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热词
    • 1. 发明专利
    • 影像顯示裝置之製造方法
    • 影像显示设备之制造方法
    • TW201423207A
    • 2014-06-16
    • TW102102830
    • 2013-01-25
    • 迪睿合股份有限公司DEXERIALS CORPORATION
    • 小川康一OGAWA, KOUICHI新家由久SHINYA, YOSHIHISA林直樹HAYASHI, NAOKI豊田倫由紀TOYODA, TOMOYUKI
    • G02F1/13B32B37/06B32B27/06
    • G02F1/1333C08F222/1006C09J4/00C09J4/06G02F1/133308G02F1/133512G02F2001/133331G02F2202/023G02F2202/28G06F3/041H01J9/20H01L51/50H05B33/10
    • 本發明於介隔硬化樹脂層積層影像顯示構件與透光性覆蓋構件而製造影像顯示裝置時,可使遮光層與影像顯示構件之間之光硬化性樹脂組成物未自其間排除而充分光硬化,並且可消除遮光層與透光性覆蓋構件表面之間之階差。影像顯示裝置係以如下方式製造:以可消除由遮光層與透光性覆蓋構件之遮光層形成側表面所形成之階差之方式,於透光性覆蓋構件之表面或影像顯示構件之表面以厚於遮光層之厚度塗佈基於暫時硬化及正式硬化之硬化收縮率之合計值為3%以上之液狀光硬化性樹脂組成物,照射紫外線進行暫時硬化,形成暫時硬化樹脂層,以暫時硬化樹脂層成為內側之方式於影像顯示構件貼合透光性覆蓋構件,並對暫時硬化樹脂層照射紫外線進行正式硬化。暫時硬化係以正式硬化中之硬化收縮率成為未達3%之方式進行。
    • 本发明于介隔硬化树脂层积层影像显示构件与透光性覆盖构件而制造影像显示设备时,可使遮光层与影像显示构件之间之光硬化性树脂组成物未自其间排除而充分光硬化,并且可消除遮光层与透光性覆盖构件表面之间之阶差。影像显示设备系以如下方式制造:以可消除由遮光层与透光性覆盖构件之遮光层形成侧表面所形成之阶差之方式,于透光性覆盖构件之表面或影像显示构件之表面以厚于遮光层之厚度涂布基于暂时硬化及正式硬化之硬化收缩率之合计值为3%以上之液状光硬化性树脂组成物,照射紫外线进行暂时硬化,形成暂时硬化树脂层,以暂时硬化树脂层成为内侧之方式于影像显示构件贴合透光性覆盖构件,并对暂时硬化树脂层照射紫外线进行正式硬化。暂时硬化系以正式硬化中之硬化收缩率成为未达3%之方式进行。
    • 5. 发明专利
    • 畫像顯示裝置和該製造方法
    • 画像显示设备和该制造方法
    • TW200615997A
    • 2006-05-16
    • TW094129979
    • 2005-08-31
    • 東芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
    • 小柳津剛 OYAIZU, TSUYOSHI奧土幸男 OKUDO, YUKIO
    • H01J
    • H01J29/94H01J9/20
    • 本發明提供一種畫像顯示裝置和該製造方法,在該畫像顯示裝置中,前面基板具有:複數螢光體層6,係形成於玻璃基板4上;複數光吸收層5,係分別設置於複數螢光體層間;金屬背層(metal back layer)1,係形成於複數螢光體層上,且被電性分斷成複數;複數吸氣分斷層2,係在複數光吸收層上,且在金屬背層的溝藉由沈積絕緣膜而所形成,以該沈積的壁面相對於金屬背層的面,為90度至80度範圍的懸崖狀沈積物所形成;和複數吸氣層3,係分別積層形成於金屬背層上與吸氣分斷層上,使金屬背層上的吸氣層與吸氣分斷層上的吸氣層被電性絕緣。
    • 本发明提供一种画像显示设备和该制造方法,在该画像显示设备中,前面基板具有:复数萤光体层6,系形成于玻璃基板4上;复数光吸收层5,系分别设置于复数萤光体层间;金属背层(metal back layer)1,系形成于复数萤光体层上,且被电性分断成复数;复数吸气分断层2,系在复数光吸收层上,且在金属背层的沟借由沉积绝缘膜而所形成,以该沉积的壁面相对于金属背层的面,为90度至80度范围的悬崖状沉积物所形成;和复数吸气层3,系分别积层形成于金属背层上与吸气分断层上,使金属背层上的吸气层与吸气分断层上的吸气层被电性绝缘。