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31. 发明专利

TWI441809B 化合物及光學膜失效
简体标题：化合物及光学膜
公开(公告)号：TWI441809B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW097124051
申请日：2008-06-27
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：落合鋼志郎 , OCHIAI, KOSHIRO , 杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 皮亞歐米雅布萊博 , PIAOMIA, BRAVO
IPC分类号： C07C69/52 , C08F120/30 , C08F120/36 , G02F1/13363 , G02B5/30 , C08J5/18

32. 发明专利

TW201111335A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201111335A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW099122802
申请日：2010-07-12
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 杉原昌子 , 山下裕子
IPC分类号： C07C , C07D , C08F , G03F , H01L
CPC分类号： C08F22/02 , C07C25/18 , C07C57/03 , C07C57/28 , C07C63/64 , C07C63/66 , C07C69/54 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C08F20/38 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/30 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要：一種式(I-Pa)所示之鹽：
其中，X pa 表示單鍵或C1-C4伸烷基；R pa 表示單鍵、C4-C36二價脂環族烴基或C6-C36二價芳族烴基，且於該二價脂環族烴基中之一個或多個亞甲基可經-O-或-CO-置換；Y pa 表示可聚合之基團；以及Z pa+ 表示有機陽離子。
简体摘要：一种式(I-Pa)所示之盐：其中，X pa 表示单键或C1-C4伸烷基；R pa 表示单键、C4-C36二价脂环族烃基或C6-C36二价芳族烃基，且于该二价脂环族烃基中之一个或多个亚甲基可经-O-或-CO-置换；Y pa 表示可聚合之基团；以及Z pa+ 表示有机阳离子。

33. 发明专利

TW201105623A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201105623A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099116610
申请日：2010-05-25
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 杉原昌子 , 增山達郎
IPC分类号： C07C , G03F , H01L
CPC分类号： C07D307/80 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：一種式(I-AA)表示之鹽:

其中,Q1及Q2各自獨立表示氟原子或C1-C4全氟烷基;X1表示單鍵等;Y1表示C1-C36脂族烴基等;A1及A2各自獨立表示C1-C20脂族烴基等;Ar1表示可具有一個或多個取代基之(m4+1)價的C6-C20芳族烴基;B1表示單鍵等;B2係如說明書中所定義;m1及m2各自獨立表示0至2的整數;m3表示1至3的整數,其限制條件為m1+m2+m3=3;及m4表示1至3的整數,以及一種光阻組成物,包括該以式(I-AA)表示之鹽及樹脂,該樹脂包括具有酸不穩定基之結構單元,且該樹脂為不溶於或難溶於鹼性水溶液,但受酸的作用可變得溶於鹼性水溶液。
简体摘要：一种式(I-AA)表示之盐: 其中,Q1及Q2各自独立表示氟原子或C1-C4全氟烷基;X1表示单键等;Y1表示C1-C36脂族烃基等;A1及A2各自独立表示C1-C20脂族烃基等;Ar1表示可具有一个或多个取代基之(m4+1)价的C6-C20芳族烃基;B1表示单键等;B2系如说明书中所定义;m1及m2各自独立表示0至2的整数;m3表示1至3的整数,其限制条件为m1+m2+m3=3;及m4表示1至3的整数,以及一种光阻组成物,包括该以式(I-AA)表示之盐及树脂,该树脂包括具有酸不稳定基之结构单元,且该树脂为不溶于或难溶于碱性水溶液,但受酸的作用可变得溶于碱性水溶液。

34. 发明专利

TW201105622A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201105622A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099116603
申请日：2010-05-25
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 杉原昌子 , 增山達郎
IPC分类号： C07C , C07D , G03F , H01L
CPC分类号： C07D493/18 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C07D307/77 , C07D307/93 , C07D309/06 , C07D309/30 , C07D313/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要：一種式(I-BB)表示之鹽:

其中,Q1及Q2各自獨立表示氟原子等;X1表示單鍵等;Y1表示C1-C36脂族烴基等;A1及A2各自獨立表示C1-C20脂族烴基等;Ar1表示可具有一個或多個取代基之(m4+1)價的C6-C20芳族烴基等;B1表示單鍵等;B2表示具有一個或多個-OXa基團之C4-C36脂環族烴基,且其不受酸的作用而被清除,以及Xa表示氫原子或會因受酸的作用而被清除的基團;m1及m2各自獨立表示0至2的整數;m3表示1至3的整數,其限制條件為m1+m2+m3=3;以及m4表示1至3的整數。
简体摘要：一种式(I-BB)表示之盐: 其中,Q1及Q2各自独立表示氟原子等;X1表示单键等;Y1表示C1-C36脂族烃基等;A1及A2各自独立表示C1-C20脂族烃基等;Ar1表示可具有一个或多个取代基之(m4+1)价的C6-C20芳族烃基等;B1表示单键等;B2表示具有一个或多个-OXa基团之C4-C36脂环族烃基,且其不受酸的作用而被清除,以及Xa表示氢原子或会因受酸的作用而被清除的基团;m1及m2各自独立表示0至2的整数;m3表示1至3的整数,其限制条件为m1+m2+m3=3;以及m4表示1至3的整数。

35. 发明专利

TWI591429B 光阻組成物有权
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI591429B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW102118914
申请日：2013-05-29
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08K5/34 , C08F20/18 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38

37. 发明专利

TWI478910B 鹽及含有該鹽之光阻組成物有权
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物
公开(公告)号：TWI478910B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW099122938
申请日：2010-07-13
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 坂本宏 , SAKAMOTO, HIROMU
IPC分类号： C07D317/72 , C07D339/06 , C07C309/17 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C07C25/18 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041

38. 发明专利

TW201400980A 光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW201400980A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102118914
申请日：2013-05-29
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08K5/34 , C08F20/18 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38
摘要：一種光阻組成物其包括：顯示經由酸之作用而於鹼性水溶液中增加溶解度的樹脂；酸產生劑；式(I)表示之化合物；以及其量為光阻組成物總量之40至75質量%之溶劑：其中，環W1為含氮雜環或具有經取代或未經取代之胺基的苯環，A1表示苯基或萘基，及n表示2或3之整數。
简体摘要：一种光阻组成物其包括：显示经由酸之作用而于碱性水溶液中增加溶解度的树脂；酸产生剂；式(I)表示之化合物；以及其量为光阻组成物总量之40至75质量%之溶剂：其中，环W1为含氮杂环或具有经取代或未经取代之胺基的苯环，A1表示苯基或萘基，及n表示2或3之整数。

39. 发明专利

TW201126267A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201126267A
公开(公告)日：2011-08-01
申请号：TW099139162
申请日：2010-11-15
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 落合光良 , 杉原昌子
IPC分类号： G03F , C07C , H01L
CPC分类号： C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/06 , C07D333/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：一種式(X)表示之鹽:

其中,Q1及Q2各獨立表示氟原子等,L1及L2各獨立表示C1-C17二價飽和烴基,環W1表示C3-C36飽和烴環,R2在每次出現係獨立為羥基等,s表示0到2的整數,Z+表示有機相對離子(organic counter ion),且W10表示式(X-1)表示之基團:

其中,環W2表示C4-C36飽和烴環,其中的一個或多個-CH2-能被-O-或-CO-置換,限制條件為C4-C36飽和烴環中至少一個-CH2-被-CO-置換,R3在每次出現係獨立為C1-C6烷基等,且t表示0到2的整數;或式(X-2)表示之基團:

其中,環W3表示C3-C36飽和烴環,R4在每次出現係獨立為羥基等,R5在每次出現係獨立為C1-C6烷基等,v表示1到3的整數,且w表示0到2的整數。
简体摘要：一种式(X)表示之盐: 其中,Q1及Q2各独立表示氟原子等,L1及L2各独立表示C1-C17二价饱和烃基,环W1表示C3-C36饱和烃环,R2在每次出现系独立为羟基等,s表示0到2的整数,Z+表示有机相对离子(organic counter ion),且W10表达式(X-1)表示之基团: 其中,环W2表示C4-C36饱和烃环,其中的一个或多个-CH2-能被-O-或-CO-置换,限制条件为C4-C36饱和烃环中至少一个-CH2-被-CO-置换,R3在每次出现系独立为C1-C6烷基等,且t表示0到2的整数;或式(X-2)表示之基团: 其中,环W3表示C3-C36饱和烃环,R4在每次出现系独立为羟基等,R5在每次出现系独立为C1-C6烷基等,v表示1到3的整数,且w表示0到2的整数。

40. 发明专利

TW201114730A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201114730A
公开(公告)日：2011-05-01
申请号：TW099118685
申请日：2010-06-09
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 杉原昌子 , 坂本宏
IPC分类号： C07C , C07D , G03F , H01L
CPC分类号： C07D307/94 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：一種以式(a1)表示之鹽：
其中，Q 1 及Q 2 各自獨立表示氟原子或C1-C4全氟烷基；X 1 表示-CO-O-X a1 -或-CH2-O-X a2 -，其中，X a1 及X a2 各自獨立表示C1-C15伸烷基，且在該伸烷基中之一個或多個-CH2-可經-O-或-CO-置換；Y 1 表示C3-C36脂環族烴基或C6-C24芳香族烴基，且該脂環族烴基及該芳香族烴基可具有一個或多個取代基，且在該脂環族烴基中之一個或多個-CH2-可經-O-或-CO-置換；以及Z + 表示有機陽離子。
简体摘要：一种以式(a1)表示之盐：其中，Q 1 及Q 2 各自独立表示氟原子或C1-C4全氟烷基；X 1 表示-CO-O-X a1 -或-CH2-O-X a2 -，其中，X a1 及X a2 各自独立表示C1-C15伸烷基，且在该伸烷基中之一个或多个-CH2-可经-O-或-CO-置换；Y 1 表示C3-C36脂环族烃基或C6-C24芳香族烃基，且该脂环族烃基及该芳香族烃基可具有一个或多个取代基，且在该脂环族烃基中之一个或多个-CH2-可经-O-或-CO-置换；以及Z + 表示有机阳离子。

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