专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

TW200914187A 用於將電子元件基板劃線之雷射透鏡的平衡液 FLUID COUNTERBALANCE FOR A LASER LENS USED TO SCRIBE AN ELECTRONIC COMPONENT SUBSTRATE 失效
简体标题：用于将电子组件基板划线之激光透镜的平衡液 FLUID COUNTERBALANCE FOR A LASER LENS USED TO SCRIBE AN ELECTRONIC COMPONENT SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200914187A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW097118711
申请日：2008-05-21
申请人： ESI電子科技(股)公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：馬克科斯莫斯基 KOSMOWSKI, MARK
IPC分类号： B23K
CPC分类号： G02B7/023 , G02B7/08
摘要：一種用於支撐用以處理電子元件基板之器件之裝置及方法,其包括支撐雷射透鏡於重力場以使其藉由線性致動器沿著Z軸調焦移動之總成。一用於該總成之平衡流體係藉由與罩殼相關聯之用於在行程之端部極限之間移動的活塞所界定。該活塞將罩殼分成具有第一流體傳遞通口與第二流體傳遞通口之第一流體室與第二流體室。一流體壓力源可連接至第一流體室與第二流體室且係可調整以平衡地靜態懸掛所支撐的雷射透鏡於重力場中。該流體壓力源允許所支撐的雷射透鏡移動至活塞之行程之相對端部極限之間之任何位置,同時將所支撐的雷射透鏡之質量維持於平衡狀態。
简体摘要：一种用于支撑用以处理电子组件基板之器件之设备及方法,其包括支撑激光透镜于重力场以使其借由线性致动器沿着Z轴调焦移动之总成。一用于该总成之平衡流体系借由与罩壳相关联之用于在行程之端部极限之间移动的活塞所界定。该活塞将罩壳分成具有第一流体传递通口与第二流体传递通口之第一流体室与第二流体室。一流体压力源可连接至第一流体室与第二流体室且系可调整以平衡地静态悬挂所支撑的激光透镜于重力场中。该流体压力源允许所支撑的激光透镜移动至活塞之行程之相对端部极限之间之任何位置,同时将所支撑的激光透镜之质量维持于平衡状态。

22. 发明专利

TW200909116A 機械加工漸縮微孔之方法 METHOD FOR MACHINING TAPERED MICRO HOLES 失效
简体标题：机械加工渐缩微孔之方法 METHOD FOR MACHINING TAPERED MICRO HOLES
公开(公告)号：TW200909116A
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW097116390
申请日：2008-05-02
申请人： ESI電子科技(股)公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：米梅特E 艾爾裴 ALPAY, MEHMET E. , 傑佛瑞豪爾頓 HOWERTON, JEFFREY , 麥可奈許爾 NASHNER, MICHAEL , 文陵 WEN, LING
IPC分类号： B23K , H05K
CPC分类号： H05K3/0032 , B23K26/0622 , B23K26/0869 , B23K26/384 , B23K26/389 , B23K26/40 , B23K2201/42 , B23K2203/172 , H05K2201/09827
摘要：一種用於在一薄的大體均質之材料中雷射機械加工通過具有理想幾何截面要求的微型孔之方法。
简体摘要：一种用于在一薄的大体均质之材料中激光机械加工通过具有理想几何截面要求的微型孔之方法。

23. 发明专利

TW200900188A 具掃瞄透鏡後偏轉之雷射微加工系統 LASER MICRO-MACHINING SYSTEM WITH POST-SCAN LENS DEFLECTION 审中-公开
简体标题：具扫瞄透镜后偏转之激光微加工系统 LASER MICRO-MACHINING SYSTEM WITH POST-SCAN LENS DEFLECTION
公开(公告)号：TW200900188A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097116357
申请日：2008-05-02
申请人： ESI電子科技(股)公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：米梅特E 艾爾裴 ALPAY, MEHMET E. , 傑佛瑞豪爾頓 HOWERTON, JEFFREY , 派區克雷那德 LEONARD, PATRICK , 麥可奈許爾 NASHNER, MICHAEL , 大衛麥基爾 MCKEEVER, DAVID
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K26/0665 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/082 , B23K26/382 , B23K26/40 , B23K2201/42 , B23K2203/16 , B23K2203/50 , H05K3/0026
摘要：一種雷射微加工系統包括:一雷射源,其經定位以經由一掃描透鏡而將一雷射脈衝導引至一安裝於一工作表面上之工件;及一鏡面,其定位於該掃描透鏡與該工件之間且相對於該工作表面而傾斜以將該雷射脈衝反射朝向該工件。可將該鏡面定位至許多位置使得僅該鏡面之若干部分被用於許多處理步驟,從而延長了該鏡面之壽命。
简体摘要：一种激光微加工系统包括:一激光源,其经定位以经由一扫描透镜而将一激光脉冲导引至一安装于一工作表面上之工件;及一镜面,其定位于该扫描透镜与该工件之间且相对于该工作表面而倾斜以将该激光脉冲反射朝向该工件。可将该镜面定位至许多位置使得仅该镜面之若干部分被用于许多处理步骤,从而延长了该镜面之寿命。

24. 发明专利

TW200807199A 用於自動處理預訂次序之多應用以影響多應用定序之方法和裝置 METHOD AND APPARATUS FOR AUTOMATICALLY PROCESSING MULTIPLE APPLICATIONS IN A PREDETERMINED ORDER TO AFFECT MULTI-APPLICATION SEQUENCING 失效
简体标题：用于自动处理预订次序之多应用以影响多应用定序之方法和设备 METHOD AND APPARATUS FOR AUTOMATICALLY PROCESSING MULTIPLE APPLICATIONS IN A PREDETERMINED ORDER TO AFFECT MULTI-APPLICATION SEQUENCING
公开(公告)号：TW200807199A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096119781
申请日：2007-06-01
申请人： ESI電子科技(股)公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：傑佛瑞豪爾頓 HOWERTON, JEFFREY , 米梅特艾爾裴 ALPAY, MEHMET , 文陵 WEN, LING
IPC分类号： G05B
CPC分类号： B23K26/382 , B23K26/40 , B23K2201/42 , B23K2203/172 , B23K2203/50 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K3/0026 , H05K2201/09918 , H05K2201/09972
摘要：一種對一處理板所支撐之裝載件實施一處理步驟序列之裝置及方法。該裝載件可包括一其上實施複數個應用之單片,或可包括複數個其上實施各自應用之面板。對於每一應用,使用至少一個粗目標及至少一個面板目標來調節彼應用之程式化座標。在使用該等粗及面板目標處理該裝載件之第一應用之後,定位該第二應用之粗及面板目標。使用該等目標所提供之對準,處理該第二應用。每一隨後之應用皆係以類似方式對準及處理。
简体摘要：一种对一处理板所支撑之装载件实施一处理步骤串行之设备及方法。该装载件可包括一其上实施复数个应用之单片,或可包括复数个其上实施各自应用之皮肤。对于每一应用,使用至少一个粗目标及至少一个皮肤目标来调节彼应用之进程化座标。在使用该等粗及皮肤目标处理该装载件之第一应用之后,定位该第二应用之粗及皮肤目标。使用该等目标所提供之对准,处理该第二应用。每一随后之应用皆系以类似方式对准及处理。

25. 发明专利

TWI290695B 照明假影之影像相減 IMAGE SUBTRACTION OF ILLUMINATION ARTIFACTS 失效
简体标题：照明假影之影像相减 IMAGE SUBTRACTION OF ILLUMINATION ARTIFACTS
公开(公告)号：TWI290695B
公开(公告)日：2007-12-01
申请号：TW094112748
申请日：2005-04-21
申请人： ESI電子科技(股)公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：雷歐鮑德溫 BALDWIN, LEO
IPC分类号： G06K
CPC分类号： G06K9/2036
摘要：本發明揭示一種用於自一物件影像移除由一成像系統之一直列式照明裝置產生的一假影之方法。該方法包括使用一第一假影照明等級獲得該假影之一第一影像，及使用該成像系統成像該物件，其中該照明裝置使用一物件照明等級。一假影影像係獨立於該物件且具有與該照明等級相關之像素值。因此，可藉由基於逐像素位址自該物件影像之個別值減去一假影影像之個別像素值來移除該假影。可使用各種照明等級以產生一個以上之假影影像。用於該相減之該假影影像可為該等所得影像中之一影像或可為一成比列影像，其中一假影影像成比例縮放至該物件照明等級。
简体摘要：本发明揭示一种用于自一对象影像移除由一成像系统之一直列式照明设备产生的一假影之方法。该方法包括使用一第一假影照明等级获得该假影之一第一影像，及使用该成像系统成像该对象，其中该照明设备使用一对象照明等级。一假影影像系独立于该对象且具有与该照明等级相关之像素值。因此，可借由基于逐像素位址自该对象影像之个别值减去一假影影像之个别像素值来移除该假影。可使用各种照明等级以产生一个以上之假影影像。用于该相减之该假影影像可为该等所得影像中之一影像或可为一成比列影像，其中一假影影像成比例缩放至该对象照明等级。

26. 发明专利

TW200721383A 利用使用45度角光束分裂定向裝置及方法之組光束分離之X及Y正交切方向處理 X & Y ORTHOGONAL CUT DIRECTION PROCESSING WITH SET BEAM SEPARATION USING 45 DEGREE BEAM SPLIT ORIENTATION APPARATUS AND METHOD 审中-公开
简体标题：利用使用45度角光束分裂定向设备及方法之组光束分离之X及Y正交切方向处理 X & Y ORTHOGONAL CUT DIRECTION PROCESSING WITH SET BEAM SEPARATION USING 45 DEGREE BEAM SPLIT ORIENTATION APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TW200721383A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW095108817
申请日：2006-03-15
申请人： ESI電子科技(股)公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：雷那得肯特 KANDT, LEONARD
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B23K26/0869 , B23K26/083 , B23K26/0853 , B23K26/38 , B23K26/40 , B23K2201/40 , B23K2203/50
摘要：本發明揭示一種用於在一平面工件上劃一對平行切之X及Y正交切裝置,該工件平面具有一X軸及一Y軸,其中該裝置包含一雷射元件,其產生包括一第一光束及一第二光束之至少二光束,該第一光束及該第二光束在該工件上各具有一撞擊點,該第一及第二撞擊點係相對於該工件之X及Y軸呈對角線定位;及至少一驅動器,其係以相對於該工件移動該等撞擊點及相對於該等撞擊點移動該工件二方式中至少其一來移動。
简体摘要：本发明揭示一种用于在一平面工件上划一对平行切之X及Y正交切设备,该工件平面具有一X轴及一Y轴,其中该设备包含一激光组件,其产生包括一第一光束及一第二光束之至少二光束,该第一光束及该第二光束在该工件上各具有一撞击点,该第一及第二撞击点系相对于该工件之X及Y轴呈对角线定位;及至少一驱动器,其系以相对于该工件移动该等撞击点及相对于该等撞击点移动该工件二方式中至少其一来移动。

27. 发明专利

TWI474423B 長軸元件負載器有权
简体标题：长轴组件负载器
公开(公告)号：TWI474423B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW096114137
申请日：2007-04-20
申请人： ESI電子科技(股)公司 , ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：道J 嘉西亞 , GARCIA, DOUG J. , 威廉桑德斯 , SAUNDERS, WILLIAM , 尼克塔伯斯 , TUBBS, NICK
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H05K13/021

28. 发明专利

TWI450660B 具有間隙設定裝置之電子元件處理器有权
简体标题：具有间隙设置设备之电子组件处理器
公开(公告)号：TWI450660B
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW097102921
申请日：2008-01-25
申请人： ESI電子科技(股)公司 , ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：大衛詹姆斯麥基爾 , MCKEEVER, DAVID JAMES , 馬丁腓德瑞克班伯格 , BAMBERGER, MARTIN FREDERICK , 柏蘭麥可 , MICHAEL, BLAINE , 道J 嘉西亞 , GARCIA, DOUG J.
IPC分类号： H05K13/08 , B65G61/00 , G01R31/26 , H01L21/66
CPC分类号： B07C3/12 , B07C5/344 , G01R31/2893

29. 发明专利

TWI418207B 經由多重波長光之改良影像品質有权
简体标题：经由多重波长光之改良影像品质
公开(公告)号：TWI418207B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW096115191
申请日：2007-04-27
申请人： ESI電子科技(股)公司 , ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：布萊恩喬韓生 , JOHANSEN, BRIAN , 米梅特E 艾爾裴 , ALPAY, MEHMET E.
IPC分类号： H04N1/40
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/9501 , G06K9/2018 , G06K9/2027 , G06K2209/19 , G06T5/50

30. 发明专利

TWI409999B 可調應力電接觸器有权
简体标题：可调应力电接触器
公开(公告)号：TWI409999B
公开(公告)日：2013-09-21
申请号：TW097102902
申请日：2008-01-25
申请人： ESI電子科技(股)公司 , ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：道J 嘉西亞 , GARCIA, DOUG J.
IPC分类号： H01R13/22 , G01R31/02
CPC分类号： G01R1/07342 , G01R1/06716 , G01R1/06738

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式