专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

31. 发明专利

TWI600875B 判定智慧型可彎曲系統中之裝置曲度之技術有权
简体标题：判定智能型可弯曲系统中之设备曲度之技术
公开(公告)号：TWI600875B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW104139140
申请日：2015-11-25
申请人：英特爾公司 , INTEL CORPORATION
发明人：克里門優里I , KRIMON, YURI I. , 波伊斯納大衛I , POISNER, DAVID I. , 史蒂芬斯倫哈德R , STEFFENS, REINHARD R.
IPC分类号： G01B11/16 , G01L1/24 , G08B21/18 , G06F1/16
CPC分类号： G01B11/16 , G01L1/24 , G06F1/1626 , G06F1/1652 , G06F1/1656 , G06F1/1684 , G08B21/187

32. 发明专利

TWI545270B 預設頸縮孔的光纖感測螺栓結構有权
简体标题：默认颈缩孔的光纤传感螺栓结构
公开(公告)号：TWI545270B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW103126622
申请日：2014-08-04
申请人：晉禾企業股份有限公司 , JINN HER ENTERPRISE CO., LTD
发明人：蔡永裕 , TSAI, YUNG YU , 楊春足 , YANG, CHUN CHU
IPC分类号： F16B31/02 , G01B11/16 , G01L1/24

33. 发明专利

TW201538942A 應力測定方法、應力測定用構件、應力測定用裝置审中-公开
简体标题：应力测定方法、应力测定用构件、应力测定用设备
公开(公告)号：TW201538942A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104111857
申请日：2015-04-14
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：林卓弘 , HAYASHI, TAKAHIRO
IPC分类号： G01L1/24
CPC分类号： G01L1/241 , C08G61/00 , C08G61/08 , C08G2261/3325 , C08G2261/418 , G01B11/16
摘要：根據本發明可提供應力測定方法、包含上述直線偏光膜和上述相位差膜的應力測定用構件、以及包含上述應力測定用構件和包含光彈性層的應力顯示構件的應力測定用裝置，所述應力測定方法是包括對包含被測定物的具有光彈性的物品照射依次透過直線偏光膜和相位差膜後的光的步驟、及依次隔著上述相位差膜和上述直線偏光膜檢測來源於上述光的由上述物品反射的反射光的的步驟的應力測定方法，上述相位差膜的在波長為550nm的光下的面內延遲Re(550)滿足100nm≤Re(550nm)≤700nm，上述相位差膜的在波長為450nm的光下的面內延遲Re(450)滿足Re(450)/Re(550)≥0.9。
简体摘要：根据本发明可提供应力测定方法、包含上述直线偏光膜和上述相位差膜的应力测定用构件、以及包含上述应力测定用构件和包含光弹性层的应力显示构件的应力测定用设备，所述应力测定方法是包括对包含被测定物的具有光弹性的物品照射依次透过直线偏光膜和相位差膜后的光的步骤、及依次隔着上述相位差膜和上述直线偏光膜检测来源于上述光的由上述物品反射的反射光的的步骤的应力测定方法，上述相位差膜的在波长为550nm的光下的面内延迟Re(550)满足100nm≤Re(550nm)≤700nm，上述相位差膜的在波长为450nm的光下的面内延迟Re(450)满足Re(450)/Re(550)≥0.9。

34. 发明专利

TWI480530B 顯示器用玻璃基板的亮度不均勻評估方法及其玻璃基板的製造方法有权
简体标题：显示器用玻璃基板的亮度不均匀评估方法及其玻璃基板的制造方法
公开(公告)号：TWI480530B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW098120089
申请日：2009-06-16
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：加藤嘉成 , KATO, YOSHINARI , 岡本大和 , OKAMOTO, HIROKAZU
IPC分类号： G01L1/24
CPC分类号： G01N21/8803 , G01N21/23 , G01N21/958 , G01N2021/9513 , G02F1/1309

35. 发明专利

TWI476385B 測量力分布的光感測器有权
简体标题：测量力分布的光传感器
公开(公告)号：TWI476385B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：TW097134638
申请日：2008-09-10
申请人：荷蘭TNO自然科學組織公司 , NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO
发明人：安卓亞斯亨里許迪耶左 , DIETZEL, ANDREAS HEINRICH , 哈瑪諾斯法蘭西斯瑪利亞史修 , SCHOO, HARMANNUS FRANCISCUS MARIA , 馬力諾斯馬克柯茲 , KOETSE, MARINUS MARC
IPC分类号： G01L1/24 , G06F3/042
CPC分类号： G01L1/247 , G01L1/241

36. 发明专利

TW201508249A 一體型光波導感測器系統审中-公开
简体标题：一体型光波导传感器系统
公开(公告)号：TW201508249A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103120167
申请日：2014-06-11
申请人：光學巴爾斯股份有限公司 , OPTICS BALZERS AG
发明人：凱爾佛羅里安 , KEHL, FLORIAN , 克卡米亞賈德 , KEKA, MIRJAD , 米其勒馬庫斯 , MICHLER, MARKUS , 史坦利羅斯 , STANLEY, ROSS
IPC分类号： G01D5/26 , G01N21/41 , G01L1/24 , G01K11/32
CPC分类号： G01N21/552 , G01N2021/4166
摘要：本發明係有關於一種一體型光波導感測器系統，其包含：一光源、一具有感測區域之平面及/或線性波導、位在該波導內之第一與第二布拉格光柵、光檢測手段，其特徵在於，該等布拉格光柵係以會與位在該等布拉格光柵之間的波導部分，一起形成一共振器的方式而分離。布拉格光柵與波導藉此會形成法布里-珀羅共振器，而位在該共振器外部之耦合光柵係被用於將光耦合進入與離開該波導。
简体摘要：本发明系有关于一种一体型光波导传感器系统，其包含：一光源、一具有传感区域之平面及/或线性波导、位在该波导内之第一与第二布拉格光栅、光检测手段，其特征在于，该等布拉格光栅系以会与位在该等布拉格光栅之间的波导部分，一起形成一共振器的方式而分离。布拉格光栅与波导借此会形成法布里-珀罗共振器，而位在该共振器外部之耦合光栅系被用于将光耦合进入与离开该波导。

37. 发明专利

TW201435313A 使用微柱的感測器組件及使用的方法审中-公开
简体标题：使用微柱的传感器组件及使用的方法
公开(公告)号：TW201435313A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103105394
申请日：2014-02-19
申请人：波音公司 , THE BOEING COMPANY
发明人：威爾金斯唐諾F , WILKINS, DONALD F.
IPC分类号： G01D5/26 , G01L1/24 , G01H9/00 , G01N21/84
CPC分类号： G01L1/24 , G02B26/02 , H04R23/008 , H04R2225/67
摘要：一種感測器組件，包含一光源、一調變層、以及至少一偵測器。該調變層包含複數微柱，該複數微柱各自均具有一固定端與一自由端。固定端各自毗鄰光源。該至少一偵測器毗鄰該複數微柱之自由端。該偵測器被組構成用以偵測發射自該光源之光。
简体摘要：一种传感器组件，包含一光源、一调制层、以及至少一侦测器。该调制层包含复数微柱，该复数微柱各自均具有一固定端与一自由端。固定端各自毗邻光源。该至少一侦测器毗邻该复数微柱之自由端。该侦测器被组构成用以侦测发射自该光源之光。

38. 发明专利

TWI407082B 光纖感測系統有权
简体标题：光纤传感系统
公开(公告)号：TWI407082B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW099118056
申请日：2010-06-04
申请人：國立高雄大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF KAOHSUING
发明人：施明昌
IPC分类号： G01D5/353 , G01K11/32 , G01L1/24

39. 发明专利

TW201317554A 反射式應力量測裝置及其方法审中-公开
简体标题：反射式应力量测设备及其方法
公开(公告)号：TW201317554A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW100139083
申请日：2011-10-27
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊富程 , YANG, FU CHENG , 謝易辰 , HSIEH, YI CHEN
IPC分类号： G01L1/24
摘要：一種反射式應力量測裝置及其方法，具有一光源、一起偏偏光件、一分光鏡、一鏡頭組、一光柵結構、一檢偏偏光件與一擷取裝置，光源提供一光束，光束經起偏偏光件、分光鏡與鏡頭組而形成一測試光束，測試光束經光柵結構繞射引入一待測物，於待測物的內表面產生一反射，再由光柵結構繞射而出，再經鏡頭組。分光鏡與檢偏偏光件，而由擷取裝置擷取，以求得待測物表面全域之應力分佈結果，藉由前述裝置與方法，克服3C產品封閉結構於量測應力時之表面反射訊號干擾的問題。
简体摘要：一种反射式应力量测设备及其方法，具有一光源、一起偏偏光件、一分光镜、一镜头组、一光栅结构、一检偏偏光件与一截取设备，光源提供一光束，光束经起偏偏光件、分光镜与镜头组而形成一测试光束，测试光束经光栅结构绕射引入一待测物，于待测物的内表面产生一反射，再由光栅结构绕射而出，再经镜头组。分光镜与检偏偏光件，而由截取设备截取，以求得待测物表面全域之应力分布结果，借由前述设备与方法，克服3C产品封闭结构于量测应力时之表面反射信号干扰的问题。

40. 发明专利

TW202004143A 曲面貼合的應變監測方法审中-公开
简体标题：曲面贴合的应变监测方法
公开(公告)号：TW202004143A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW107119532
申请日：2018-06-06
申请人：大陸商業成科技(成都)有限公司 , INTERFACE TECHNOLOGY (CHENGDU) CO., LTD. , 大陸商業成光電(深圳)有限公司 , INTERFACE OPTOELECTRONICS (SHENZHEN) CO., LTD. , 英特盛科技股份有限公司 , GENERAL INTERFACE SOLUTION LIMITED
发明人：賴世倫 , LAI, SHIH LUN
IPC分类号： G01L1/24
摘要：本發明有關於一種曲面貼合的應變監測方法。此應變監測方法係將監測膜貼合於曲面上，以量測貼合應變梯度，並獲得光學膜於貼合時之應變變化，而可調整貼合時之參數，進而提升曲面之貼合效果。其中，貼合應變梯度係藉由監測膜之複數個應變監測元件來量測。
简体摘要：本发明有关于一种曲面贴合的应变监测方法。此应变监测方法系将监测膜贴合于曲面上，以量测贴合应变梯度，并获得光学膜于贴合时之应变变化，而可调整贴合时之参数，进而提升曲面之贴合效果。其中，贴合应变梯度系借由监测膜之复数个应变监测组件来量测。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式