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21. 发明专利

TW201839805A 熱處理裝置审中-公开
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TW201839805A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107112693
申请日：2018-04-13
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/027
摘要：本發明之熱處理裝置在腔室2之側壁與基板出入口21分開地設置有在水平方向為扁平之排氣口23。排氣口23具有使熱處理板3上之基板W水平投影至設置有排氣口23之腔室2之側壁時在水平方向之投影長度HA3以上之開口寬度HA1，且排氣口23之上緣位於較熱處理板3之基板載置面更靠上方。由於排氣口23設置於腔室2之側壁，故即便假定結晶化之昇華物附著，仍可抑制昇華物朝基板W上之落下。又，由於排氣口23具有水平方向之投影長度HA3以上之開口寬度HA1，故能夠抑制基板W之上方之包含昇華物之氣體之滯留且經由排氣口23回收該氣體。
简体摘要：本发明之热处理设备在腔室2之侧壁与基板出入口21分开地设置有在水平方向为扁平之排气口23。排气口23具有使热处理板3上之基板W水平投影至设置有排气口23之腔室2之侧壁时在水平方向之投影长度HA3以上之开口宽度HA1，且排气口23之上缘位于较热处理板3之基板载置面更靠上方。由于排气口23设置于腔室2之侧壁，故即便假定结晶化之升华物附着，仍可抑制升华物朝基板W上之落下。又，由于排气口23具有水平方向之投影长度HA3以上之开口宽度HA1，故能够抑制基板W之上方之包含升华物之气体之滞留且经由排气口23回收该气体。

22. 发明专利

TW201834011A 基板處理方法及其裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及其设备
公开(公告)号：TW201834011A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106145486
申请日：2017-12-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 春本将彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/67 , H01L21/324
摘要：一種基板處理方法，其對基板於熱處理空間內進行熱處理，且上述方法包含以下步驟：搬入步驟，其使基板載置於支持銷；排氣步驟，其將上述熱處理空間之氣體排氣；惰性氣體供給步驟，其對上述熱處理空間供給惰性氣體；基板下空間氣體排出步驟，其將上述基板與上述熱處理板之上表面之間之基板下空間之氣體排出；及熱處理步驟，其使上述支持銷於上述熱處理板內退出，對載置於上述熱處理板之上表面上之上述熱處理空間內之基板進行熱處理。
简体摘要：一种基板处理方法，其对基板于热处理空间内进行热处理，且上述方法包含以下步骤：搬入步骤，其使基板载置于支持销；排气步骤，其将上述热处理空间之气体排气；惰性气体供给步骤，其对上述热处理空间供给惰性气体；基板下空间气体排出步骤，其将上述基板与上述热处理板之上表面之间之基板下空间之气体排出；及热处理步骤，其使上述支持销于上述热处理板内退出，对载置于上述热处理板之上表面上之上述热处理空间内之基板进行热处理。

23. 发明专利

TWI692003B 熱處理裝置及其保養維修方法有权
简体标题：热处理设备及其保养维修方法
公开(公告)号：TWI692003B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW107113021
申请日：2018-04-17
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/477 , H01L23/34

24. 发明专利

TWI673771B 熱處理裝置有权
简体标题：热处理设备
公开(公告)号：TWI673771B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW107112693
申请日：2018-04-13
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/027

25. 发明专利

TWI664663B 基板處理方法及其裝置有权
简体标题：基板处理方法及其设备
公开(公告)号：TWI664663B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW106145486
申请日：2017-12-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 春本将彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/67 , H01L21/324

26. 发明专利

TWI647737B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI647737B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW106137153
申请日：2017-10-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324

27. 发明专利

TW201842543A 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201842543A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106135709
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要：一種曝光裝置，係以曝光模式和維護模式來切換曝光裝置之動作模式。在曝光模式中係以框體內部之氧濃度成為比大氣中之氧濃度更低的曝光濃度之方式使框體內部之氛圍自抽吸裝置進行排氣。在此狀態下，藉由自光源部對框體內部之基板照射真空紫外線來曝光基板。在維護模式中係在框體內部之氧濃度比曝光模式中的氧濃度更高的狀態下，藉由自光源部對框體內部之氛圍照射真空紫外線來產生臭氧。
简体摘要：一种曝光设备，系以曝光模式和维护模式来切换曝光设备之动作模式。在曝光模式中系以框体内部之氧浓度成为比大气中之氧浓度更低的曝光浓度之方式使框体内部之氛围自抽吸设备进行排气。在此状态下，借由自光源部对框体内部之基板照射真空紫外线来曝光基板。在维护模式中系在框体内部之氧浓度比曝光模式中的氧浓度更高的状态下，借由自光源部对框体内部之氛围照射真空紫外线来产生臭氧。

28. 发明专利

TW201842542A 熱處理裝置及其保養維修方法审中-公开
简体标题：热处理设备及其保养维修方法
公开(公告)号：TW201842542A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107113021
申请日：2018-04-17
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/477 , H01L23/34
摘要：本發明之熱處理裝置係將排氣口23與基板出入口不同地另設於腔室2之側壁，於該排氣口23連接有排出腔室2內之氣體之氣體回收部51。氣體回收部51係藉由搭扣鎖63自腔室2卸下，或安裝於腔室2。若將氣體回收部51自腔室2卸下，則排氣口23打開。該排氣口23為保養維修用之開口部。藉此，可在不增加開口部之個數下，利用與基板出入口不同地另行設置之腔室2之開口部而進行腔室2內之保養維修。
简体摘要：本发明之热处理设备系将排气口23与基板出入口不同地另设于腔室2之侧壁，于该排气口23连接有排出腔室2内之气体之气体回收部51。气体回收部51系借由搭扣锁63自腔室2卸下，或安装于腔室2。若将气体回收部51自腔室2卸下，则排气口23打开。该排气口23为保养维修用之开口部。借此，可在不增加开口部之个数下，利用与基板出入口不同地另行设置之腔室2之开口部而进行腔室2内之保养维修。

29. 发明专利

TW201835969A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201835969A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107103951
申请日：2018-02-05
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/56
摘要：基板處理裝置具備處理容器、銷、密封外殼、密封構件及排氣埠。處理容器具有開口。銷通過開口遍及處理容器之內部及處理容器之外部而配置，且於銷之軸心方向往復移動。密封外殼配置於處理容器之外部，於開口之周圍與處理容器密接，並且收容銷之一部分。密封構件與密封外殼之內周面密接，且可與銷滑動地與銷之外周面密接。排氣埠與密封外殼連通連接。
简体摘要：基板处理设备具备处理容器、销、密封外壳、密封构件及排气端口。处理容器具有开口。销通过开口遍及处理容器之内部及处理容器之外部而配置，且于销之轴心方向往复移动。密封外壳配置于处理容器之外部，于开口之周围与处理容器密接，并且收容销之一部分。密封构件与密封外壳之内周面密接，且可与销滑动地与销之外周面密接。排气端口与密封外壳连通连接。

30. 发明专利

TWI636490B 顯像裝置、基板處理裝置、顯像方法以及基板處理方法有权
简体标题：显像设备、基板处理设备、显像方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI636490B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW106135707
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32

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