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1. 发明专利

TWI519733B 照明系統、微影裝置及形成照明模式的方法有权
简体标题：照明系统、微影设备及形成照明模式的方法
公开(公告)号：TWI519733B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW099106363
申请日：2010-03-04
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：路普斯塔艾利克蘿洛夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 范英根斯奇紐柯恩 , VAN INGEN SCHENAU, KOEN , 凡沙特珍伯納德波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS , 華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 德弗瑞斯高斯查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES
IPC分类号： F21V14/04 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70075 , G03F7/70116

3. 发明专利

TW201313074A 輻射源审中-公开
简体标题：辐射源
公开(公告)号：TW201313074A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101129772
申请日：2012-08-16
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/008 , G02B27/283 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70983 , H01S3/0064 , H01S3/2316 , H01S3/2333 , H05G2/003 , H05G2/005
摘要：根據本發明之一第一態樣，提供一種輻射源，該輻射源包含：一噴嘴，其經組態以沿著一軌跡引導一燃料小滴串流朝向一電漿形成部位；一雷射，其經組態以將雷射輻射引導於該電漿形成部位處之一燃料小滴處以在使用時產生一輻射產生電漿；其中該雷射包含：一種子雷射，其用於提供一種子雷射光束；一光束分裂器，其用於自該種子雷射接收該種子雷射光束；一光學放大器，其用於自該光束分裂器接收該種子雷射光束且執行光學放大；一第一反射體，其位於該光學放大器下游，該第一反射體經組態以引導該種子雷射光束返回通過該光學放大器且到達該光束分裂器；及一第二反射體，其更遠地位於該光束分裂器下游，該第二反射體經組態以自該光束分裂器接收該種子雷射光束且引導該種子雷射光束返回朝向該光束分裂器。
简体摘要：根据本发明之一第一态样，提供一种辐射源，该辐射源包含：一喷嘴，其经组态以沿着一轨迹引导一燃料小滴串流朝向一等离子形成部位；一激光，其经组态以将激光辐射引导于该等离子形成部位处之一燃料小滴处以在使用时产生一辐射产生等离子；其中该激光包含：一种子激光，其用于提供一种子激光光束；一光束分裂器，其用于自该种子激光接收该种子激光光束；一光学放大器，其用于自该光束分裂器接收该种子激光光束且运行光学放大；一第一反射体，其位于该光学放大器下游，该第一反射体经组态以引导该种子激光光束返回通过该光学放大器且到达该光束分裂器；及一第二反射体，其更远地位于该光束分裂器下游，该第二反射体经组态以自该光束分裂器接收该种子激光光束且引导该种子激光光束返回朝向该光束分裂器。

4. 发明专利

TWI586222B 輻射源、雷射系統、微影裝置及產生雷射光束之方法有权
简体标题：辐射源、激光系统、微影设备及产生激光光束之方法
公开(公告)号：TWI586222B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW101129772
申请日：2012-08-16
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/008 , G02B27/283 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70983 , H01S3/0064 , H01S3/2316 , H01S3/2333 , H05G2/003 , H05G2/005

5. 发明专利

TWI396056B 浸潤式微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：浸润式微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI396056B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW097148044
申请日：2008-12-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：馬汀斯漢德利克斯安東尼斯里恩德斯 , LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 史傑德尼可拉斯藍伯特東德 , DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS , 克利斯提恩華格納 , WAGNER, CHRISTIAN , 羅吉爾韓得瑞克馬格達雷那寇堤 , CORTIE, ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70341

6. 发明专利

TW201313075A 輻射源及微影裝置审中-公开
简体标题：辐射源及微影设备
公开(公告)号：TW201313075A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101129780
申请日：2012-08-16
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , H01S3/08009 , H01S3/0804 , H01S3/08059 , H01S3/105 , H01S3/123 , H01S3/2232 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要：一種輻射源，其包含：一噴嘴，其經組態以沿著一軌跡引導一燃料小滴串流朝向一電漿形成部位；及一雷射，其經組態以將雷射輻射引導至該電漿形成部位以將該電漿形成部位處之該等燃料小滴轉換成一電漿。該雷射包含一放大器及一光學器件，該光學器件經組態以界定用於傳遞通過該放大器之輻射之一發散光束路徑。
简体摘要：一种辐射源，其包含：一喷嘴，其经组态以沿着一轨迹引导一燃料小滴串流朝向一等离子形成部位；及一激光，其经组态以将激光辐射引导至该等离子形成部位以将该等离子形成部位处之该等燃料小滴转换成一等离子。该激光包含一放大器及一光学器件，该光学器件经组态以界定用于传递通过该放大器之辐射之一发散光束路径。

7. 发明专利

TW201308020A 輻射源审中-公开
简体标题：辐射源
公开(公告)号：TW201308020A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW100146321
申请日：2011-12-14
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：坎班丹東尼斯帝朵勒懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 華格納克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 泰根伯亨利卡斯茄德斯 , TEGENBOSCH, HENRICUS GERARDUS , 史溫克斯格爾達斯哈柏特斯彼佐斯瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要：一種輻射源，其包括：一噴嘴，其經組態以沿著朝向一電漿形成部位之一軌道引導一燃料小滴串流；一雷射，其經組態以輸出雷射輻射，該雷射輻射在該電漿形成部位處經引導於該等燃料小滴處以在使用時產生一輻射產生電漿；及一捕獲器，其經配置以捕獲通過該電漿形成部位之燃料小滴，該捕獲器包括：一容器，其經組態以含有一流體；一驅動器，其經組態以驅動該流體以造成該流體移動；該捕獲器經組態成使得該等燃料小滴入射於該移動流體上。
简体摘要：一种辐射源，其包括：一喷嘴，其经组态以沿着朝向一等离子形成部位之一轨道引导一燃料小滴串流；一激光，其经组态以输出激光辐射，该激光辐射在该等离子形成部位处经引导于该等燃料小滴处以在使用时产生一辐射产生等离子；及一捕获器，其经配置以捕获通过该等离子形成部位之燃料小滴，该捕获器包括：一容器，其经组态以含有一流体；一驱动器，其经组态以驱动该流体以造成该流体移动；该捕获器经组态成使得该等燃料小滴入射于该移动流体上。

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