专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

TWI533084B 使用電子束或ＥＵＶ射線之有機溶劑顯影或多次顯影圖案形成法有权
简体标题：使用电子束或ＥＵＶ射线之有机溶剂显影或多次显影图案形成法
公开(公告)号：TWI533084B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW103127547
申请日：2010-02-22
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 白川浩司 , SHIRAKAWA, KOJI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU
IPC分类号： G03F7/004 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/322

22. 发明专利

TWI518448B 感光化射線或放射線樹脂組成物及使用該組成物之圖案形成方法有权
简体标题：感光化射线或放射线树脂组成物及使用该组成物之图案形成方法
公开(公告)号：TWI518448B
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW099107194
申请日：2010-03-12
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 白川浩司 , SHIRAKAWA, KOJI , 八尾忠輝 , YATSUO, TADATERU , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 土村智孝 , TSUCHIMURA, TOMOTAKA
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C07C309/31 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0046

23. 发明专利

TWI475323B 正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法有权
简体标题：正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
公开(公告)号：TWI475323B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW096108545
申请日：2007-03-13
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 岩戶薰 , IWATO, KAORU , 兒玉邦彥 , KODAMA, KUNIHIKO , 牧野雅臣 , MAKINO, MASAOMI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , C08F20/12 , C08F12/14
CPC分类号： G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111

24. 发明专利

TW201348879A 圖案形成方法、光罩以及奈米壓印母模审中-公开
简体标题：图案形成方法、光罩以及奈米压印母模
公开(公告)号：TW201348879A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102110944
申请日：2013-03-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 宇佐利裕 , USA, TOSHIHIRO , 関友和 , SEKI, TOMOKAZU , 高野行央 , TAKANO, IKUO
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , G03F1/22 , B29C55/02
CPC分类号： G03F7/0002 , C08F8/02 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F212/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/322 , C08F212/32
摘要：本發明提供一種圖案形成方法，包含在基板上形成感光化射線性或感放射線性樹脂組成物之膜，使所述膜曝光於光化射線或放射線，以及用顯影劑使經曝光的膜顯影，從而獲得精細圖案，所述方法之特徵為所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物包括含有以下通式(I)的重複單元中之任一者的聚合物(A)，以及所述顯影劑包括氫氧化四丙銨。
简体摘要：本发明提供一种图案形成方法，包含在基板上形成感光化射线性或感放射线性树脂组成物之膜，使所述膜曝光于光化射线或放射线，以及用显影剂使经曝光的膜显影，从而获得精细图案，所述方法之特征为所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物包括含有以下通式(I)的重复单元中之任一者的聚合物(A)，以及所述显影剂包括氢氧化四丙铵。

25. 发明专利

TWI694317B 清洗液、圖案形成方法及電子元件的製造方法有权
简体标题：清洗液、图案形成方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TWI694317B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW105119245
申请日：2016-06-20
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 二橋亘 , NIHASHI, WATARU
IPC分类号： G03F7/40 , C23G1/24 , H01L21/027

26. 发明专利

TWI653504B 圖案形成方法、抗蝕劑圖案、電子元件的製造方法及電子元件有权
简体标题：图案形成方法、抗蚀剂图案、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TWI653504B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW104115982
申请日：2015-05-20
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 二橋亘 , NIHASHI, WATARU , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027

27. 发明专利

TW201730327A 處理液及圖案形成方法审中-公开
简体标题：处理液及图案形成方法
公开(公告)号：TW201730327A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105131194
申请日：2016-09-29
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：平野修史 , HIRANO, SHUJI , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 二橋亘 , NIHASHI, WATARU , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： C11D7/50 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要：本發明的課題為提供一種可同時抑制抗蝕劑L/S圖案中的圖案倒塌的產生與抗蝕劑C/H圖案中的貫穿不良的產生的抗蝕劑膜圖案化用處理液及圖案形成方法。本發明的處理液是用於對由感光化射線性或感放射線性組成物所獲得的抗蝕劑膜進行顯影及清洗的至少一者、且含有有機溶劑的抗蝕劑膜圖案化用處理液，並且含有相對介電常數為4.0以下的第一有機溶劑及相對介電常數為6.0以上的第二有機溶劑。
简体摘要：本发明的课题为提供一种可同时抑制抗蚀剂L/S图案中的图案倒塌的产生与抗蚀剂C/H图案中的贯穿不良的产生的抗蚀剂膜图案化用处理液及图案形成方法。本发明的处理液是用于对由感光化射线性或感放射线性组成物所获得的抗蚀剂膜进行显影及清洗的至少一者、且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，并且含有相对介电常数为4.0以下的第一有机溶剂及相对介电常数为6.0以上的第二有机溶剂。

28. 发明专利

TWI591436B 圖案形成方法及光阻組成物有权
简体标题：图案形成方法及光阻组成物
公开(公告)号：TWI591436B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW100110142
申请日：2011-03-24
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啓太 , KATO, KEITA , 樽谷晉司 , TARUTANI, SHINJI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 上村聰 , KAMIMURA, SOU , 榎本雄一郎 , ENOMOTO, YUICHIRO , 藤井佳奈 , FUJII, KANA , 岩戶薰 , IWATO, KAORU , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/32 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/34 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24

29. 发明专利

TW201712445A 圖案形成方法、電子元件的製造方法及積層體审中-公开
简体标题：图案形成方法、电子组件的制造方法及积层体
公开(公告)号：TW201712445A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105129191
申请日：2016-09-09
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：二橋亘 , NIHASHI, WATARU , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/38
摘要：本發明提供一種尤其在形成極微細的殘留圖案時膜減損較少且能夠得到高解析力之圖案形成方法、包含上述圖案形成方法之電子元件的製造方法及用於形成上述圖案之積層體。作為圖案形成方法，包含如下製程：（a）由感光化射線性或感放射線性組成物形成感光化射線性或感放射線性膜之製程；（b）在感光化射線性或感放射線性膜上由上層膜形成用組成物形成上層膜之製程；（c）對形成有上層膜之感光化射線性或感放射線性膜進行曝光之製程；及（d）利用顯影液對經曝光之感光化射線性或感放射線性膜進行顯影之製程，上層膜形成用組成物含有交聯劑。電子元件的製造方法包含上述圖案形成方法。積層體具有感光化射線性或感放射線性膜及含有交聯劑之上層膜。
简体摘要：本发明提供一种尤其在形成极微细的残留图案时膜减损较少且能够得到高解析力之图案形成方法、包含上述图案形成方法之电子组件的制造方法及用于形成上述图案之积层体。作为图案形成方法，包含如下制程：（a）由感光化射线性或感放射线性组成物形成感光化射线性或感放射线性膜之制程；（b）在感光化射线性或感放射线性膜上由上层膜形成用组成物形成上层膜之制程；（c）对形成有上层膜之感光化射线性或感放射线性膜进行曝光之制程；及（d）利用显影液对经曝光之感光化射线性或感放射线性膜进行显影之制程，上层膜形成用组成物含有交联剂。电子组件的制造方法包含上述图案形成方法。积层体具有感光化射线性或感放射线性膜及含有交联剂之上层膜。

30. 发明专利

TW201712432A 圖案形成方法、電子器件的製造方法及層疊體审中-公开
简体标题：图案形成方法、电子器件的制造方法及层叠体
公开(公告)号：TW201712432A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105128310
申请日：2016-09-02
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 二橋亘 , NIHASHI, WATARU , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種在形成極微細的殘留圖案時能夠得到高解析力之圖案形成方法及包含上述圖案形成方法之電子器件的製造方法。本發明的圖案形成方法包含如下製程：（a）由感光化射線性或感放射線性組成物形成感光化射線性或感放射線性膜之製程；（b）在上述感光化射線性或感放射線性膜上由上層膜形成用組成物形成上層膜之製程；（c）對形成有上述上層膜之上述感光化射線性或感放射線性膜進行曝光之製程；及（d）利用含有有機溶劑之顯影液對經曝光之上述感光化射線性或感放射線性膜進行顯影之製程，上述上層膜形成用組成物含有藉由光化射線或放射線產生酸之化合物、藉由熱產生酸之化合物及酸中之至少1種。電子器件的製造方法包含上述圖案形成方法。層疊體包含上述感活性或感放射性膜及上述上層膜。
简体摘要：本发明提供一种在形成极微细的残留图案时能够得到高解析力之图案形成方法及包含上述图案形成方法之电子器件的制造方法。本发明的图案形成方法包含如下制程：（a）由感光化射线性或感放射线性组成物形成感光化射线性或感放射线性膜之制程；（b）在上述感光化射线性或感放射线性膜上由上层膜形成用组成物形成上层膜之制程；（c）对形成有上述上层膜之上述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光之制程；及（d）利用含有有机溶剂之显影液对经曝光之上述感光化射线性或感放射线性膜进行显影之制程，上述上层膜形成用组成物含有借由光化射线或放射线产生酸之化合物、借由热产生酸之化合物及酸中之至少1种。电子器件的制造方法包含上述图案形成方法。层叠体包含上述感活性或感放射性膜及上述上层膜。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式