专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

31. 发明专利

TW200606209A 供改善有機發光二極體用之聚吩調製物 POLYTHIOPHENE FORMULATIONS FOR IMPROVING ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODES 审中-公开
简体标题：供改善有机发光二极管用之聚吩调制物 POLYTHIOPHENE FORMULATIONS FOR IMPROVING ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODES
公开(公告)号：TW200606209A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：TW094103290
申请日：2005-02-03
申请人：史達克有限公司 H. C. STARCK GMBH
发明人：伊靄帝 ELSCHNER, ANDREAS , 周翰發 JONAS, FRIEDRICH , 李巫德 REUTER, KNUD , 羅萬烈 LOEVENICH, PETER WILFRIED
IPC分类号： C08L , H01L , H05B
CPC分类号： C08L65/00 , C08L25/18 , C08L27/12 , H01L51/0037 , H01L51/5088 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , C08L2666/06 , C08L2666/04
摘要：本發明涉及含有聚吩A)的調製物，所述聚吩A)包含至少一種含有通式(I)重複單元的聚吩，和其他聚合物，還涉及其應用以及電致發光裝置，所述電致發光裝置中包含含有這些調製物的空穴注入層。094103290-p01.bmp
简体摘要：本发明涉及含有聚吩A)的调制物，所述聚吩A)包含至少一种含有通式(I)重复单元的聚吩，和其他聚合物，还涉及其应用以及电致发光设备，所述电致发光设备中包含含有这些调制物的空穴注入层。094103290-p01.bmp

32. 发明专利

TWI241309B 經取代之苯乙烯之均聚物、共聚物及三聚物之製備 PREPARATION OF HOMO-, CO-AND TERPOLYMERS OF SUBSTITUTED STYRENES 有权
简体标题：经取代之苯乙烯之均聚物、共聚物及三聚物之制备 PREPARATION OF HOMO-, CO-AND TERPOLYMERS OF SUBSTITUTED STYRENES
公开(公告)号：TWI241309B
公开(公告)日：2005-10-11
申请号：TW092108932
申请日：2003-04-17
申请人：坎佛電子材料(CFEM)公司 CHEMFIRST ELECTRONIC MATERIALS LP (CFEM)
发明人：麥可T. 雪漢 MICHAEL T. SHEEHAN , 占姆斯R. 蘇尼克 JAMES R. SOUNIK
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F6/04 , C08F6/02 , C08F8/14 , C08F2800/10 , C08F2800/20 , G03F7/0045 , G03F7/039 , C08L25/18 , C08L25/00 , C08F212/14
摘要：一種製備對羥基苯乙烯或經取代之對羥基苯乙烯與烷基丙烯酸酯之均聚物、共聚物及三聚物之新穎、節約成本之"一鍋法"。此方法涉及對羥基苯乙烯(或其經取代之類似物)之酯，烷基丙烯酸酯單體及/或一種或多種不飽和烯系單體之聚合反應，該聚合反應於一種醇溶劑中且在存在自由基引發劑之條件下進行。使包含所生成之聚合物的反應混合物在酯基轉移條件下，使用催化量之催化劑反應，以獲得對羥基苯乙烯之共聚物及/或三聚物，而丙烯酸酯重覆單元中烷基醚不必分裂，然後自系統中移除催化劑。較佳具體實施例包含：對羥基苯乙烯均聚物，對羥基苯乙烯及丙烯酸第三丁酯之共聚物及對羥基苯乙烯、丙烯酸第三丁酯及苯乙烯之三聚物。該等聚合物具有廣泛之應用範圍，包括作為微電子工業之光致抗蝕劑。
简体摘要：一种制备对羟基苯乙烯或经取代之对羟基苯乙烯与烷基丙烯酸酯之均聚物、共聚物及三聚物之新颖、节约成本之"一锅法"。此方法涉及对羟基苯乙烯(或其经取代之类似物)之酯，烷基丙烯酸酯单体及/或一种或多种不饱和烯系单体之聚合反应，该聚合反应于一种醇溶剂中且在存在自由基引发剂之条件下进行。使包含所生成之聚合物的反应混合物在酯基转移条件下，使用催化量之催化剂反应，以获得对羟基苯乙烯之共聚物及/或三聚物，而丙烯酸酯重复单元中烷基醚不必分裂，然后自系统中移除催化剂。较佳具体实施例包含：对羟基苯乙烯均聚物，对羟基苯乙烯及丙烯酸第三丁酯之共聚物及对羟基苯乙烯、丙烯酸第三丁酯及苯乙烯之三聚物。该等聚合物具有广泛之应用范围，包括作为微电子工业之光致抗蚀剂。

33. 发明专利

TW574316B 供電子學應用的高–熔點聚醯胺組成物失效
简体标题：供电子学应用的高–熔点聚酰胺组成物
公开(公告)号：TW574316B
公开(公告)日：2004-02-01
申请号：TW088103345
申请日：1999-03-02
申请人： DSM股份有限公司 DSM N.V.
发明人：赫柏特海文尼斯 HAVENITH, HUBERTUS GERARDUS JOZEF , 威海慕索爾 SOUR, WILHELMUS JOSEPHUS MARIA , 約翰尼斯提森 TIJSSEN, JOHANNES , 羅伯特李溫道 LEEUWENDAL, ROBERT MAARTEN
IPC分类号： C08L
CPC分类号： H01L21/4803 , C08K5/03 , C08L25/18 , C08L67/02 , C08L77/00 , C08L77/06 , C08L2666/18
摘要：本發明關於一種用來製備電的及電子的成分的聚醯胺組成物，這些成分可適用表面鑲板技術的條件。特別是，此組成物顯示出回流接合過程中對起泡的高度抗性。
根據本發明之組成物包含了：(a)一種具有高於280℃之熔點的聚醯胺，(b)一種具有低於230℃之熔點的聚合物，(c)一種含鹵素的化合物，(d)隨意地含一種用於防焰性質的協同劑，(e)加強物質，( f)隨意地含有其它添加劑。
當(f)含有至少一種帶有酸亞胺基團的化合物時可以得到特別好的起泡抗性。
简体摘要：本发明关于一种用来制备电的及电子的成分的聚酰胺组成物，这些成分可适用表面镶板技术的条件。特别是，此组成物显示出回流接合过程中对起泡的高度抗性。根据本发明之组成物包含了：(a)一种具有高于280℃之熔点的聚酰胺，(b)一种具有低于230℃之熔点的聚合物，(c)一种含卤素的化合物，(d)随意地含一种用于防焰性质的协同剂，(e)加强物质，( f)随意地含有其它添加剂。当(f)含有至少一种带有酸亚胺基团的化合物时可以得到特别好的起泡抗性。

34. 发明专利

TW558674B 新穎阻體之製法有权
简体标题：新颖阻体之制法
公开(公告)号：TW558674B
公开(公告)日：2003-10-21
申请号：TW087115704
申请日：1998-09-21
申请人：克拉瑞國際股份有限公司
发明人：岡崎博 , 蓋格帕洛斯基 , 船戶覺 , 木下義章 , 山口優子(舊姓野崎)
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/039 , C08F8/00 , C08F8/14 , C08F8/18 , C08F212/14 , C08F257/02 , C08F2800/20 , C08F2810/30 , C08L25/18 , C09D125/18 , G03F7/0045 , Y10S430/119 , C08F12/14 , C08F216/125 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F112/14
摘要：本發明係一種製備阻體組成物之方法，其包含把具有酚式羥墓或羧基之鹼溶性聚合物，及乙烯基醚化合物和／或二烷基二碳酸酯，在觸媒存在下，於非質子性溶劑中反應，於反應溶液直接添加光酸發生劑，且必要時之其他添加劑，反應形成的阻體材料不必單離精製，即可得阻體組成物。具有酚式羥基或羧基之鹼溶性聚合物與乙烯基醚化合物反應時，觸媒可用藉光酸發生劑生成的酸同種類之酸，以非芳香族系者為佳，可利用反應停止劑停止反應。反應停止劑可用化學增幅型阻體中所用鹼。而使用二烷基二碳酸酯時，觸媒可用三乙胺，三苯基乙酸醯等鹼性觸媒，不用反應停止劑，可直接添加光酸發生劑。
由於阻體材料不必要設有單離，精製步驟，不但步驟可以簡化，發生省時，經濟效果，而且省略阻體單離，精製步驟所必要的大量有機溶劑和水，不會產生破壞環境肇因的有機廢液、廢水、容易製成KrF eximer雷射曝光用等阻體組成物。
简体摘要：本发明系一种制备阻体组成物之方法，其包含把具有酚式羟墓或羧基之碱溶性聚合物，及乙烯基醚化合物和／或二烷基二碳酸酯，在触媒存在下，于非质子性溶剂中反应，于反应溶液直接添加光酸发生剂，且必要时之其他添加剂，反应形成的阻体材料不必单离精制，即可得阻体组成物。具有酚式羟基或羧基之碱溶性聚合物与乙烯基醚化合物反应时，触媒可用藉光酸发生剂生成的酸同种类之酸，以非芳香族系者为佳，可利用反应停止剂停止反应。反应停止剂可用化学增幅型阻体中所用碱。而使用二烷基二碳酸酯时，触媒可用三乙胺，三苯基乙酸酰等碱性触媒，不用反应停止剂，可直接添加光酸发生剂。由于阻体材料不必要设有单离，精制步骤，不但步骤可以简化，发生省时，经济效果，而且省略阻体单离，精制步骤所必要的大量有机溶剂和水，不会产生破坏环境肇因的有机废液、废水、容易制成KrF eximer激光曝光用等阻体组成物。

35. 发明专利

TW553995B 空氣屏障及彈性體組成物失效
简体标题：空气屏障及弹性体组成物
公开(公告)号：TW553995B
公开(公告)日：2003-09-21
申请号：TW090127079
申请日：2001-10-31
申请人：艾克頌美孚化學專利股份有限公司
发明人：葛蘭瓊斯 , 唐納德崔西 , 沃特華戴爾
IPC分类号： C08L
CPC分类号： C08L23/22 , B60C1/0008 , B60C1/0025 , C08K5/01 , C08L9/00 , C08L21/00 , C08L23/06 , C08L23/0815 , C08L23/20 , C08L25/16 , C08L25/18 , C08L2205/02 , C08L23/28 , C08L2666/06 , C08L2666/04
摘要：一項本發明的具體實施例為適用於空氣屏障的組成物。此組成物可包含丁基橡膠、填料、及聚丁烯加工油，此加工油在一項具體實施例之中其數目平均分子量至少在400，且在另一具體實施例之中其數目平均分子量在少於10,000。此填料可為某些材料如碳酸鈣、黏土、雲母、二氧化矽及矽酸鹽、滑石份、二氧化鈦、澱粉、木花、碳黑、及其混合物。在一項具體實施例之中，該聚丁烯加工油於100℃之黏度大於10cSt，且環烷油基本上不存在。在一項具體實施例之中，本發明硬化的組成物於65℃之空氣滲透性範圍在1×10-8至4.5×10-8cm3‧cm／cm2‧sec‧atm，且具有改進的老化性質而適合用作為內襯或內胎。
简体摘要：一项本发明的具体实施例为适用于空气屏障的组成物。此组成物可包含丁基橡胶、填料、及聚丁烯加工油，此加工油在一项具体实施例之中其数目平均分子量至少在400，且在另一具体实施例之中其数目平均分子量在少于10,000。此填料可为某些材料如碳酸钙、黏土、云母、二氧化硅及硅酸盐、滑石份、二氧化钛、淀粉、木花、碳黑、及其混合物。在一项具体实施例之中，该聚丁烯加工油于100℃之黏度大于10cSt，且环烷油基本上不存在。在一项具体实施例之中，本发明硬化的组成物于65℃之空气渗透性范围在1×10-8至4.5×10-8cm3‧cm／cm2‧sec‧atm，且具有改进的老化性质而适合用作为内衬或内胎。

36. 发明专利

TW517001B 橡膠積層體及其用途失效
简体标题：橡胶积层体及其用途
公开(公告)号：TW517001B
公开(公告)日：2003-01-11
申请号：TW087101225
申请日：1998-02-03
申请人：泰金工業股份有限公司
发明人：野口剛 , 松本和久 , 小野剛 , 岸根充
IPC分类号： B32B
CPC分类号： B32B25/042 , B32B25/14 , B32B25/16 , B32B2581/00 , B32B2597/00 , C08J5/12 , C08J2321/00 , C08L9/02 , C08L9/06 , C08L11/00 , C08L23/16 , C08L25/10 , C08L25/18 , C08L27/12 , C08L27/16 , C08L33/06 , C08L2205/02 , Y10T428/1386 , Y10T428/139 , Y10T428/1393 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544 , C08L2666/04
摘要：本發明有關一種橡膠積層體，其係將含有下述橡膠組合物(A)的橡膠層(1)，及含有其他橡膠組合物(B)的橡膠層(2)予以加硫接著者。
橡膠組合物(A)：對由包含雙氟亞乙烯之共聚合比為45至88莫耳%；數平均分子量為20,000至200,000之可過氧化交聯的氟橡膠5至95重量%；以及以分別具有可與氟樹脂過氧化交聯的官能基及可與丙烯酸酯共聚合的官能基之多官能單體0.1至1.5重量%共聚合所得之丙烯酸酯橡膠85至5重量%而成的組合物100重量份，調配以過氧化交聯劑0.1至15重量份的橡膠組成物。
简体摘要：本发明有关一种橡胶积层体，其系将含有下述橡胶组合物(A)的橡胶层(1)，及含有其他橡胶组合物(B)的橡胶层(2)予以加硫接着者。橡胶组合物(A)：对由包含双氟亚乙烯之共聚合比为45至88莫耳%；数平均分子量为20,000至200,000之可过氧化交联的氟橡胶5至95重量%；以及以分别具有可与氟树脂过氧化交联的官能基及可与丙烯酸酯共聚合的官能基之多官能单体0.1至1.5重量%共聚合所得之丙烯酸酯橡胶85至5重量%而成的组合物100重量份，调配以过氧化交联剂0.1至15重量份的橡胶组成物。

37. 发明专利

TW428009B 難燃性樹脂組成物失效
简体标题：难燃性树脂组成物
公开(公告)号：TW428009B
公开(公告)日：2001-04-01
申请号：TW085109530
申请日：1996-08-06
申请人：出光興產股份有限公司
发明人：岩下亨 , 三浦慎一
IPC分类号： C08L
CPC分类号： C08L77/00 , C08L25/06 , C08L25/18 , C08L71/12 , C08L77/06 , C08L77/12 , C08L2666/14 , C08L25/00
摘要：本案揭示一種難燃性樹脂組成物，其包括
(a)SPS，
(b)具有反應性極性基之熱塑性樹脂，
(c)與成分(a)相容且具有可與成分(b)反應之極性基的相容劑，
(d)火焰阻滯劑，
(e)火焰阻滯劑輔助劑，成分(a)／成分(b)的重量比為小於1.5，成分(c)的量為，相對於100wt%成分(a)，(b)，(c)總和，0.5至10wt%，成分(d)的量為10重量份以上，成分(e)的量為3重量份以上(均相對於100重量份成分(a)，(b)，(c)總和)。
本發明提出之樹脂組成物保有SPS一聚醯胺混合物(alloy)的優異特性並具有高難燃性。
简体摘要：本案揭示一种难燃性树脂组成物，其包括 (a)SPS， (b)具有反应性极性基之热塑性树脂， (c)与成分(a)兼容且具有可与成分(b)反应之极性基的兼容剂， (d)火焰阻滞剂， (e)火焰阻滞剂辅助剂，成分(a)／成分(b)的重量比为小于1.5，成分(c)的量为，相对于100wt%成分(a)，(b)，(c)总和，0.5至10wt%，成分(d)的量为10重量份以上，成分(e)的量为3重量份以上(均相对于100重量份成分(a)，(b)，(c)总和)。本发明提出之树脂组成物保有SPS一聚酰胺混合物(alloy)的优异特性并具有高难燃性。

38. 发明专利

TW363074B 用於聚醯胺而含有彈性體及鹵化異烯烴共聚物之耐衝擊性改質劑失效
简体标题：用于聚酰胺而含有弹性体及卤化异烯烃共聚物之耐冲击性改质剂
公开(公告)号：TW363074B
公开(公告)日：1999-07-01
申请号：TW085111294
申请日：1996-09-16
申请人：艾克頌化學專利公司
发明人：于振其 , 王憲章 , 李東明
IPC分类号： C08L
CPC分类号： C08L21/00 , C08L7/00 , C08L9/00 , C08L9/06 , C08L23/22 , C08L23/283 , C08L25/18 , C08L77/00 , C08L2205/03 , C08L2666/06 , C08L2666/02 , C08L2666/08 , C08L2666/04 , C08L23/26 , C08L25/00
摘要：本發明有關一種用於聚醯胺組成物之耐衝擊性改質劑，其改善聚醯胺之耐衝擊強度，而不致對組成物之撓曲模量有不利之影響。耐衝擊性改質劑包含一般用途之橡膠與Ｃ４至Ｃ７異單烯烴和烷基苯乙烯之鹵化共聚物的摻合物。此外，本發明有關一種含有該耐衝擊性改質劑之聚醯胺組成物。
简体摘要：本发明有关一种用于聚酰胺组成物之耐冲击性改质剂，其改善聚酰胺之耐冲击强度，而不致对组成物之挠曲模量有不利之影响。耐冲击性改质剂包含一般用途之橡胶与Ｃ４至Ｃ７异单烯烃和烷基苯乙烯之卤化共聚物的掺合物。此外，本发明有关一种含有该耐冲击性改质剂之聚酰胺组成物。

39. 发明专利

TW201802586A 樹脂組成物、其硬化凸紋圖案、及使用其之半導體電子零件或半導體裝置之製造方法审中-公开
简体标题：树脂组成物、其硬化凸纹图案、及使用其之半导体电子零件或半导体设备之制造方法
公开(公告)号：TW201802586A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106102791
申请日：2017-01-25
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：馬場修 , BABA, OSAMU , 早坂惇 , HAYASAKA, MAKOTO , 奧田良治 , OKUDA, RYOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08G8/04 , C08G73/06 , C08F212/14 , G03F7/022 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/312 , H05B33/22 , H01L51/50
CPC分类号： C08K5/28 , C08L25/18 , C08L61/06 , C08L79/04 , C08L79/08 , G03F7/023 , G03F7/20
摘要：本發明之目的在於提供一種可抑制薄膜形成部中之表面粗糙以維持薄膜形成部之絕緣可靠度的樹脂組成物，並提供其硬化凸紋圖案、及使用其之半導體電子零件或半導體裝置之製造方法。用以達成上述目的之本發明的構成如下所述。亦即，一種樹脂組成物，其係含有(a)選自鹼可溶性聚醯亞胺、鹼可溶性聚苯并唑、鹼可溶性聚醯胺-醯亞胺、該等之前驅物及該等之共聚物的至少1種樹脂、以及(b)鹼可溶性酚醛樹脂的樹脂組成物，其中前述(a)之樹脂的鹼溶解速度(Ra)與前述(b)之樹脂的鹼溶解速度(Rb)的比(Rb/Ra)滿足0.5≦Rb/Ra≦2.0的關係。又，該樹脂組成物之硬化凸紋圖案、及使用其之半導體電子零件或半導體裝置之製造方法。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可抑制薄膜形成部中之表面粗糙以维持薄膜形成部之绝缘可靠度的树脂组成物，并提供其硬化凸纹图案、及使用其之半导体电子零件或半导体设备之制造方法。用以达成上述目的之本发明的构成如下所述。亦即，一种树脂组成物，其系含有(a)选自碱可溶性聚酰亚胺、碱可溶性聚苯并唑、碱可溶性聚酰胺-酰亚胺、该等之前驱物及该等之共聚物的至少1种树脂、以及(b)碱可溶性酚醛树脂的树脂组成物，其中前述(a)之树脂的碱溶解速度(Ra)与前述(b)之树脂的碱溶解速度(Rb)的比(Rb/Ra)满足0.5≦Rb/Ra≦2.0的关系。又，该树脂组成物之硬化凸纹图案、及使用其之半导体电子零件或半导体设备之制造方法。

40. 发明专利

TWI607033B 導電性高分子製造用單體液及使用其之電解電容器之製造方法有权
简体标题：导电性高分子制造用单体液及使用其之电解电容器之制造方法
公开(公告)号：TWI607033B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW103131087
申请日：2014-09-10
申请人：帝化股份有限公司 , TAYCA CORPORATION
发明人：杉原良介 , SUGIHARA, RYOSUKE , 山口太一 , YAMAGUCHI, TAICHI , 鶴元雄平 , TSURUMOTO, YUHEI
IPC分类号： C08G61/12 , C08G73/00 , H01G9/028
CPC分类号： H01G9/0036 , B05D5/12 , C08G61/124 , C08G61/126 , C08G73/026 , C08G73/0611 , C08G2261/12 , C08G2261/1424 , C08G2261/228 , C08G2261/3223 , C08G2261/3247 , C08G2261/43 , C08G2261/51 , C08G2261/514 , C08G2261/794 , C08L65/00 , H01B1/124 , H01G9/028 , H01G9/15 , C08L25/18

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式