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    • 14. 发明专利
    • 影像顯示裝置之製造方法
    • 影像显示设备之制造方法
    • TW201423207A
    • 2014-06-16
    • TW102102830
    • 2013-01-25
    • 迪睿合股份有限公司DEXERIALS CORPORATION
    • 小川康一OGAWA, KOUICHI新家由久SHINYA, YOSHIHISA林直樹HAYASHI, NAOKI豊田倫由紀TOYODA, TOMOYUKI
    • G02F1/13B32B37/06B32B27/06
    • G02F1/1333C08F222/1006C09J4/00C09J4/06G02F1/133308G02F1/133512G02F2001/133331G02F2202/023G02F2202/28G06F3/041H01J9/20H01L51/50H05B33/10
    • 本發明於介隔硬化樹脂層積層影像顯示構件與透光性覆蓋構件而製造影像顯示裝置時,可使遮光層與影像顯示構件之間之光硬化性樹脂組成物未自其間排除而充分光硬化,並且可消除遮光層與透光性覆蓋構件表面之間之階差。影像顯示裝置係以如下方式製造:以可消除由遮光層與透光性覆蓋構件之遮光層形成側表面所形成之階差之方式,於透光性覆蓋構件之表面或影像顯示構件之表面以厚於遮光層之厚度塗佈基於暫時硬化及正式硬化之硬化收縮率之合計值為3%以上之液狀光硬化性樹脂組成物,照射紫外線進行暫時硬化,形成暫時硬化樹脂層,以暫時硬化樹脂層成為內側之方式於影像顯示構件貼合透光性覆蓋構件,並對暫時硬化樹脂層照射紫外線進行正式硬化。暫時硬化係以正式硬化中之硬化收縮率成為未達3%之方式進行。
    • 本发明于介隔硬化树脂层积层影像显示构件与透光性覆盖构件而制造影像显示设备时,可使遮光层与影像显示构件之间之光硬化性树脂组成物未自其间排除而充分光硬化,并且可消除遮光层与透光性覆盖构件表面之间之阶差。影像显示设备系以如下方式制造:以可消除由遮光层与透光性覆盖构件之遮光层形成侧表面所形成之阶差之方式,于透光性覆盖构件之表面或影像显示构件之表面以厚于遮光层之厚度涂布基于暂时硬化及正式硬化之硬化收缩率之合计值为3%以上之液状光硬化性树脂组成物,照射紫外线进行暂时硬化,形成暂时硬化树脂层,以暂时硬化树脂层成为内侧之方式于影像显示构件贴合透光性覆盖构件,并对暂时硬化树脂层照射紫外线进行正式硬化。暂时硬化系以正式硬化中之硬化收缩率成为未达3%之方式进行。