专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

TWI643743B 積層薄膜有权
简体标题：积层薄膜
公开(公告)号：TWI643743B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW104102454
申请日：2015-01-26
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：三羽規文 , MIWA, NORIFUMI , 大橋純平 , OHASHI, JUNPEI , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B27/06 , B32B27/36 , B32B27/40 , B32B33/00 , B29C73/16 , C09D167/04 , C09D175/04 , C09D183/04

22. 发明专利

TWI580570B 積層薄膜有权
简体标题：积层薄膜
公开(公告)号：TWI580570B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW102134436
申请日：2013-09-25
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：坂本光隆 , SAKAMOTO, MITSUTAKA , 真鍋功 , MANABE, ISAO , 高橋弘造 , TAKAHASHI, KOZO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B27/32
CPC分类号： B32B27/325 , B32B27/08 , B32B27/32

23. 发明专利

TW201711860A 積層薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：积层薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201711860A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105124713
申请日：2016-08-04
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：尾形雅美 , OGATA, MASAMI , 太田一善 , OTA, KAZUYOSHI , 澤本惠子 , SAWAMOTO, KEIKO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B27/36 , B32B27/08 , G02B1/10 , C08F120/06 , C08F2/24
CPC分类号： B29C55/02 , B32B27/36 , G02B1/14
摘要：一種積層聚酯薄膜，其係具有聚酯層與樹脂層之積層薄膜，其中至少單側之表層為樹脂層，前述表層具有的樹脂層藉由AFM(Atomic Force Microscope)所求得之微觀表面粗糙度(Ra-1)為1nm以上20nm以下，且藉由三次元表面糙度計所求得之宏觀表面粗糙度(Ra-2)為1nm以上50nm以下，藉此，可提供透明性、耐刮性、防黏著性優異的積層聚酯薄膜。
简体摘要：一种积层聚酯薄膜，其系具有聚酯层与树脂层之积层薄膜，其中至少单侧之表层为树脂层，前述表层具有的树脂层借由AFM(Atomic Force Microscope)所求得之微观表面粗糙度(Ra-1)为1nm以上20nm以下，且借由三次元表面糙度计所求得之宏观表面粗糙度(Ra-2)为1nm以上50nm以下，借此，可提供透明性、耐刮性、防黏着性优异的积层聚酯薄膜。

24. 发明专利

TW201544328A 積層薄膜、及積層薄膜之製造方法审中-公开
简体标题：积层薄膜、及积层薄膜之制造方法
公开(公告)号：TW201544328A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104111731
申请日：2015-04-13
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：大橋純平 , OHASHI, JUNPEI , 三羽規文 , MIWA, NORIFUMI , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B5/00 , B32B43/00
CPC分类号： B32B7/02 , B32B2307/584
摘要：本發明係一種積層薄膜，其係在支撐基材的至少一側之面上形成有包含A層與B層之表面層的積層薄膜，其特徵為：自支撐基材側起B層、A層依此順序相接，A層、B層、支撐基材之藉由微小硬度計所測定的25℃之儲存彈性模數(以下為EA25、EB25、EC25)、120℃之儲存彈性模數(以下為EA120、EB120、EC120)係滿足以下之條件，條件1 EA25
简体摘要：本发明系一种积层薄膜，其系在支撑基材的至少一侧之面上形成有包含A层与B层之表面层的积层薄膜，其特征为：自支撑基材侧起B层、A层依此顺序相接，A层、B层、支撑基材之借由微小硬度计所测定的25℃之存储弹性模数(以下为EA25、EB25、EC25)、120℃之存储弹性模数(以下为EA120、EB120、EC120)系满足以下之条件，条件1 EA25

25. 发明专利

TW201529318A 積層聚酯薄膜审中-公开
简体标题：积层聚酯薄膜
公开(公告)号：TW201529318A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103143765
申请日：2014-12-16
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：澤本惠子 , SAWAMOTO, KEIKO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI , 阿部悠 , ABE, YU , 尾形雅美 , OGATA, MASAMI , 太田一善 , OTA, KAZUYOSHI
IPC分类号： B32B27/36 , B32B27/30 , B32B27/40 , B32B7/02 , C08J7/04 , C09D133/00 , C09D175/04 , C09D167/00 , C09D7/12 , G02B1/10
CPC分类号： C09D175/06 , C08G18/4208 , C08G18/6225 , C09D7/40 , C08L75/04
摘要：一種積層聚酯薄膜，其為在聚酯薄膜之至少單面具有樹脂層(X)之積層聚酯薄膜，其特徵為前述樹脂層(X)包含丙烯酸系構造(A)、胺基甲酸酯(B)及萘構造(C)，不含碳化二亞胺構造(G)，且該樹脂層(X)側之煮沸處理試驗前後的分光反射率之變化量△R為0%以上2%以下。提供透明性、積層硬塗層時之虹彩狀模樣(干涉條紋)之抑制(能見度)優良，並且與硬塗層之初期接著性、於高溫高濕下之密著性(耐濕熱接著性)、浸漬於沸水時之接著性(耐煮沸接著性)優良，再者，浸漬於熱水中時之耐熱水透明性優良的積層聚酯薄膜。
简体摘要：一种积层聚酯薄膜，其为在聚酯薄膜之至少单面具有树脂层(X)之积层聚酯薄膜，其特征为前述树脂层(X)包含丙烯酸系构造(A)、胺基甲酸酯(B)及萘构造(C)，不含碳化二亚胺构造(G)，且该树脂层(X)侧之煮沸处理试验前后的分光反射率之变化量△R为0%以上2%以下。提供透明性、积层硬涂层时之虹彩状模样(干涉条纹)之抑制(能见度)优良，并且与硬涂层之初期接着性、于高温高湿下之密着性(耐湿热接着性)、浸渍于沸水时之接着性(耐煮沸接着性)优良，再者，浸渍于热水中时之耐热水透明性优良的积层聚酯薄膜。

26. 发明专利

TW201522038A 積層薄膜审中-公开
简体标题：积层薄膜
公开(公告)号：TW201522038A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103132572
申请日：2014-09-22
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：三羽規文 , MIWA, NORIFUMI , 大橋純平 , OHASHI, JUNPEI , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/36 , B32B27/40 , B32B27/28 , B32B33/00 , C09D169/00 , C09D175/04 , C09D183/04 , C09D5/00 , B05D1/36 , B05D5/08
CPC分类号： C08J7/042 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2475/14
摘要：本發明係關於一種積層薄膜，其為在支持基材的至少一側具有表面層的積層薄膜，其係滿足以下條件1至條件3：條件1：在最大負載0.5mN、保持時間10秒之條件下，使用微小硬度計的負載-卸載試驗法中之前述表面層之厚度方向的最大位移量為1.50μm以上，且前述表面層之厚度方向的殘留位移量為1.30μm以下；條件2：在剛性擺錘試驗法中之前述表面層於100℃下的相對儲存彈性模數係高於前述表面層於25℃下的相對儲存彈性模數；條件3：在拉伸試驗法中之前述表面層於150℃下的破裂伸度為50%以上。本發明係提供一種可滿足成形性、自我修復性、設計性、耐高速變形性的積層薄膜。
简体摘要：本发明系关于一种积层薄膜，其为在支持基材的至少一侧具有表面层的积层薄膜，其系满足以下条件1至条件3：条件1：在最大负载0.5mN、保持时间10秒之条件下，使用微小硬度计的负载-卸载试验法中之前述表面层之厚度方向的最大位移量为1.50μm以上，且前述表面层之厚度方向的残留位移量为1.30μm以下；条件2：在刚性摆锤试验法中之前述表面层于100℃下的相对存储弹性模数系高于前述表面层于25℃下的相对存储弹性模数；条件3：在拉伸试验法中之前述表面层于150℃下的破裂伸度为50%以上。本发明系提供一种可满足成形性、自我修复性、设计性、耐高速变形性的积层薄膜。

27. 发明专利

TW201429721A 積層薄膜审中-公开
简体标题：积层薄膜
公开(公告)号：TW201429721A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102147446
申请日：2013-12-20
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI , 金度均 , KIM, DO KYUN , 道添純二 , MICHIZOE, JUNJI
IPC分类号： B32B33/00 , B32B27/28
CPC分类号： B32B27/40 , B32B27/283 , B32B27/285 , B32B2307/75
摘要： [課題]提供一種滿足成型性、自己修復性、設計性、光澤感、耐指紋性的積層薄膜。[解決手段]一種積層薄膜，其係在支撐基材的至少一方的面具有表面層之積層薄膜，其特徵在於表面層滿足以下的1至4：1. JIS Z8741(1997年)所規定的60°鏡面光澤度為60%以上；2.油酸的後退接觸角θr為50°以上；3.在微小硬度計測定中施加0.5mN荷重10秒鐘時，前述層的厚度方向的最大位移量為1.0μm以上3.0μm以下，前述層的厚度方向的限幅(clip)位移量為0.05μm以上0.5μm以下，將荷重解除至0mN時，前述層的厚度方向的永久位移量為0.2μm以上0.7μm以下
简体摘要： [课题]提供一种满足成型性、自己修复性、设计性、光泽感、耐指纹性的积层薄膜。[解决手段]一种积层薄膜，其系在支撑基材的至少一方的面具有表面层之积层薄膜，其特征在于表面层满足以下的1至4：1. JIS Z8741(1997年)所规定的60°镜面光泽度为60%以上；2.油酸的后退接触角θr为50°以上；3.在微小硬度计测定中施加0.5mN荷重10秒钟时，前述层的厚度方向的最大位移量为1.0μm以上3.0μm以下，前述层的厚度方向的限幅(clip)位移量为0.05μm以上0.5μm以下，将荷重解除至0mN时，前述层的厚度方向的永久位移量为0.2μm以上0.7μm以下

28. 发明专利

TWI445622B 積層聚酯膜及抗反射膜有权
简体标题：积层聚酯膜及抗反射膜
公开(公告)号：TWI445622B
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：TW098117234
申请日：2009-05-25
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：根本雅美 , NEMOTO, MASAMI , 堀內光弘 , HORIUCHI, MITSUHIRO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B27/36 , B32B7/02
CPC分类号： G02B1/111 , B32B27/08 , B32B27/36 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/306 , B32B2307/40 , B32B2307/416 , B32B2307/418 , B32B2307/50 , B32B2457/20 , B32B2457/208 , Y10T428/24942 , Y10T428/266 , Y10T428/31786 , Y10T428/31794

29. 发明专利

TW201410475A 積層體、導電性積層體及觸控面板、以及塗料組成物及使用該塗料組成物之積層體的製造方法审中-公开
简体标题：积层体、导电性积层体及触摸皮肤、以及涂料组成物及使用该涂料组成物之积层体的制造方法
公开(公告)号：TW201410475A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102119698
申请日：2013-06-04
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：甲斐倫子 , KAI, MICHIKO , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B5/16 , B32B7/02 , G06F3/041 , C09D5/24 , C09D127/12
CPC分类号： C09D129/10 , C08F2222/104 , C08K3/16 , C08K3/22 , C09D7/67 , C09D133/16 , C09D143/04 , C09D201/00 , G02B1/04 , G06F3/041 , G06F3/044 , Y10T428/24942 , Y10T428/24975 , C08F2230/085 , C08F220/24 , C08F2220/283
摘要： [課題]本發明之第1課題係提供一種積層體、將導電層積層於前述積層體的積層膜之最表面上而形成之導電性積層體、及包含該導電性積層體之觸控面板，其中該積層體係在支持基材的至少一面上具有由折射率不同的第1層與第2層所構成之積層膜之積層體，而在將導電層積層於積層體的第1層上形成導電性積層體時，即便以較低溫度進行用於提升導電率與透光性之退火處理，也能得到目標特性。第2課題係提供一種積層體、將導電層積層於前述積層體的積層膜之最表面上而形成之導電性積層體、及包含該導電性積層體之觸控面板，其中該積層體係在積層體的第1層上形成導電層時，或在進一步以蝕刻對導電層進行圖案化時，可減低透射光的著色減低效果或具讓導電層的圖案不易被看見的效果之面內均勻性，並可減低觀察角度相依性。[解決手段]一種積層體，其係以第2層、第1層之順序，在支持基材的至少一面上具有折射率不同之第2層及第1層，其中第1層係含有粒子X(粒子X係至少具有無機粒子部分之粒子)，第2層係含有粒子Y(粒子Y係至少具有無機粒子部分之粒子)之積層體，其中前述粒子X的無機粒子部分的數量平均粒徑(以下稱為DX)為5nm以上25nm以下，並滿足式1及式2：1.4≦(LX/DX)≦3．．．式1 SLX≦7．．．式2 LX係意指在以掃描式電子顯微鏡觀察第1層之表面的情形中，粒子X的無機粒子部分之平均粒子中心間距離。SLX係意指在以掃描式電子顯微鏡觀察第1層之表面的情形中，粒子X的無機粒子部分之平均粒子中心間距離的標準差。
简体摘要： [课题]本发明之第1课题系提供一种积层体、将导电层积层于前述积层体的积层膜之最表面上而形成之导电性积层体、及包含该导电性积层体之触摸皮肤，其中该积层体系在支持基材的至少一面上具有由折射率不同的第1层与第2层所构成之积层膜之积层体，而在将导电层积层于积层体的第1层上形成导电性积层体时，即便以较低温度进行用于提升导电率与透光性之退火处理，也能得到目标特性。第2课题系提供一种积层体、将导电层积层于前述积层体的积层膜之最表面上而形成之导电性积层体、及包含该导电性积层体之触摸皮肤，其中该积层体系在积层体的第1层上形成导电层时，或在进一步以蚀刻对导电层进行图案化时，可减低透射光的着色减低效果或具让导电层的图案不易被看见的效果之面内均匀性，并可减低观察角度相依性。[解决手段]一种积层体，其系以第2层、第1层之顺序，在支持基材的至少一面上具有折射率不同之第2层及第1层，其中第1层系含有粒子X(粒子X系至少具有无机粒子部分之粒子)，第2层系含有粒子Y(粒子Y系至少具有无机粒子部分之粒子)之积层体，其中前述粒子X的无机粒子部分的数量平均粒径(以下称为DX)为5nm以上25nm以下，并满足式1及式2：1.4≦(LX/DX)≦3．．．式1 SLX≦7．．．式2 LX系意指在以扫描式电子显微镜观察第1层之表面的情形中，粒子X的无机粒子部分之平均粒子中心间距离。SLX系意指在以扫描式电子显微镜观察第1层之表面的情形中，粒子X的无机粒子部分之平均粒子中心间距离的标准差。

30. 发明专利

TWI632053B 雙軸配向聚酯薄膜有权
简体标题：双轴配向聚酯薄膜
公开(公告)号：TWI632053B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103122201
申请日：2014-06-27
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：真鍋功 , MANABE, ISAO , 莊司秀夫 , SHOJI, HIDEO , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B29D7/01 , B29C55/12 , B29C71/02 , G02B5/30 , B29K67/00

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式