纯物之氮氧化物之情况下，在吸附制程之前段，进行使氮氧化物在还原物质存在下经由脱氮触媒反应而能够转换成氮气与水蒸气之脱氮制程。

55. 发明专利

TW200516138A 清潔氣體及清潔方法 PURGE GAS AND PURGE METHOD 审中-公开
简体标题：清洁气体及清洁方法 PURGE GAS AND PURGE METHOD
公开(公告)号：TW200516138A
公开(公告)日：2005-05-16
申请号：TW093117278
申请日：2004-06-16
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：伊崎隆一郎 ISAKI, RYUICHIRO , 神力學 SHINRIKI, MANABU
IPC分类号： C11D
CPC分类号： C23C16/4405 , H01L21/31116 , Y02C20/30 , Y02P70/605
摘要：一種清潔氣體以及清潔方法，能夠提高包含氟碳分子之清潔氣體的蝕刻反應速度，提高清洗效果。該清潔氣體是採用通式用CvH×FyOz(式中，v為1～5的整數，x為0或者1～3的整數，y為1以上的整數，z為0或1)表示的氟碳氣體與氧氣的混合氣體，並在其中添加占總氣體量10％以下的三氟化氮、氟氣、氧化亞氮、氮氣、稀有氣體的其中至少一種氣體。
简体摘要：一种清洁气体以及清洁方法，能够提高包含氟碳分子之清洁气体的蚀刻反应速度，提高清洗效果。该清洁气体是采用通式用CvH×FyOz(式中，v为1～5的整数，x为0或者1～3的整数，y为1以上的整数，z为0或1)表示的氟碳气体与氧气的混合气体，并在其中添加占总气体量10％以下的三氟化氮、氟气、氧化亚氮、氮气、稀有气体的其中至少一种气体。

56. 发明专利

TW572771B 隔熱容器及其製造方法失效
简体标题：隔热容器及其制造方法
公开(公告)号：TW572771B
公开(公告)日：2004-01-21
申请号：TW091106475
申请日：2002-04-01
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：松田州央 , 大塚榮二 EIJI OTSUKA
IPC分类号： B01D
摘要：本發明提供一種陶瓷製的隔熱容器，具備優良的保溫性能，適合於一般家庭使用。其特徵在於該陶瓷製隔熱容器1，係在陶瓷製的外容器2內，隔著空隙部4配置陶瓷製的內容器3，一體化之後構成，並在內外容器的空隙部側，及內外容器的大氣側之至少一方，配設玻璃質層。
简体摘要：本发明提供一种陶瓷制的隔热容器，具备优良的保温性能，适合于一般家庭使用。其特征在于该陶瓷制隔热容器1，系在陶瓷制的外容器2内，隔着空隙部4配置陶瓷制的内容器3，一体化之后构成，并在内外容器的空隙部侧，及内外容器的大气侧之至少一方，配设玻璃质层。

57. 发明专利

TW200306881A 氣體精製方法及裝置失效
简体标题：气体精制方法及设备
公开(公告)号：TW200306881A
公开(公告)日：2003-12-01
申请号：TW092113057
申请日：2003-05-14
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：矢崎隆一 RYUICHI YAZAKI , 川井雅人 MASATO KAWAI , 君島哲也 TETSUYA KIMIJIMA , 松田州央 KUNIO MATSUDA , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
IPC分类号： B01D
CPC分类号： C01B21/0466 , B01D53/04 , B01D53/26 , B01D53/75 , B01D53/86 , B01D2253/108 , B01D2257/80 , C01B5/00 , C01B21/0416 , C01B21/0422 , C01B23/0021 , C01B23/0026 , C01B2210/0035 , C01B2210/0037 , C01B2210/0053 , C01B2210/0075 , Y02C20/10
摘要：一種氣體精製方法及裝置，能夠有效率的除去使用氪氣或氙氣之各種製程的排放氣體中所含有之不純物，而且可以實現在半導體製造裝置附近設置能夠將排氣中之稀有氣體連續的分離、回收再利用之小型系統。此方法係為從以稀有氣體與氮氣作為主成分，且含有以氫氣、氮與氫所組成之反應生成物、水蒸氣作為微量不純物之氣體混合物中除去上述微量不純物之氣體精製方法，包括能夠除去由氮與氫所形成之反應生成物與水蒸氣之吸附製程、使氫氣在氧氣存在下經由氫氣氧化觸媒反應而能夠轉換成水蒸氣之氫氣氧化製程以及除去在氫氣氧化製程中所生成之水蒸氣之乾燥製程，而且，在含有作為微量不純物之氮氧化物之情況下，在吸附製程之前段，進行使氮氧化物在還原物質存在下經由脫氮觸媒反應而能夠轉換成氮氣與水蒸氣之脫氮製程。
简体摘要：一种气体精制方法及设备，能够有效率的除去使用氪气或氙气之各种制程的排放气体中所含有之不纯物，而且可以实现在半导体制造设备附近设置能够将排气中之稀有气体连续的分离、回收再利用之小型系统。此方法系为从以稀有气体与氮气作为主成分，且含有以氢气、氮与氢所组成之反应生成物、水蒸气作为微量不纯物之气体混合物中除去上述微量不纯物之气体精制方法，包括能够除去由氮与氢所形成之反应生成物与水蒸气之吸附制程、使氢气在氧气存在下经由氢气氧化触媒反应而能够转换成水蒸气之氢气氧化制程以及除去在氢气氧化制程中所生成之水蒸气之干燥制程，而且，在含有作为微量不纯物之氮氧化物之情况下，在吸附制程之前段，进行使氮氧化物在还原物质存在下经由脱氮触媒反应而能够转换成氮气与水蒸气之脱氮制程。

58. 发明专利

TW200302910A 氣體供應裝置及方法 GAS SUPPLY DEVICE AND SUPPLY METHOD 审中-公开
简体标题：气体供应设备及方法 GAS SUPPLY DEVICE AND SUPPLY METHOD
公开(公告)号：TW200302910A
公开(公告)日：2003-08-16
申请号：TW091136632
申请日：2002-12-19
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：田中純一 JUNICHI TANAKA , 折田隆 TAKASHI ORITA , 越後島真 MAKOTO ECHIGOJIMA
IPC分类号： F17C , C23C
CPC分类号： F17C13/025 , F17C7/04 , F17C9/02 , F17C13/02 , F17C13/023 , F17C2221/035 , F17C2221/05 , F17C2223/0153 , F17C2223/033 , F17C2227/0309 , F17C2250/032 , F17C2250/0408 , F17C2250/0421 , F17C2250/043 , F17C2250/0443 , F17C2250/0495 , F17C2270/0518
摘要：提供一種氣體供應裝置及方法，可以從外部有效率的進行氣體容器之加熱或冷卻，同時可以使供給氣體之壓力保持在略一定值。朝向載置於設置台11上之氣體容器底面噴出熱媒體之噴嘴插入設置於設置台11中央部之貫通孔18，並且設置有從氣體容器底面與設置台上面之間的空間排出上述熱媒體之熱媒體排出路徑。測定來自氣體容器所供給之氣體的流量與壓力，當測定之流量超過容許流量變動幅度時，根據測量之流量與基準流量之差調節熱媒體之溫度，當測定之流量在容許流量變動幅度內時，根據量測之壓力與基準壓力之差調節熱媒體之溫度。
简体摘要：提供一种气体供应设备及方法，可以从外部有效率的进行气体容器之加热或冷却，同时可以使供给气体之压力保持在略一定值。朝向载置于设置台11上之气体容器底面喷出热媒体之喷嘴插入设置于设置台11中央部之贯通孔18，并且设置有从气体容器底面与设置台上面之间的空间排出上述热媒体之热媒体排出路径。测定来自气体容器所供给之气体的流量与压力，当测定之流量超过容许流量变动幅度时，根据测量之流量与基准流量之差调节热媒体之温度，当测定之流量在容许流量变动幅度内时，根据量测之压力与基准压力之差调节热媒体之温度。

59. 发明专利

TW200300699A 氣體供應方法及裝置审中-公开
简体标题：气体供应方法及设备
公开(公告)号：TW200300699A
公开(公告)日：2003-06-16
申请号：TW091134995
申请日：2002-12-03
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION , 大見忠弘
发明人：石原良夫 YOSHIO ISHIHARA , 中村章寬 NAKAMURA AKIHIRO , 大見忠弘
IPC分类号： B01D , C01B , H01L
CPC分类号： C01B23/0052 , B01D53/46 , B01D53/68 , B01D53/70 , B01D53/74 , B01D2257/11 , B01D2257/2066 , C01B23/001 , C01B2210/0029 , C01B2210/0035 , C01B2210/0042 , Y02P20/154
摘要：本發明提供的氣體供應方法及裝置，能夠將排氣中的有用成份氣體有效地分離精製成可再供應狀態，不受排氣的流量變動或組成變動之影響，而且，對消耗掉的部分，亦可有效率地補充。其方法為，回收氣體使用設備排出的排氣，將該排氣中所含的有用成份氣體分離精製後，所得的有用成份氣體再供應該氣體用設備，且在該氣體使用設備排出的排氣，添加與上述有用成份氣體同樣成份的補充氣體後，再進行有用成份氣體的分離精製。
简体摘要：本发明提供的气体供应方法及设备，能够将排气中的有用成份气体有效地分离精制成可再供应状态，不受排气的流量变动或组成变动之影响，而且，对消耗掉的部分，亦可有效率地补充。其方法为，回收气体使用设备排出的排气，将该排气中所含的有用成份气体分离精制后，所得的有用成份气体再供应该气体用设备，且在该气体使用设备排出的排气，添加与上述有用成份气体同样成份的补充气体后，再进行有用成份气体的分离精制。

60. 发明专利

TW200300362A 氣體分離方法及裝置审中-公开
简体标题：气体分离方法及设备
公开(公告)号：TW200300362A
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091133810
申请日：2002-11-20
申请人：日本酸素股份有限公司 NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：浦上達司 TATSUSHI URAKAMI , 長徹 , 川井雅人 KAWAI MASATO , 中村章寬 NAKAMURA AKIHIRO
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/047 , B01D53/053 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/308 , B01D2256/10 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/11 , B01D2258/0216 , B01D2259/40007 , B01D2259/40052 , B01D2259/40081 , B01D2259/402
摘要：提供一種氣體分離方法及裝置，可從含有複數成份的原料氣體中分離出氣體成份，且皆可有效率地回收此些複數氣體成份，並可一直以穩定的流量、成份濃度採集製品氣體。具有：利用填充有對第2主要氣體成份為易吸附性之第1吸附劑的第1吸附塔11，把第1主要氣體成份當作第1製品氣體而分離的第1分離製程，以及利用填充有對第1主要氣體成份為易吸附性之第2吸附劑的第2吸附塔21，把第2主要氣體成份當作第2製品氣體而分離的第2分離製程。且把在第1及第2分離製程中所排出的再生排氣混合至原料氣體的循環原料當作一被分離氣體使用，並根據循環原料氣體的成份濃度，控制第1製品氣體的導出流量，藉此，以將第2製品氣體之導出流量、成份濃度維持成一定。
简体摘要：提供一种气体分离方法及设备，可从含有复数成份的原料气体中分离出气体成份，且皆可有效率地回收此些复数气体成份，并可一直以稳定的流量、成份浓度采集制品气体。具有：利用填充有对第2主要气体成份为易吸附性之第1吸附剂的第1吸附塔11，把第1主要气体成份当作第1制品气体而分离的第1分离制程，以及利用填充有对第1主要气体成份为易吸附性之第2吸附剂的第2吸附塔21，把第2主要气体成份当作第2制品气体而分离的第2分离制程。且把在第1及第2分离制程中所排出的再生排气混合至原料气体的循环原料当作一被分离气体使用，并根据循环原料气体的成份浓度，控制第1制品气体的导出流量，借此，以将第2制品气体之导出流量、成份浓度维持成一定。

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