专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

31. 发明专利

TW201316842A 輻射源审中-公开
简体标题：辐射源
公开(公告)号：TW201316842A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101132596
申请日：2012-09-06
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：凡沙特珍伯納德波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS , 白尼凡丁葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 亞庫寧安卓米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 可魯威爾荷曼諾斯喬漢思馬利亞 , KREUWEL, HERMANUS JOHANNES MARIA , 莫斯喬漢斯哈博特喬瑟菲那 , MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 佛利恩斯歐勒夫華德瑪佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 史溫克斯格爾達斯哈柏特斯彼佐斯瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA , 凡德海倫艾維歐 , VANDERHALLEN, IVO , 史坦姆烏維布魯諾海尼 , STAMM, UWE BRUNO HEINI
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要：一種輻射源，其具有一燃料串流產生器，該燃料串流產生器產生一燃料串流且沿著朝向一電漿形成部位之一軌跡引導該燃料串流。一預脈衝雷射輻射總成在該電漿形成部位處將一第一雷射輻射光束引導於該燃料串流處以產生一經修改燃料目標。一主脈衝雷射輻射總成在該電漿形成部位處將一第二雷射輻射光束引導於該經修改燃料目標處以產生一輻射產生電漿。一收集器收集該輻射且沿著該輻射源之一光軸引導該輻射。該第一雷射輻射光束係實質上沿著該光軸被引導朝向該燃料串流。
简体摘要：一种辐射源，其具有一燃料串流产生器，该燃料串流产生器产生一燃料串流且沿着朝向一等离子形成部位之一轨迹引导该燃料串流。一预脉冲激光辐射总成在该等离子形成部位处将一第一激光辐射光束引导于该燃料串流处以产生一经修改燃料目标。一主脉冲激光辐射总成在该等离子形成部位处将一第二激光辐射光束引导于该经修改燃料目标处以产生一辐射产生等离子。一收集器收集该辐射且沿着该辐射源之一光轴引导该辐射。该第一激光辐射光束系实质上沿着该光轴被引导朝向该燃料串流。

32. 发明专利

TW201313075A 輻射源及微影裝置审中-公开
简体标题：辐射源及微影设备
公开(公告)号：TW201313075A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101129780
申请日：2012-08-16
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , H01S3/08009 , H01S3/0804 , H01S3/08059 , H01S3/105 , H01S3/123 , H01S3/2232 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要：一種輻射源，其包含：一噴嘴，其經組態以沿著一軌跡引導一燃料小滴串流朝向一電漿形成部位；及一雷射，其經組態以將雷射輻射引導至該電漿形成部位以將該電漿形成部位處之該等燃料小滴轉換成一電漿。該雷射包含一放大器及一光學器件，該光學器件經組態以界定用於傳遞通過該放大器之輻射之一發散光束路徑。
简体摘要：一种辐射源，其包含：一喷嘴，其经组态以沿着一轨迹引导一燃料小滴串流朝向一等离子形成部位；及一激光，其经组态以将激光辐射引导至该等离子形成部位以将该等离子形成部位处之该等燃料小滴转换成一等离子。该激光包含一放大器及一光学器件，该光学器件经组态以界定用于传递通过该放大器之辐射之一发散光束路径。

33. 发明专利

TW201308020A 輻射源审中-公开
简体标题：辐射源
公开(公告)号：TW201308020A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW100146321
申请日：2011-12-14
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：坎班丹東尼斯帝朵勒懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 泰根伯亨利卡斯茄德斯 , TEGENBOSCH, HENRICUS GERARDUS , 史溫克斯格爾達斯哈柏特斯彼佐斯瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要：一種輻射源，其包括：一噴嘴，其經組態以沿著朝向一電漿形成部位之一軌道引導一燃料小滴串流；一雷射，其經組態以輸出雷射輻射，該雷射輻射在該電漿形成部位處經引導於該等燃料小滴處以在使用時產生一輻射產生電漿；及一捕獲器，其經配置以捕獲通過該電漿形成部位之燃料小滴，該捕獲器包括：一容器，其經組態以含有一流體；一驅動器，其經組態以驅動該流體以造成該流體移動；該捕獲器經組態成使得該等燃料小滴入射於該移動流體上。
简体摘要：一种辐射源，其包括：一喷嘴，其经组态以沿着朝向一等离子形成部位之一轨道引导一燃料小滴串流；一激光，其经组态以输出激光辐射，该激光辐射在该等离子形成部位处经引导于该等燃料小滴处以在使用时产生一辐射产生等离子；及一捕获器，其经配置以捕获通过该等离子形成部位之燃料小滴，该捕获器包括：一容器，其经组态以含有一流体；一驱动器，其经组态以驱动该流体以造成该流体移动；该捕获器经组态成使得该等燃料小滴入射于该移动流体上。

34. 发明专利

TW201245899A 用以補償極紫外線光源之熱效應之系統與方法 SYSTEM AND METHOD FOR COMPENSATING FOR THERMAL EFFECTS IN AN EUV LIGHT SOURCE 审中-公开
简体标题：用以补偿极紫外线光源之热效应之系统与方法 SYSTEM AND METHOD FOR COMPENSATING FOR THERMAL EFFECTS IN AN EUV LIGHT SOURCE
公开(公告)号：TW201245899A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101107451
申请日：2012-03-06
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：葛拉漢馬修R , 霍甘歐拉夫 , 派特洛威廉N
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： H05G2/008 , G02B7/028 , H01S3/005
摘要：一種用以在一雷射製造的電漿(LPP)極紫外線(EUV)光系統中補償一用來將一雷射束聚焦於一在一照射位置之標靶材料上的透鏡之聚焦區上的熱效應之方法及裝置係被揭露。該光系統的EUV能量輸出會在取樣時段被測量作為該雷射功率之一代表。該聚焦透鏡上的熱負載會由所測得的EUV功率來被估計，該透鏡之焦距對該熱負載的預期變化會被計算，且該透鏡位置會被調整以補償所算出的焦距變化。該透鏡的實際位置可被決定並相較於其所需位置，並被調整以確使其會保留在該所需位置。
简体摘要：一种用以在一激光制造的等离子(LPP)极紫外线(EUV)光系统中补偿一用来将一激光束聚焦于一在一照射位置之标靶材料上的透镜之聚焦区上的热效应之方法及设备系被揭露。该光系统的EUV能量输出会在采样时段被测量作为该激光功率之一代表。该聚焦透镜上的热负载会由所测得的EUV功率来被估计，该透镜之焦距对该热负载的预期变化会被计算，且该透镜位置会被调整以补偿所算出的焦距变化。该透镜的实际位置可被决定并相较于其所需位置，并被调整以确使其会保留在该所需位置。

35. 发明专利

TW201232560A 用於極紫外線微影裝置的元件、包含該元件的極紫外線微影裝置及製造該元件的方法 COMPONENTS FOR EUV LITHOGRAPHIC APPARATUS, EUV LITHOGRAPHIC APPARATUS INCLUDING SUCH COMPONENTS AND METHOD FOR MANUFACTURING SUCH COMPONENTS 审中-公开
简体标题：用于极紫外线微影设备的组件、包含该组件的极紫外线微影设备及制造该组件的方法 COMPONENTS FOR EUV LITHOGRAPHIC APPARATUS, EUV LITHOGRAPHIC APPARATUS INCLUDING SUCH COMPONENTS AND METHOD FOR MANUFACTURING SUCH COMPONENTS
公开(公告)号：TW201232560A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100121482
申请日：2011-06-20
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , 白尼凡丁葉弗真葉米希 , 索爾烏特爾安頌 , 亞庫寧安卓米克哈洛維奇 , 凡卡姆潘馬騰 , 俠斯福特傑瑞德法蘭斯喬瑟夫
IPC分类号： G21K , G03F , H01L
CPC分类号： C09D5/08 , B32B15/01 , B32B15/018 , G02B5/208 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70858 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G21K1/10 , H05G2/008 , Y10T428/12736 , Y10T428/12778 , Y10T428/12806 , Y10T428/12986 , Y10T428/31678
摘要：一種金屬元件(262M、300M)經設計以用於一極紫外線(EUV)微影裝置中,例如,作為一光譜純度濾光器(260)或在一氫自由基產生器中之一加熱組件(300)。該金屬之一經曝露表面經處置(262P、300P)以禁止在操作之前於一空氣環境中形成該金屬之氧化物。此情形防止藉由在高溫下該元件之操作期間該氧化物之後續蒸發而對光學元件之污染。
简体摘要：一种金属组件(262M、300M)经设计以用于一极紫外线(EUV)微影设备中,例如,作为一光谱纯度滤光器(260)或在一氢自由基产生器中之一加热组件(300)。该金属之一经曝露表面经处置(262P、300P)以禁止在操作之前于一空气环境中形成该金属之氧化物。此情形防止借由在高温下该组件之操作期间该氧化物之后续蒸发而对光学组件之污染。

36. 发明专利

TW201230881A 具有在極紫外線（ＥＵＶ）非輸出期間用以維持雷射生成式電漿（ＬＰＰ）驅動雷射輸出之次系統的ＥＵＶ光源 EUV LIGHT SOURCE WITH SUBSYSTEM(S) FOR MAINTAINING LPP DRIVE LASER OUTPUT DURING EUV NON-OUTPUT PERIODS 审中-公开
简体标题：具有在极紫外线（ＥＵＶ）非输出期间用以维持激光生成式等离子（ＬＰＰ）驱动激光输出之次系统的ＥＵＶ光源 EUV LIGHT SOURCE WITH SUBSYSTEM(S) FOR MAINTAINING LPP DRIVE LASER OUTPUT DURING EUV NON-OUTPUT PERIODS
公开(公告)号：TW201230881A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100133376
申请日：2011-09-16
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：派特洛威廉N , 山德史東理查L , 布朗丹尼爾J W , 佛蒙柯維伊格爾V
IPC分类号： H05G
CPC分类号： G21K5/00 , G03F7/70033 , H01S3/117 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H05G2/008
摘要：本發明揭露一裝置,該裝置係可包含一微滴產生器,其生成標靶材料的微滴;一感測器,其當一微滴抵達一預選定區位時提供一攔截時間信號;一延遲電路,其耦合於該感測器;一雷射源,其回應於一觸發信號以生成一雷射脈衝;及一系統,其控制該延遲電路以提供自攔截時間延遲一第一延遲時間之一觸發信號以產生一被聚焦於一微滴上之光脈衝,以及自攔截時間延遲一第二延遲時間之一觸發信號以產生一未被聚焦於一微滴上之光脈衝。
简体摘要：本发明揭露一设备,该设备系可包含一微滴产生器,其生成标靶材料的微滴;一传感器,其当一微滴抵达一预选定区位时提供一拦截时间信号;一延迟电路,其耦合于该传感器;一激光源,其回应于一触发信号以生成一激光脉冲;及一系统,其控制该延迟电路以提供自拦截时间延迟一第一延迟时间之一触发信号以产生一被聚焦于一微滴上之光脉冲,以及自拦截时间延迟一第二延迟时间之一触发信号以产生一未被聚焦于一微滴上之光脉冲。

37. 发明专利

TW201202867A 遠紫外線輻射源及遠紫外線輻射產生方法 EUV RADIATION SOURCE AND EUV RADIATION GENERATION METHOD 审中-公开
简体标题：远紫外线辐射源及远紫外线辐射产生方法 EUV RADIATION SOURCE AND EUV RADIATION GENERATION METHOD
公开(公告)号：TW201202867A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100110202
申请日：2011-03-24
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：亞庫寧安卓米克哈洛維奇 , 白尼凡丁葉弗真葉米希 , 依法諾法拉帝莫維塔拉維屈 , 卡士李康士坦汀尼可拉威屈 , 可瑞森法狄米爾米哈囉維茲 , 葛魯希可夫丹尼斯亞歷山卓維奇
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , H05G2/003
摘要：本發明揭示一種遠紫外線(EUV)輻射源，該EUV輻射源包含：一燃料供應件，該燃料供應件經組態以將一燃料小滴傳送至一電漿產生部位；一第一雷射光束源，該第一雷射光束源經組態以提供一第一雷射輻射光束，該第一雷射輻射光束入射於在該電漿產生部位處之該燃料小滴上，且藉此汽化該燃料小滴；及一第二雷射光束源，該第二雷射光束源經組態以隨後在該電漿產生部位處提供一第二雷射輻射光束，該第二雷射輻射光束經組態以汽化起因於該燃料小滴之不完全汽化的碎屑粒子。
简体摘要：本发明揭示一种远紫外线(EUV)辐射源，该EUV辐射源包含：一燃料供应件，该燃料供应件经组态以将一燃料小滴发送至一等离子产生部位；一第一激光光束源，该第一激光光束源经组态以提供一第一激光辐射光束，该第一激光辐射光束入射于在该等离子产生部位处之该燃料小滴上，且借此汽化该燃料小滴；及一第二激光光束源，该第二激光光束源经组态以随后在该等离子产生部位处提供一第二激光辐射光束，该第二激光辐射光束经组态以汽化起因于该燃料小滴之不完全汽化的碎屑粒子。

38. 发明专利

TW201143537A 用於極端紫外光源之度量技術 METROLOGY FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE 审中-公开
简体标题：用于极端紫外光源之度量技术 METROLOGY FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE
公开(公告)号：TW201143537A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099142117
申请日：2010-12-03
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：塞奈凱里米恩法漢 , 金南亨 , 貝格斯泰德羅伯特A , 佛蒙柯維伊格爾V , 派特洛威廉N
IPC分类号： H05G
CPC分类号： G01J1/429 , H05G2/008
摘要：一極端紫外光系統包含:一驅動雷射系統,其產生一放大光束;一目標材料傳送系統,其被組態以在一目標位置產生一目標材料;一射束傳送系統,其被組態以接收自該驅動雷射系統所放射之放大光束並且引導該放大光束朝向該目標位置;以及一度量系統。該射束傳送系統包含聚光透鏡,其被組態並且被配置以將該放大光束聚焦在該目標位置。該度量系統包含一聚光系統,該聚光系統被組態以聚集自該聚光透鏡所反射之該放大光束之一部份以及自該聚光透鏡所反射之該導引雷射光束之一部份。該聚光系統包含被組態以光學式分離該等部份之一個二向色光學裝置。
简体摘要：一极端紫外光系统包含:一驱动激光系统,其产生一放大光束;一目标材料发送系统,其被组态以在一目标位置产生一目标材料;一射束发送系统,其被组态以接收自该驱动激光系统所放射之放大光束并且引导该放大光束朝向该目标位置;以及一度量系统。该射束发送系统包含聚光透镜,其被组态并且被配置以将该放大光束聚焦在该目标位置。该度量系统包含一聚光系统,该聚光系统被组态以聚集自该聚光透镜所反射之该放大光束之一部份以及自该聚光透镜所反射之该导引激光光束之一部份。该聚光系统包含被组态以光学式分离该等部份之一个二向色光学设备。

39. 发明专利

TW201130386A 雷射產生電漿方式之極端紫外光源及其產生方法 EUV LIGHT SOURCE BY LPP AND GENERATING METHOD THEREOF 失效
简体标题：激光产生等离子方式之极端紫外光源及其产生方法 EUV LIGHT SOURCE BY LPP AND GENERATING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201130386A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW099129224
申请日：2010-08-31
申请人： IHI股份有限公司 , 國立大學法人東京工業大學
发明人：桑原一 , 堀岡一彥
IPC分类号： H05G
CPC分类号： H05G2/003 , H05G2/008
摘要：本發明具備:真空腔室12,保持於真空環境;氣體噴射裝置14,以可回收之方式在真空腔室內形成靶物質之極超音速恆定噴射氣體1;及雷射裝置16,將雷射光3聚光照射於極超音速恆定噴射氣體;在雷射光之聚光點2激勵靶物質而使之產生電漿,且從該處發出極端紫外光4。
简体摘要：本发明具备:真空腔室12,保持于真空环境;气体喷射设备14,以可回收之方式在真空腔室内形成靶物质之极超音速恒定喷射气体1;及激光设备16,将激光光3聚光照射于极超音速恒定喷射气体;在激光光之聚光点2激励靶物质而使之产生等离子,且从该处发出极端紫外光4。

40. 发明专利

TW201028049A 用以在極紫外線光源中遞送驅動雷射光束之系統與方法 SYSTEMS AND METHODS FOR DRIVE LASER BEAM DELIVERY IN AN EUV LIGHT SOURCE 失效
简体标题：用以在极紫外线光源中递送驱动激光光束之系统与方法 SYSTEMS AND METHODS FOR DRIVE LASER BEAM DELIVERY IN AN EUV LIGHT SOURCE
公开(公告)号：TW201028049A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098139703
申请日：2009-11-23
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：派特洛威廉N , 佛門哥伊克爾V , 派克斯頓傑森
IPC分类号： H05G
CPC分类号： H05G2/003 , H01S3/005 , H01S3/2391 , H05G2/008
摘要：本文所描述的一極紫外線(EUV)光源裝置可包含一雷射光束,其沿一光束路徑傳播,該光束路徑的至少一部分沿一線性軸對齊;一材料,其用以與在一照射位置上的該雷射光束相互作用以產生一EUV光發射電漿;一第一反射體,其具有一焦點,該第一反射體被定位以使該焦點在該線性軸上,該第一反射體接收沿該光束路徑的雷射光;及一第二反射體,其接收由該第一反射體反射的雷射光且將該雷射光指向該照射位置。
简体摘要：本文所描述的一极紫外线(EUV)光源设备可包含一激光光束,其沿一光束路径传播,该光束路径的至少一部分沿一线性轴对齐;一材料,其用以与在一照射位置上的该激光光束相互作用以产生一EUV光发射等离子;一第一反射体,其具有一焦点,该第一反射体被定位以使该焦点在该线性轴上,该第一反射体接收沿该光束路径的激光光;及一第二反射体,其接收由该第一反射体反射的激光光且将该激光光指向该照射位置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式