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41. 发明专利

TWI691613B 包含流動隔離環的處理套組有权
简体标题：包含流动隔离环的处理套组
公开(公告)号：TWI691613B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW105111357
申请日：2016-04-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：督波斯道爾R , DU BOIS, DALE R. , 葛許卡亞吉特 , GHOSH, KALYANJIT , 祝基恩N , CHUC, KIEN N. , 古卡霖梅尤G , KULKARNI, MAYUR G. , 巴魯札桑傑夫 , BALUJA, SANJEEV , 王彥杰 , WANG, YANJIE , 金晟鎭 , KIM, SUNGJIN
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/67

42. 发明专利

TW202015271A 遮罩框架及遮罩組件审中-公开
简体标题：遮罩框架及遮罩组件
公开(公告)号：TW202015271A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108120185
申请日：2019-06-11
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：曺生賢 , CHO, SAENG HYUN , 金敏鍾 , KIM, MIN JONG
IPC分类号： H01L51/56 , H01L21/033 , H01L21/027
摘要：一種遮罩框架及一種遮罩組件係說明。裝配以固定一遮罩板於其之遮罩框架包括一左框架，設置於一左側上；一右框架，設置於一右側上；一上框架，連接左框架之一上端部及右框架之一上端部彼此；以及一下框架，連接左框架之一下端部及右框架之一下端部彼此。上框架包括一上直線框架，在一水平方向中具有一線性形狀；以及一上彎曲框架，與上直線框架分離，上彎曲框架具有一兩側對稱形狀及向上凸出彎曲，及遮罩板耦接於上彎曲框架。如此一來，遮罩框架之變形及遮罩板的變形係避免，及在水平或垂直切換遮罩組件之位置的一程序中的變形係亦避免。
简体摘要：一种遮罩框架及一种遮罩组件系说明。装配以固定一遮罩板于其之遮罩框架包括一左框架，设置于一左侧上；一右框架，设置于一右侧上；一上框架，连接左框架之一上端部及右框架之一上端部彼此；以及一下框架，连接左框架之一下端部及右框架之一下端部彼此。上框架包括一上直线框架，在一水平方向中具有一线性形状；以及一上弯曲框架，与上直线框架分离，上弯曲框架具有一两侧对称形状及向上凸出弯曲，及遮罩板耦接于上弯曲框架。如此一来，遮罩框架之变形及遮罩板的变形系避免，及在水平或垂直切换遮罩组件之位置的一进程中的变形系亦避免。

43. 发明专利

TW202015152A 工件處理系統及其設備审中-公开
简体标题：工件处理系统及其设备
公开(公告)号：TW202015152A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108131771
申请日：2015-11-25
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 費賈斯汀 , PHI, JUSTIN , 馬洛爾丹恩A , MAROHL, DAN A. , 修吉瑟吉歐富庫達 , SHOJI, SERGIO FUKUDA , 梅斯貝德L , MAYS, BRAD L.
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/673
摘要：本案描述一種基板載具，該基板載具使用比例式熱流體輸送系統。在一個實例中，設備包括熱交換器以向基板載具之流體通道提供熱流體，且接收來自流體通道之熱流體，流體通道中之熱流體用以在基板處理期間控制載具之溫度。比例閥控制從熱交換器至流體通道之熱流體流速。溫度控制器接收來自載具之熱感測器的測得溫度，且回應於該測得溫度而控制比例閥以調整流速。
简体摘要：本案描述一种基板载具，该基板载具使用比例式热流体输送系统。在一个实例中，设备包括热交换器以向基板载具之流体信道提供热流体，且接收来自流体信道之热流体，流体信道中之热流体用以在基板处理期间控制载具之温度。比例阀控制从热交换器至流体信道之热流体流速。温度控制器接收来自载具之热传感器的测得温度，且回应于该测得温度而控制比例阀以调整流速。

44. 发明专利

TW202015109A 使用離子佈植用於基板中異向性應力補償的技術與裝置审中-公开
简体标题：使用离子布植用于基板中异向性应力补偿的技术与设备
公开(公告)号：TW202015109A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108129111
申请日：2019-08-15
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：法克史考特 , FALK, SCOTT , 陸俊峰 , LU, JUN-FENG , 張欽濤 , ZHANG, QINTAO
IPC分类号： H01L21/265
摘要：本案提供一種方法，其可包括提供基板的步驟，其中基板包括第一主表面和與第一主表面相對的第二主表面。第二主表面可包括應力補償層。該方法可以包括在離子佈植程序中將離子引導到應力補償層的步驟。離子佈植程序可以包括將應力補償層的第一區域暴露於第一佈植處理的步驟，其中應力補償層的第二區域不暴露於第一佈植處理。
简体摘要：本案提供一种方法，其可包括提供基板的步骤，其中基板包括第一主表面和与第一主表面相对的第二主表面。第二主表面可包括应力补偿层。该方法可以包括在离子布植进程中将离子引导到应力补偿层的步骤。离子布植进程可以包括将应力补偿层的第一区域暴露于第一布植处理的步骤，其中应力补偿层的第二区域不暴露于第一布植处理。

45. 发明专利

TW202015100A 微影設備及執行微發光二極體微影之方法审中-公开
简体标题：微影设备及运行微发光二极管微影之方法
公开(公告)号：TW202015100A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108121304
申请日：2019-06-19
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬可大衛 , MARKLE, DAVID
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/67 , G03F7/20 , G03F9/00
摘要：一種微影設備，具有：一基板掃描系統，裝配以掃描一基板；一圖案產生器，裝配以接收數個輸入訊號及產生數個輸出訊號，此些輸出訊號係與一圖案及一光源相關，光源連接於圖案產生器，其中光源係為至少一陣列之微發光二極體，其中此陣列之微發光二極體係裝配以接收來自圖案產生器之訊號及重複藉由圖案產生器所產生之圖案。
简体摘要：一种微影设备，具有：一基板扫描系统，装配以扫描一基板；一图案产生器，装配以接收数个输入信号及产生数个输出信号，此些输出信号系与一图案及一光源相关，光源连接于图案产生器，其中光源系为至少一数组之微发光二极管，其中此数组之微发光二极管系装配以接收来自图案产生器之信号及重复借由图案产生器所产生之图案。

46. 发明专利

TWI691030B 用於燈泡加熱組件的散光器有权
简体标题：用于灯泡加热组件的散光器
公开(公告)号：TWI691030B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW107105175
申请日：2014-04-17
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：拉尼斯喬瑟夫M , RANISH,JOSEPH M.
IPC分类号： H01L23/34 , H01L21/67

48. 发明专利

TWI690736B 藉由角度蝕刻工具中的基板旋轉而控制蝕刻角度有权
简体标题：借由角度蚀刻工具中的基板旋转而控制蚀刻角度
公开(公告)号：TWI690736B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW108113938
申请日：2019-04-22
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：梅耶帝莫曼泰森拉特格 , MEYER TIMMERMAN THIJSSEN, RUTGER , 伊恩摩根 , EVANS, MORGAN , 奧爾森約瑟夫C , OLSON, JOSEPH C.
IPC分类号： G02B5/18 , H01L21/3065 , H01J37/20

49. 实用新型

TWM592875U PVD濺射沉積腔室中的傾斜磁控管有权
简体标题： PVD溅射沉积腔室中的倾斜磁控管
公开(公告)号：TWM592875U
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：TW108213757
申请日：2019-10-18
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：孫立中 , SUN, LIZHONG , 楊曉冬 , YANG, XIAODONG , 周宇飛 , ZHOU, YUFEI , 楊毅 , YANG, YI
IPC分类号： C23C14/56

50. 发明专利

TWI690019B 用於校正基板變形的方法和設備有权
简体标题：用于校正基板变形的方法和设备
公开(公告)号：TWI690019B
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：TW107140002
申请日：2018-11-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：白永勝 , PEH, ENG SHENG , 希魯納弗卡羅蘇司瑞斯坎薩羅傑 , THIRUNAVUKARASU, SRISKANTHARAJAH , 蘇俊良 , SU, JUN-LIANG , 維亞普榮修裘 , VAYYAPRON, SHOJU , 伊魯瑪賴卡蒂克 , ELUMALAI, KARTHIK , 拉亞帕薩迪曼塔 , RAJAPAKSA, DIMANTHA , 塔緹阿魯恩庫瑪爾M , TATTI, ARUNKUMAR M
IPC分类号： H01L21/683

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