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11. 发明专利

TW201715020A 乾式蝕刻方法及乾式蝕刻劑审中-公开
简体标题：干式蚀刻方法及干式蚀刻剂
公开(公告)号：TW201715020A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105129290
申请日：2016-09-09
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：大森啟之 , OOMORI, HIROYUKI , 八尾章史 , YAO, AKIFUMI
IPC分类号： C09K13/00 , H01L21/3065 , H01L21/311
CPC分类号： H01L21/31122 , H01L21/02118 , H01L21/02211 , H01L21/02252 , H01L21/31144
摘要：本發明係鑒於下述問題點而完成者，提供一種於對非晶碳進行蝕刻時可抑制產生彎曲或側壁表面之粗糙等蝕刻形狀異常之蝕刻方法。本發明使用如下乾式蝕刻方法，即：針對設置於腔室內之具有非晶碳膜之基板，使用使至少包含氧氣與烷基矽烷之乾式蝕刻劑電漿化而獲得之電漿氣體，將無機膜作為遮罩對上述非晶碳膜進行電漿蝕刻。較佳為上述烷基矽烷係選自由(CH3)4Si、(CH3)3SiH、(CH3)2SiH2及(CH3)SiH3所組成之群中之至少1種。
简体摘要：本发明系鉴于下述问题点而完成者，提供一种于对非晶碳进行蚀刻时可抑制产生弯曲或侧壁表面之粗糙等蚀刻形状异常之蚀刻方法。本发明使用如下干式蚀刻方法，即：针对设置于腔室内之具有非晶碳膜之基板，使用使至少包含氧气与烷基硅烷之干式蚀刻剂等离子化而获得之等离子气体，将无机膜作为遮罩对上述非晶碳膜进行等离子蚀刻。较佳为上述烷基硅烷系选自由(CH3)4Si、(CH3)3SiH、(CH3)2SiH2及(CH3)SiH3所组成之群中之至少1种。

12. 发明专利

TWI575599B 乾式蝕刻方法、乾式蝕刻裝置、金屬膜及具備其之設備有权
简体标题：干式蚀刻方法、干式蚀刻设备、金属膜及具备其之设备
公开(公告)号：TWI575599B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW103118682
申请日：2014-05-28
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：菊池亞紀應 , KIKUCHI, AKIOU , 武田雄太 , TAKEDA, YUTA
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/32135 , C23F1/12 , C23F4/02 , H01L21/67034 , H01L21/67069

13. 发明专利

TW201709321A 乾式蝕刻方法审中-公开
简体标题：干式蚀刻方法
公开(公告)号：TW201709321A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105121921
申请日：2016-07-12
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：大森啟之 , OOMORI, HIROYUKI , 八尾章史 , YAO, AKIFUMI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/3065 , H01J2237/3341 , H01L21/30604 , H01L21/31 , H05H1/46
摘要：本發明之乾式蝕刻方法之特徵在於：其係對形成於基板上之矽氧化物層與矽氮化物層之積層膜，介隔形成於上述積層膜上之遮罩，進行使乾式蝕刻劑電漿化並施加500V以上之偏壓電壓的蝕刻，從而對該層形成垂直方向之貫通孔的方法，並且上述乾式蝕刻劑至少包含C3H2F4、CxFy所表示之不飽和全氟碳及氧化性氣體，且上述乾式蝕刻劑中所含之上述不飽和全氟碳之體積為上述乾式蝕刻劑中所含之上述C3H2F4之體積的0.1~10倍之範圍。藉由該乾式蝕刻方法，可將SiOx之蝕刻速度相對於SiN之蝕刻速度的比(SiN/SiOx比)任意地控制於0.90~1.5之間，並且亦可對遮罩實現高蝕刻選擇性。
简体摘要：本发明之干式蚀刻方法之特征在于：其系对形成于基板上之硅氧化物层与硅氮化物层之积层膜，介隔形成于上述积层膜上之遮罩，进行使干式蚀刻剂等离子化并施加500V以上之偏压电压的蚀刻，从而对该层形成垂直方向之贯通孔的方法，并且上述干式蚀刻剂至少包含C3H2F4、CxFy所表示之不饱和全氟碳及氧化性气体，且上述干式蚀刻剂中所含之上述不饱和全氟碳之体积为上述干式蚀刻剂中所含之上述C3H2F4之体积的0.1~10倍之范围。借由该干式蚀刻方法，可将SiOx之蚀刻速度相对于SiN之蚀刻速度的比(SiN/SiOx比)任意地控制于0.90~1.5之间，并且亦可对遮罩实现高蚀刻选择性。

14. 发明专利

TW201708098A 五氟化碘之製造方法审中-公开
简体标题：五氟化碘之制造方法
公开(公告)号：TW201708098A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105118823
申请日：2016-06-15
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：長友真聖 , NAGATOMO, MASAKIYO , 池田晋也 , IKEDA, SHINYA , 柴山茂朗 , SHIBAYAMA, TAKAAKI
IPC分类号： C01B7/24
摘要：本發明揭示有一種五氟化碘之製造方法，其包括：對於具有包含碘之液相之五氟化碘之反應槽中供給七氟化碘氣體，使碘與七氟化碘反應，從而製造五氟化碘之步驟。利用該方法，可安全且穩定地實現五氟化碘之高速度之生成。
简体摘要：本发明揭示有一种五氟化碘之制造方法，其包括：对于具有包含碘之液相之五氟化碘之反应槽中供给七氟化碘气体，使碘与七氟化碘反应，从而制造五氟化碘之步骤。利用该方法，可安全且稳定地实现五氟化碘之高速度之生成。

15. 发明专利

TWI564385B 矽晶圓用洗淨劑有权
简体标题：硅晶圆用洗净剂
公开(公告)号：TWI564385B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW099101652
申请日：2010-01-21
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C11D7/28 , C11D7/32 , H01L21/306
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/30 , C11D7/3209 , C11D11/0064 , C11D11/007 , H01L21/02052

16. 发明专利

TWI558720B 具有２價陰離子之醯亞胺酸化合物及其製造方法有权
简体标题：具有２价阴离子之酰亚胺酸化合物及其制造方法
公开(公告)号：TWI558720B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW104140197
申请日：2015-12-01
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：森中孝敬 , MORINAKA, TAKAYOSHI , 久保誠 , KUBO, MAKOTO , 河端渉 , KAWABATA, WATARU , 山本建太 , YAMAMOTO, KENTA , 森高 , MORI, TAKASHI , 新免益隆 , SHINMEN, MASUTAKA , 松崎寬樹 , MATSUZAKI, HIROKI , 近藤良介 , KONDO, RYOSUKE , 高橋幹弘 , TAKAHASHI, MIKIHIRO
IPC分类号： C07F9/26 , C07F9/36 , H01M10/056
CPC分类号： C01B21/097 , B01J27/24 , B01J31/0271 , C01B25/455 , C07C211/63 , C07F9/26 , C09K3/16 , H01G11/62 , H01M6/166 , H01M10/052 , H01M10/054 , H01M10/0568 , H01M2300/0025 , Y02E60/13

17. 发明专利

TWI552984B １,１,１,３,３,３-六氟-三級丁醇之製造方法有权
简体标题：１,１,１,３,３,３-六氟-三级丁醇之制造方法
公开(公告)号：TWI552984B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW104109822
申请日：2015-03-26
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：村川純司 , MURAKAWA, JUNJI , 秋葉進也 , AKIBA, SHINYA , 灘野亮 , NADANO, RYO
IPC分类号： C07C29/88 , C07C31/38
CPC分类号： C07C29/80 , C07C29/88 , C07C31/38

18. 发明专利

TWI552415B 非水電解液電池用電解液、及使用其之非水電解液電池有权
简体标题：非水电解液电池用电解液、及使用其之非水电解液电池
公开(公告)号：TWI552415B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW102119010
申请日：2013-05-29
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：近藤夕季 , KONDO, YUKI , 中原啓太 , NAKAHARA, KEITA , 村本敏志 , MURAMOTO, SATOSHI , 森中孝敬 , MORINAKA, TAKAYOSHI
IPC分类号： H01M10/056 , H01M10/052
CPC分类号： H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0561 , H01M10/0567 , H01M2300/0025 , Y02T10/7011

19. 发明专利

TW201629075A 非水電解液電池用電解液及使用其之非水電解液電池审中-公开
简体标题：非水电解液电池用电解液及使用其之非水电解液电池
公开(公告)号：TW201629075A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104140196
申请日：2015-12-01
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：森中孝敬 , MORINAKA, TAKAYOSHI , 久保誠 , KUBO, MAKOTO , 河端渉 , KAWABATA, WATARU , 山本建太 , YAMAMOTO, KENTA , 高橋幹弘 , TAKAHASHI, MIKIHIRO
IPC分类号： C07F9/24 , C07F9/36 , C07C307/02 , H01M10/056
CPC分类号： H01M10/052 , H01M10/054 , H01M10/0563 , H01M10/0567 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/002 , Y02E60/122 , Y02T10/7011
摘要：本發明提供一種可發揮-30℃以下之優異之低溫輸出特性或45℃以上之高溫下之優異之循環特性之非水電解液電池用電解液。本發明之非水電解液電池用電解液例如含有具有如下述之二價醯亞胺陰離子之鹽。式中，R1~R3例如為氟原子、烷氧基等，M1、M2例如為質子、金屬陽離子。
简体摘要：本发明提供一种可发挥-30℃以下之优异之低温输出特性或45℃以上之高温下之优异之循环特性之非水电解液电池用电解液。本发明之非水电解液电池用电解液例如含有具有如下述之二价酰亚胺阴离子之盐。式中，R1~R3例如为氟原子、烷氧基等，M1、M2例如为质子、金属阳离子。

20. 发明专利

TW201627314A 具有２價陰離子之醯亞胺酸化合物及其製造方法审中-公开
简体标题：具有２价阴离子之酰亚胺酸化合物及其制造方法
公开(公告)号：TW201627314A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104140197
申请日：2015-12-01
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：森中孝敬 , MORINAKA, TAKAYOSHI , 久保誠 , KUBO, MAKOTO , 河端渉 , KAWABATA, WATARU , 山本建太 , YAMAMOTO, KENTA , 森高 , MORI, TAKASHI , 新免益隆 , SHINMEN, MASUTAKA , 松崎寬樹 , MATSUZAKI, HIROKI , 近藤良介 , KONDO, RYOSUKE , 高橋幹弘 , TAKAHASHI, MIKIHIRO
IPC分类号： C07F9/26 , C07F9/36 , H01M10/056
CPC分类号： C01B21/097 , B01J27/24 , B01J31/0271 , C01B25/455 , C07C211/63 , C07F9/26 , C09K3/16 , H01G11/62 , H01M6/166 , H01M10/052 , H01M10/054 , H01M10/0568 , H01M2300/0025 , Y02E60/13
摘要：本發明提供一種作為醫藥之中間物、農藥之中間物、酸觸媒、電池電解質、抗靜電劑有用之具有2價陰離子之新穎醯亞胺酸化合物。本發明之醯亞胺酸化合物係下述通式(1)或(2)所表示之2價醯亞胺酸化合物。 [式(1)及(2)中，R1~R3為選自氟原子、碳數為1~10之直鏈或支鏈狀之烷氧基、碳數為2~10之烯氧基、碳數為2~10之炔氧基、碳數為3~10之環烷氧基、碳數為3~10之環烯氧基、及碳數為6~10之芳氧基之有機基，且於該有機基中亦可存在氟原子、氧原子或不飽和鍵；M1及M2為質子、金屬陽離子或鎓陽離子]
简体摘要：本发明提供一种作为医药之中间物、农药之中间物、酸触媒、电池电解质、抗静电剂有用之具有2价阴离子之新颖酰亚胺酸化合物。本发明之酰亚胺酸化合物系下述通式(1)或(2)所表示之2价酰亚胺酸化合物。 [式(1)及(2)中，R1~R3为选自氟原子、碳数为1~10之直链或支链状之烷氧基、碳数为2~10之烯氧基、碳数为2~10之炔氧基、碳数为3~10之环烷氧基、碳数为3~10之环烯氧基、及碳数为6~10之芳氧基之有机基，且于该有机基中亦可存在氟原子、氧原子或不饱和键；M1及M2为质子、金属阳离子或鎓阳离子]

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