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21. 发明专利

TW200615598A 積體光學用之平面透鏡 PLANAR LENSES FOR INTEGRATED OPTICS 失效
简体标题：积体光学用之平面透镜 PLANAR LENSES FOR INTEGRATED OPTICS
公开(公告)号：TW200615598A
公开(公告)日：2006-05-16
申请号：TW094137337
申请日：2005-10-25
申请人： RPO有限公司 RPO PTY LIMITED
发明人：達克斯庫克利 KUKULJ, DAX , 班哲明科尼奇 CORNISH, BENJAMIN , 羅伯特查特斯 CHARTERS, ROBERT BRUCE , 葛拉罕艾金斯 ATKINS, GRAHAM ROY , 貝瑞路德戴維斯 LUTHER-DAVIES, BARRY
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G06F3/0421 , G02B6/12004 , G02B6/1221 , G02B6/124 , G02B6/1245 , G02B6/138 , G02B6/32 , G02B2006/12102
摘要：本發明係關於積體光學應用之平面透鏡，尤其使用於光學觸摸式螢幕感應器。該平面透鏡包含一板片波導與一光學波導，其係較佳地以單塊形式來形成，其中該板片波導具有一彎曲端面，以將光線聚焦入或離該光學波導，且其中至少一附加透鏡被包括在板片波導內。在本發明一態樣中，該附加透鏡是一發散透鏡。在第二態樣中，該附加透鏡是一會聚透鏡。該附加透鏡可使光學波導的接收角配合板片波導的彎曲端面。或者，它可改善平面透鏡設計的容差，或組裝誤差與／或溫度變化。較佳地，該平面透鏡是由可光圖案化聚合物組成，該附加透鏡則由空氣組成。
简体摘要：本发明系关于积体光学应用之平面透镜，尤其使用于光学触摸式屏幕感应器。该平面透镜包含一板片波导与一光学波导，其系较佳地以单块形式来形成，其中该板片波导具有一弯曲端面，以将光线聚焦入或离该光学波导，且其中至少一附加透镜被包括在板片波导内。在本发明一态样中，该附加透镜是一发散透镜。在第二态样中，该附加透镜是一会聚透镜。该附加透镜可使光学波导的接收角配合板片波导的弯曲端面。或者，它可改善平面透镜设计的容差，或组装误差与／或温度变化。较佳地，该平面透镜是由可光图案化聚合物组成，该附加透镜则由空气组成。

22. 发明专利

TW200540224A 光導波路用硬化性樹脂組成物、形成光導波路用硬化性乾膜、光導波路、及光導波路之形成方法 CURABLE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, CURABLE DRY FILM FOR OPTICAL WAVEGUIDE, WAVEGUIDE, AND, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE 审中-公开
简体标题：光导波路用硬化性树脂组成物、形成光导波路用硬化性干膜、光导波路、及光导波路之形成方法 CURABLE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, CURABLE DRY FILM FOR OPTICAL WAVEGUIDE, WAVEGUIDE, AND, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE
公开(公告)号：TW200540224A
公开(公告)日：2005-12-16
申请号：TW093139407
申请日：2004-12-17
申请人：關西油漆股份有限公司 KANSAI PAINT CO., LTD.
发明人： 口貴祐 HIGUCHI, TAKAHIRO , 今井玄兒 IMAI, GENJI
IPC分类号： C08L , C08K , C08F , G02B
CPC分类号： G02B6/138 , C08G18/0823 , G02B6/1221 , H05K3/285 , H05K2203/124
摘要：一種光導波路用硬化性樹脂組成物，其特徵為含有下列必要成分：含羧基之胺甲酸酯化合物(A)、聚合性不飽和化合物(B)、一分子中具有二個以上可進行開環聚合之官能基的化合物(C)與放射線聚合起始劑(D)。一種光導波路之形成方法，係於下部包覆層(I)與芯部(II)表面，藉由加熱進行由熱硬化性樹脂組成物而成的乾膜之貼合後，使其硬化而形成上部包覆層(III)而成的光導波路之製造方法，其特徵為：該乾膜之Tg較形成芯部(II)的硬化樹脂之Tg更低10℃以上的溫度，並且，設定該乾膜之貼合溫度也較該乾膜之Tg更高10℃以上的溫度。
简体摘要：一种光导波路用硬化性树脂组成物，其特征为含有下列必要成分：含羧基之胺甲酸酯化合物(A)、聚合性不饱和化合物(B)、一分子中具有二个以上可进行开环聚合之官能基的化合物(C)与放射线聚合起始剂(D)。一种光导波路之形成方法，系于下部包覆层(I)与芯部(II)表面，借由加热进行由热硬化性树脂组成物而成的干膜之贴合后，使其硬化而形成上部包覆层(III)而成的光导波路之制造方法，其特征为：该干膜之Tg较形成芯部(II)的硬化树脂之Tg更低10℃以上的温度，并且，设置该干膜之贴合温度也较该干膜之Tg更高10℃以上的温度。

23. 发明专利

TW200533717A 波導組成物及自該組成物形成之波導 WAVEGUIDE COMPOSITIONS AND WAVEGUIDES FORMED THEREFROM 审中-公开
简体标题：波导组成物及自该组成物形成之波导 WAVEGUIDE COMPOSITIONS AND WAVEGUIDES FORMED THEREFROM
公开(公告)号：TW200533717A
公开(公告)日：2005-10-16
申请号：TW093134406
申请日：2004-11-11
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS, L.L.C.
发明人：邪那特詹姆斯G SHELNUT, JAMES G. , 布克里安若尼可拉 PUGLIANO, NICOLA , 莫尼漢馬修L MOYNIHAN, MATTHEW L. , 鄭海賓 ZHENG, HAI BIN , 朗帝丹尼爾E LUNDY, DANIEL E. , 帕洛斯基納珊 PAWLOWSKI, NATHAN
IPC分类号： C08L , C08K , G02B
CPC分类号： G02B6/1221 , G02B1/045 , G02B6/138 , C08L83/04
摘要：本發明提供適合用於形成可撓性光波導的組成物。該組成物包括聚合物，該聚合物含有化學式(RSiO1.5)所示的單元，式中R係經取代或未經取代的有機基團，以及複數個末端官能基。在乾燥狀態下藉著活化提供可改變組成物溶解度之第一成分。第二成分包含複數個選自羥基、胺基、硫醇、磺酸酯、羧酸酯、矽烷基酯、酸酐、氮丙啶、羥甲基甲基、矽烷基醚及其組合的官能基。第二成分係以有效量存在，以便改善在活化之前和之後之組成物之乾燥狀態下之可撓性。本發明另外也提供可撓性光波導、可撓性光波導的形成方法及包含可撓性光波導的電子裝置。
简体摘要：本发明提供适合用于形成可挠性光波导的组成物。该组成物包括聚合物，该聚合物含有化学式(RSiO1.5)所示的单元，式中R系经取代或未经取代的有机基团，以及复数个末端官能基。在干燥状态下借着活化提供可改变组成物溶解度之第一成分。第二成分包含复数个选自羟基、胺基、硫醇、磺酸酯、羧酸酯、硅烷基酯、酸酐、氮丙啶、羟甲基甲基、硅烷基醚及其组合的官能基。第二成分系以有效量存在，以便改善在活化之前和之后之组成物之干燥状态下之可挠性。本发明另外也提供可挠性光波导、可挠性光波导的形成方法及包含可挠性光波导的电子设备。

24. 发明专利

TW200422308A 形成光波導用感光性樹脂組成物及光波導审中-公开
简体标题：形成光波导用感光性树脂组成物及光波导
公开(公告)号：TW200422308A
公开(公告)日：2004-11-01
申请号：TW092127694
申请日：2003-10-06
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：高瀨英明 TAKASE, HIDEAKI , 江利山祐一 ERIYAMA, YUUICHI
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F222/1006 , G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B2006/12069
摘要：包含(A)具有如下述一般式(1)所示構造之二(甲基)丙烯酸酯：092127694.bmp｛式中，R^1為–(OCH2CH2)m–、–〔OCH(CH3)CH2〕m–、或–OCH2CH(OH)CH2–；X為–C(CH3)2–、–CH2–、–O–、或–SO2–；Y為氫原子或鹵原子；m為0～4之整數。｝與(B)具有如下述一般式(2)所示構造之單(甲基)丙烯酸酯：092127694-p01.bmp｛式中，R^2為–(OCH2CH2)p–、–〔OCH(CH3)CH2〕p–、或–OCH2CH(OH)CH2–；Y為氫原子、鹵原子、Ph–C(CH3)2–、Ph–、或碳原子數1～20之烷基；p為0～4之整數； Ph為苯基。｝及(C)光自由基聚合引發劑等構成成份之形成光波導用感光性樹脂組成物，其具有優異之圖型形成性、折射率、耐熱性、傳輸特性等等。
简体摘要：包含(A)具有如下述一般式(1)所示构造之二(甲基)丙烯酸酯：092127694.bmp｛式中，R^1为–(OCH2CH2)m–、–〔OCH(CH3)CH2〕m–、或–OCH2CH(OH)CH2–；X为–C(CH3)2–、–CH2–、–O–、或–SO2–；Y为氢原子或卤原子；m为0～4之整数。｝与(B)具有如下述一般式(2)所示构造之单(甲基)丙烯酸酯：092127694-p01.bmp｛式中，R^2为–(OCH2CH2)p–、–〔OCH(CH3)CH2〕p–、或–OCH2CH(OH)CH2–；Y为氢原子、卤原子、Ph–C(CH3)2–、Ph–、或碳原子数1～20之烷基；p为0～4之整数； Ph为苯基。｝及(C)光自由基聚合引发剂等构成成份之形成光波导用感光性树脂组成物，其具有优异之图型形成性、折射率、耐热性、传输特性等等。

25. 发明专利

TW200411234A 光波導管及其製造方法 OPTICAL WAVEGUIDE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 失效
简体标题：光波导管及其制造方法 OPTICAL WAVEGUIDE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
公开(公告)号：TW200411234A
公开(公告)日：2004-07-01
申请号：TW092125843
申请日：2003-09-19
申请人：凸版印刷股份有限公司 TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：石守 ISHIZAKI, MAMORU , 原初音 HARA, HATSUNE , 佐佐木淳 SASAKI, JUN , 井上真一 INOUE, SHINICHI , 塚本健人 TSUKAMOTO, TAKEHITO
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B6/125 , G02B6/1221 , G02B6/132 , G02B6/138 , G02B6/4214 , G02B6/43 , G02B2006/12097 , G02B2006/121 , G02B2006/12104
摘要：本發明的幾個實施形態是要提供一種其核心材料的使用效率高，且廉價的光波導管及其製造方法。此光波導管的製造方法是包含：在基板(20)上塗布樹脂並使其硬化，以形成第1包層(2)之製程；在於持有核心圖案形狀的凹槽之凹模(10)與基板上的第1包層之間夾入核心材料(1')之製程；使被夾住的核心材料硬化，以在第1包層上形成對應於凹槽的核心圖案(1)之製程；及，將凹模(10)從核心圖案及第1包層剝離之製程者。
简体摘要：本发明的几个实施形态是要提供一种其内核材料的使用效率高，且廉价的光波导管及其制造方法。此光波导管的制造方法是包含：在基板(20)上涂布树脂并使其硬化，以形成第1包层(2)之制程；在于持有内核图案形状的凹槽之凹模(10)与基板上的第1包层之间夹入内核材料(1')之制程；使被夹住的内核材料硬化，以在第1包层上形成对应于凹槽的内核图案(1)之制程；及，将凹模(10)从内核图案及第1包层剥离之制程者。

26. 发明专利

TW586033B 3次元光電微系統有权
简体标题： 3次元光电微系统
公开(公告)号：TW586033B
公开(公告)日：2004-05-01
申请号：TW091117900
申请日：2002-08-08
申请人：吉村徹三 , JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：吉村徹三 , 新井享彥
IPC分类号： H01L , G02B , G02F , H04Q
CPC分类号： H01L21/44 , G02B6/12002 , G02B6/12004 , G02B6/1221 , G02B6/132 , G02B6/3512 , G02B6/3556 , G02B6/356 , G02B6/43 , G02B2006/12145 , G02F1/313 , H01L2224/16225 , H04Q11/0005 , H04Q2011/0009 , H04Q2011/0018 , H04Q2011/003 , H04Q2011/0052
摘要：將光開關系統分割成複數區塊，形成在各區塊配置所屬之光開關或可變波長濾波器之光電層，使各光電層重疊，構成將光連接部當做光電層間之光連接部的3次元微光開關系統(3D-MOSS)。具有對會因光照射而改變黏著力之黏著層進行選擇性曝光的第1步驟、將前述經過選擇性曝光之黏著層接觸第1基體上之薄膜元件陣列的第2步驟、以及對應曝光圖案選擇性地將前述第1薄膜元件陣列中之部份薄膜元件從前述第1基體移至前述經過選擇性曝光之黏著層上的第3步驟。
简体摘要：将光开关系统分割成复数区块，形成在各区块配置所属之光开关或可变波长滤波器之光电层，使各光电层重叠，构成将光连接部当做光电层间之光连接部的3次元微光开关系统(3D-MOSS)。具有对会因光照射而改变黏着力之黏着层进行选择性曝光的第1步骤、将前述经过选择性曝光之黏着层接触第1基体上之薄膜组件数组的第2步骤、以及对应曝光图案选择性地将前述第1薄膜组件数组中之部份薄膜组件从前述第1基体移至前述经过选择性曝光之黏着层上的第3步骤。

27. 发明专利

TW552441B 平面波導印製模造處理過程有权
简体标题：平面波导印制模造处理过程
公开(公告)号：TW552441B
公开(公告)日：2003-09-11
申请号：TW089112678
申请日：2000-06-25
申请人：康寧公司
发明人：傑佛力歐柯來特 , 馬沙巴藍克卡特 , 羅藍艾加江森
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B6/30 , G02B6/1221
摘要：一種製造傳送及/或操作光線訊號光學裝置之方法，該方法包含下列步驟：提供具有上側表面之基板，該基板界定出參考平面以作為後續包層材料以及心蕊材料之定位；將間隔器固定至基板上側表面，間隔器上側表面界定出第二平面高於參考平面並與其分隔；沉積一層可成形可固化底下包層材料於基板上側表面，堅硬間隔器上側表面提供導引以精確控制底下包層材料高於基板表面之高度，在施加壓力情況下將底下包層材料固化以形成底下包層；沉積導引光線心蕊以及外覆包層於底下包層上。該方法易於大量製造以及產生更精確控制導引光線心蕊位於相對於基板表面之位置。所形成光學裝置包含基板，固定至基板上側表面堅硬間隔器圖案，聚合性底下包層位於基板上以及堅硬間隔器間所界定之空間中，導引光線聚合物心蕊位於底下包層上，以及聚合性外覆包層位於導引光線心蕊上以及至少一部份底下包層上。
简体摘要：一种制造发送及/或操作光线信号光学设备之方法，该方法包含下列步骤：提供具有上侧表面之基板，该基板界定出参考平面以作为后续包层材料以及心蕊材料之定位；将间隔器固定至基板上侧表面，间隔器上侧表面界定出第二平面高于参考平面并与其分隔；沉积一层可成形可固化底下包层材料于基板上侧表面，坚硬间隔器上侧表面提供导引以精确控制底下包层材料高于基板表面之高度，在施加压力情况下将底下包层材料固化以形成底下包层；沉积导引光线心蕊以及外覆包层于底下包层上。该方法易于大量制造以及产生更精确控制导引光线心蕊位于相对于基板表面之位置。所形成光学设备包含基板，固定至基板上侧表面坚硬间隔器图案，聚合性底下包层位于基板上以及坚硬间隔器间所界定之空间中，导引光线聚合物心蕊位于底下包层上，以及聚合性外覆包层位于导引光线心蕊上以及至少一部份底下包层上。

28. 发明专利

TW491858B N鹵素化順丁烯共聚合物以及其光學材料有权
简体标题： N卤素化顺丁烯共聚合物以及其光学材料
公开(公告)号：TW491858B
公开(公告)日：2002-06-21
申请号：TW089125100
申请日：2000-11-23
申请人：康寧公司
发明人：王堅九
IPC分类号： C08F , G02B
CPC分类号： G02B6/1221 , C08F222/40
摘要：一種共聚合物，其含有N-鹵素化苯基順丁烯單元或N-鹵素化苯基雙順丁烯單元以及一個或多個第二單元，其由鹵素化丙烯酸酯，鹵素化苯乙烯，鹵素化乙烯醚，鹵素化烯烴，鹵素化乙烯異氰酯，鹵素化N-乙烯醯胺，鹵素化烯丙基，鹵素化丙烯醚，鹵素化甲基丙烯酸酯，鹵素化順丁烯二酸酯，鹵素化衣康酸酯以及鹵素化巴豆酸酯選取出，該共聚合物有用於形成光學裝置。
简体摘要：一种共聚合物，其含有N-卤素化苯基顺丁烯单元或N-卤素化苯基双顺丁烯单元以及一个或多个第二单元，其由卤素化丙烯酸酯，卤素化苯乙烯，卤素化乙烯醚，卤素化烯烃，卤素化乙烯异氰酯，卤素化N-乙烯酰胺，卤素化烯丙基，卤素化丙烯醚，卤素化甲基丙烯酸酯，卤素化顺丁烯二酸酯，卤素化衣康酸酯以及卤素化巴豆酸酯选取出，该共聚合物有用于形成光学设备。

29. 发明专利

TW461982B 光學元件及其製法失效
简体标题：光学组件及其制法
公开(公告)号：TW461982B
公开(公告)日：2001-11-01
申请号：TW087105270
申请日：1998-05-26
申请人：聯合標誌公司
发明人：勞倫斯W.薛克力 , 凱利M.T.史坦吉爾 , 絡艾愛達 , 詹姆士T.亞雷 , 徐成增 , 吳成九
IPC分类号： G02F , G02B
CPC分类号： G03F7/001 , G02B6/1221 , G03F7/0035
摘要：本發明提供一種製造光學元件的方法，其包括: a)塗佈第一個光敏感性的組合物於基材上,其第一個光敏感性的組合物含有至少一種第一自由基可聚合的單體、寡聚體或聚合物成份之混合物，其中聚合物成份含有至少一種乙烯系不飽和基和至少一種第一光起始劑; b)以映像的方法曝照第一光敏感性組合物於足量光化學的輻射中，以影響聚合反應並形成映像區域和非映像區域;然後除去非映像區域，而不除去映像區域,使映像區域形成一個能傳輸光線的圖譜核心; c)塗佈第二個光敏感性組合物在圖譜的核心之上，此第二光敏感性組合物含有至少一個第二自由基可聚合的單體、寡聚體或聚合物成份的混合物，此聚合物成份至少含有一個乙烯系不飽和基和至少一個第二光起始劑; d)曝照第一和第二光敏感性組合物於足量的光化學輻射，以聚合第二光敏感性組合物，使得聚合的第二光敏感性組合物形成一個包圍這核心的包覆，且其中聚合的核心具有玻璃移轉溫度8O℃或更低，且聚合的包覆具有玻璃移轉溫度60℃或更低，而其中包覆的折射率低於核心的折射率。
本發明進一步提供一種光學元件，其包括基材:在基材表面上之圖譜(圖案覆蓋)、光線傳輸的核心組合物、以及在核心圖譜上之反射光線的包覆組合物，其中核心組合物具有玻璃移轉溫度為80℃或更低，而包覆組合物具有玻璃移轉溫度為60℃或更低，且其中包覆之折射率較核心之折射率小。
简体摘要：本发明提供一种制造光学组件的方法，其包括: a)涂布第一个光敏感性的组合物于基材上,其第一个光敏感性的组合物含有至少一种第一自由基可聚合的单体、寡聚体或聚合物成份之混合物，其中聚合物成份含有至少一种乙烯系不饱和基和至少一种第一光起始剂; b)以图像的方法曝照第一光敏感性组合物于足量光化学的辐射中，以影响聚合反应并形成图像区域和非图像区域;然后除去非图像区域，而不除去图像区域,使图像区域形成一个能传输光线的图谱内核; c)涂布第二个光敏感性组合物在图谱的内核之上，此第二光敏感性组合物含有至少一个第二自由基可聚合的单体、寡聚体或聚合物成份的混合物，此聚合物成份至少含有一个乙烯系不饱和基和至少一个第二光起始剂; d)曝照第一和第二光敏感性组合物于足量的光化学辐射，以聚合第二光敏感性组合物，使得聚合的第二光敏感性组合物形成一个包围这内核的包覆，且其中聚合的内核具有玻璃移转温度8O℃或更低，且聚合的包覆具有玻璃移转温度60℃或更低，而其中包覆的折射率低于内核的折射率。本发明进一步提供一种光学组件，其包括基材:在基材表面上之图谱(图案覆盖)、光线传输的内核组合物、以及在内核图谱上之反射光线的包覆组合物，其中内核组合物具有玻璃移转温度为80℃或更低，而包覆组合物具有玻璃移转温度为60℃或更低，且其中包覆之折射率较内核之折射率小。

30. 发明专利

TW439333B 製造聚合物導波管內鏡子之方法失效
简体标题：制造聚合物导波管内镜子之方法
公开(公告)号：TW439333B
公开(公告)日：2001-06-07
申请号：TW088104488
申请日：1999-03-22
申请人： LM艾瑞克生電話公司
发明人：馬茲羅博生
IPC分类号： G02B , H01S
CPC分类号： G02B6/26 , G02B6/122 , G02B6/1221 , G02B6/42 , G02B6/4214 , G02B2006/12104 , Y10S430/146
摘要：聚合物導波管(l)內部之斜向鏡結構相對於光學裝置之位置可使用整合一體的金屬光罩準確界定，光罩係使用微影術界定於導波管結構頂上。當使用雷射光照射導波管表面時,雷射僅通過未殘留金屬部份，故形成的凹部(l9)係由金屬層長條(15)邊緣界定。於同一金屬層也產生電接觸墊(13)用於自行對正裝置例如雷射及光電二極體之倒裝晶片安裝。另一金屬層(21)可施用於導波管結構內部於導波管中心下方位置，故可被雷射光撞擊並停止雷射光。雷射能將霧化金屬，隨後分散的金屬沈積於凹部(l9)壁上。(圖l)
简体摘要：聚合物导波管(l)内部之斜向镜结构相对于光学设备之位置可使用集成一体的金属光罩准确界定，光罩系使用微影术界定于导波管结构顶上。当使用激光光照射导波管表面时,激光仅通过未残留金属部份，故形成的凹部(l9)系由金属层长条(15)边缘界定。于同一金属层也产生电接触垫(13)用于自行对正设备例如激光及光电二极管之倒装芯片安装。另一金属层(21)可施用于导波管结构内部于导波管中心下方位置，故可被激光光撞击并停止激光光。激光能将雾化金属，随后分散的金属沉积于凹部(l9)壁上。(图l)

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