会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 21. 发明专利
    • 有機矽化合物、彼之製法及用途 ORGANOSILICON COMPOUNDS, THEIR PREPARATION AND THEIR USE
    • 有机硅化合物、彼之制法及用途 ORGANOSILICON COMPOUNDS, THEIR PREPARATION AND THEIR USE
    • TW200712057A
    • 2007-04-01
    • TW095129797
    • 2006-08-14
    • 提古沙公司 DEGUSSA AG
    • 卡斯頓 柯斯 KORTH, KARSTEN安卓 漢斯 HASSE, ANDRE蘇姍 魏斯奇 WITZSCHE, SUSANN奧利佛 克拉克曼 KLOCKMANN, OLIVER菲力普 艾柏特 ALBERT, PHILIPP
    • C07FC08KC08L
    • C08K5/549C07F7/1836C08K5/548C08K9/06C08K9/12C08L21/00
    • 本發明係有關通式Q-【S-G-Si(-O-CX^1X^2-CX^1X^3-)3N】之有機矽化合物。有機矽化合物係藉由使至少一種通式X^10S-G-Si(-O-CX^1X^2-CX^1X^3-)3N之有機矽化合物和有機或無機酸酐、有機或無機醯鹵或有機或無機酯進行反應而製備。有機矽化合物係藉由使通式Q(-SH)之化合物與至少一種包含雙鍵且為通式CX^1X^2=CX^2-G^1-Si(O-CX^1X^2-CX^1X^3)3N之有機矽化合物進行加成反應而製備。有機矽化合物係藉由使至少一種通式Q(-S-X^10)之化合物與通式鹵素-G-Si(O-CX^1X^2-CX^1X^3)3N之化合物反應而製備。有機矽化合物係藉由使通式Q-【S-G-Si(烷氧基)@
      sB!3】、(烷氧基)3Si-G-S-C(=O)-Z-C(=O)-S-G-Si(烷氧基)3、(烷氧基)3Si-G-S-C(=S)-Z-C(=S)-S-G-Si(烷氧基)3、或(烷氧基)3Si-G-S-C(=NR)-Z-C(=NR)-S-G-Si(烷氧基)3之矽烷與通式(HO-CX^1X^2-CX^1X^3-)3N之化合物反應,脫去(烷氧基)-H,及自反應混合物中分離出(烷氧基)-H而製備。有機矽化合物可使用於橡膠混合物中。
    • 本发明系有关通式Q-【S-G-Si(-O-CX^1X^2-CX^1X^3-)3N】之有机硅化合物。有机硅化合物系借由使至少一种通式X^10S-G-Si(-O-CX^1X^2-CX^1X^3-)3N之有机硅化合物和有机或无机酸酐、有机或无机酰卤或有机或无机酯进行反应而制备。有机硅化合物系借由使通式Q(-SH)之化合物与至少一种包含双键且为通式CX^1X^2=CX^2-G^1-Si(O-CX^1X^2-CX^1X^3)3N之有机硅化合物进行加成反应而制备。有机硅化合物系借由使至少一种通式Q(-S-X^10)之化合物与通式卤素-G-Si(O-CX^1X^2-CX^1X^3)3N之化合物反应而制备。有机硅化合物系借由使通式Q-【S-G-Si(烷氧基)@ sB!3】、(烷氧基)3Si-G-S-C(=O)-Z-C(=O)-S-G-Si(烷氧基)3、(烷氧基)3Si-G-S-C(=S)-Z-C(=S)-S-G-Si(烷氧基)3、或(烷氧基)3Si-G-S-C(=NR)-Z-C(=NR)-S-G-Si(烷氧基)3之硅烷与通式(HO-CX^1X^2-CX^1X^3-)3N之化合物反应,脱去(烷氧基)-H,及自反应混合物中分离出(烷氧基)-H而制备。有机硅化合物可使用于橡胶混合物中。
    • 25. 发明专利
    • 含聚醯胺之聚合物粉末,其在成形方法上的用途,及由此聚合物粉末所製得之模塑物 POLYMER POWDER WITH POLYAMIDE, USE IN A SHAPING PROCESS, AND MOLDINGS PRODUCED FROM THIS POLYMER POWDER
    • 含聚酰胺之聚合物粉末,其在成形方法上的用途,及由此聚合物粉末所制得之模塑物 POLYMER POWDER WITH POLYAMIDE, USE IN A SHAPING PROCESS, AND MOLDINGS PRODUCED FROM THIS POLYMER POWDER
    • TW200639216A
    • 2006-11-16
    • TW095101634
    • 2006-01-16
    • 提古沙公司 DEGUSSA AG
    • 絲維雅 蒙許莫爾 MONSHEIMER, SYLVIA法蘭茲 艾里奇 包曼 BAUMANN, FRANZ-ERICH
    • C08LC08JB29C
    • C08L77/02B29C64/153C08G69/14C08J3/12C08J3/28C08J2377/02
    • 本發明係有關含聚醯胺之聚合物粉末,及此粉末在成形方法上之用途,以及由此聚合物粉末所製得之模塑物。該成形方法為使用粉末的逐層(layer–by–layer)法,其中係經由導入電磁能量將個別層區選擇性地熔化。該選擇性可-於無意限制本發明於此之下-經由遮罩,施加抑制劑、吸收劑、或敏感劑(susceptors),或經由將導入的能量聚焦而達成。於冷卻之後,可從粉末床將已固化的區以模塑物形成取出。本發明粉末的製備係以包含中間尺寸內醯胺環的聚醯胺為基礎。於此,可省略從聚醯胺萃取掉殘餘單體之複雜步驟。RP/RM法的構成程序變得更可靠和更一致,即使對於達到相當高水平的工作也一樣,因為其可實質上消除殘餘單體在光學組件(例如雷射燒結系統)上的沈積之故。這些組件的性質,特別是表面性質非常好,而且比使用有較高殘餘單體含量的粉末更具可再製性。
    • 本发明系有关含聚酰胺之聚合物粉末,及此粉末在成形方法上之用途,以及由此聚合物粉末所制得之模塑物。该成形方法为使用粉末的逐层(layer–by–layer)法,其中系经由导入电磁能量将个别层区选择性地熔化。该选择性可-于无意限制本发明于此之下-经由遮罩,施加抑制剂、吸收剂、或敏感剂(susceptors),或经由将导入的能量聚焦而达成。于冷却之后,可从粉末床将已固化的区以模塑物形成取出。本发明粉末的制备系以包含中间尺寸内酰胺环的聚酰胺为基础。于此,可省略从聚酰胺萃取掉残余单体之复杂步骤。RP/RM法的构成进程变得更可靠和更一致,即使对于达到相当高水平的工作也一样,因为其可实质上消除残余单体在光学组件(例如激光烧结系统)上的沉积之故。这些组件的性质,特别是表面性质非常好,而且比使用有较高残余单体含量的粉末更具可再制性。
    • 28. 发明专利
    • 高度填充之金屬氧化物水性分散液 HIGHLY-FILLED, AQUEOUS METAL OXIDE DISPERSION
    • 高度填充之金属氧化物水性分散液 HIGHLY-FILLED, AQUEOUS METAL OXIDE DISPERSION
    • TW200609195A
    • 2006-03-16
    • TW094125164
    • 2005-07-25
    • 提古沙公司 DEGUSSA AG
    • 莫尼卡 奧斯沃 OSWALD, MONIKA柯里那 奇斯納 KISSNER, CORINNA羅蘭 威斯 WEISS, ROLAND安德莉亞 洛爾 LAUER, ANDREAS
    • C04B
    • 本發明關於一種水性分散液,包含具有細粒部份與粗粒部份之金屬氧化物粉末,其中–該金屬氧化物粉末為二氧化矽,氧化鋁,二氧化鈦,二氧化鋯,氧化鈰或二或多個前述金屬氧化物之混合氧化物,–該細粒部份呈聚集形式且於分散液中的平均聚集直徑為低於200nm,–該粗粒部份由平均直徑1至20μm的粒子所組成,–細粒部份對粗粒部份的比例為2:98至30:70,及–金屬氧化物粉末的含量為50至85wt.%,以分散液總量計。此水性分散液由包括下述步驟之方法製得:–將粉碎的細粒部份以輸入能量至少為200KJ/m^3分散於水中而製得細粒部份分散液,以及–將粉末狀的粗粒部份於低輸入能量之分散條件下引至該細粒部份分散液中。使用此分散液製造模製物件的方法。
    • 本发明关于一种水性分散液,包含具有细粒部份与粗粒部份之金属氧化物粉末,其中–该金属氧化物粉末为二氧化硅,氧化铝,二氧化钛,二氧化锆,氧化铈或二或多个前述金属氧化物之混合氧化物,–该细粒部份呈聚集形式且于分散液中的平均聚集直径为低于200nm,–该粗粒部份由平均直径1至20μm的粒子所组成,–细粒部份对粗粒部份的比例为2:98至30:70,及–金属氧化物粉末的含量为50至85wt.%,以分散液总量计。此水性分散液由包括下述步骤之方法制得:–将粉碎的细粒部份以输入能量至少为200KJ/m^3分散于水中而制得细粒部份分散液,以及–将粉末状的粗粒部份于低输入能量之分散条件下引至该细粒部份分散液中。使用此分散液制造模制对象的方法。