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11. 发明专利

TWI667138B 蒸鍍遮罩、圖案之製造方法、有機半導體元件的製造方法有权
简体标题：蒸镀遮罩、图案之制造方法、有机半导体组件的制造方法
公开(公告)号：TWI667138B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107104773
申请日：2013-01-11
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：廣部吉紀 , HIROBE, YOSHINORI , 松元豊 , MATSUMOTO, YUTAKA , 牛草昌人 , USHIKUSA, MASATO , 武田利彥 , TAKEDA, TOSHIHIKO , 西村祐行 , NISHIMURA, HIROYUKI , 小幡勝也 , OBATA, KATSUNARI , 竹腰敬 , TAKEKOSHI, TAKASHI
IPC分类号： B32B3/24 , B32B15/08 , C23C14/04 , C23C14/24 , H05B33/10 , H01L51/50

12. 发明专利

TW201920810A 熱轉印圖像接收片及印刷品之製造方法审中-公开
简体标题：热转印图像接收片及印刷品之制造方法
公开(公告)号：TW201920810A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107125991
申请日：2018-07-27
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：龝山祐作 , AKIYAMA, YUSAKU , 森繁太 , MORI, SHIGETA
IPC分类号： D21H19/38 , D21H19/60 , D21H19/82
摘要：本發明之課題在於提供可得到具有珍珠色調的創意性之印刷品之熱轉印圖像接收片和印刷品之製造方法。本發明之解決手段係於支撐體(1)的一面上設置有僅由接收層(2)所構成之1層或包含接收層(2)之2層以上的層，且前述接收層(2)位於最表面之熱轉印圖像接收片(100)，構成前述熱轉印圖像接收片之任一層含有無機顏料，在以入射角45°使光入射於前述接收層側的表面時，相對於該光之入射光的正反射角之感光角110°與15°的ΔL*為25以上50以下。
简体摘要：本发明之课题在于提供可得到具有珍珠色调的创意性之印刷品之热转印图像接收片和印刷品之制造方法。本发明之解决手段系于支撑体(1)的一面上设置有仅由接收层(2)所构成之1层或包含接收层(2)之2层以上的层，且前述接收层(2)位于最表面之热转印图像接收片(100)，构成前述热转印图像接收片之任一层含有无机颜料，在以入射角45°使光入射于前述接收层侧的表面时，相对于该光之入射光的正反射角之感光角110°与15°的ΔL*为25以上50以下。

13. 发明专利

TW201920721A 附框架蒸鍍遮罩之製造方法、拉張裝置、有機半導體元件之製造裝置及有機半導體元件之製造方法审中-公开
简体标题：附框架蒸镀遮罩之制造方法、拉张设备、有机半导体组件之制造设备及有机半导体组件之制造方法
公开(公告)号：TW201920721A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107140870
申请日：2014-12-26
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：小幡勝也 , OBATA,KATSUNARI , 武田利彦 , TAKEDA,TOSHIHIKO , 本間良幸 , HONMA,YOSHIYUKI , 岡本英介 , OKAMOTO,HIDEYUKI
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , H01L51/00 , H01L51/56
摘要：提供一種將對於「扭曲」作了抑制的蒸鍍遮罩固定於框架上之附框架蒸鍍遮罩，並提供一種能夠以良好精確度來製造有機半導體元件之有機半導體元件之製造裝置和有機半導體元件之製造方法，並且提供一種能夠對於在將蒸鍍遮罩作拉張時所產生的「扭曲」作抑制之拉張裝置。在附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係包含有：準備由被形成有細縫(15)之金屬遮罩(10)和被形成有與蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部(25)的樹脂遮罩(20)之兩者層積所成的蒸鍍遮罩(100)之準備工程；和藉由保持構件(80)來保持在準備工程中所準備的蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由保持構件(80)所保持的蒸鍍遮罩(100)朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張之拉張工程；和在拉張工程之後，將被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架(60)處之固定工程，在拉張工程中，係對於被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張蒸鍍遮罩的同時，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。
简体摘要：提供一种将对于“扭曲”作了抑制的蒸镀遮罩固定于框架上之附框架蒸镀遮罩，并提供一种能够以良好精确度来制造有机半导体组件之有机半导体组件之制造设备和有机半导体组件之制造方法，并且提供一种能够对于在将蒸镀遮罩作拉张时所产生的“扭曲”作抑制之拉张设备。在附框架蒸镀遮罩之制造方法中，系包含有：准备由被形成有细缝(15)之金属遮罩(10)和被形成有与蒸镀制作于和该细缝相重叠之位置处的图案相对应之开口部(25)的树脂遮罩(20)之两者层积所成的蒸镀遮罩(100)之准备工程；和借由保持构件(80)来保持在准备工程中所准备的蒸镀遮罩之一部分，并将借由保持构件(80)所保持的蒸镀遮罩(100)朝向该蒸镀遮罩之外侧来作拉张之拉张工程；和在拉张工程之后，将被拉张后的状态下之蒸镀遮罩固定于被形成有贯通孔之框架(60)处之固定工程，在拉张工程中，系对于被拉张后的状态之蒸镀遮罩、或者是拉张蒸镀遮罩的同时，而进行该蒸镀遮罩之旋转调整以及移动调整的其中一方或者是双方之调整。

14. 发明专利

TW201920373A 膜、聚醯亞胺膜、積層體、顯示器用構件、觸摸面板構件、液晶顯示裝置、及有機電致發光顯示裝置审中-公开
简体标题：膜、聚酰亚胺膜、积层体、显示器用构件、触摸皮肤构件、液晶显示设备、及有机电致发光显示设备
公开(公告)号：TW201920373A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133955
申请日：2018-09-27
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：坂寄勝哉 , SAKAYORI, KATSUYA , 太田貴之 , OTA, TAKAYUKI , 岡田滉大 , OKADA, KOUDAI , 金澤奈保美 , KANAZAWA, NAHOMI , 小林義弘 , KOBAYASHI, YOSHIHIRO , 勝又綾 , KATSUMATA, AYA , 古瀬綾子 , FURUSE, AYAKO , 前田高徳 , MAEDA, TAKANORI , 脇田敬輔 , WAKITA, KEISUKE
IPC分类号： C08G73/10 , C08J5/18 , B32B27/28 , B32B33/00 , G06F3/041 , G02F1/1335 , H01L27/32 , G02F1/061
摘要：一種膜，該膜藉由依據JIS K7127之拉伸測試所得到的應力－應變曲線於降伏點之應變為8％以上，拉伸彈性模數為1.8GPa以上，依據JIS K7361－1測量之總透光率為85％以上，依據JIS K7373－2006算出之黃度為5以下。
简体摘要：一种膜，该膜借由依据JIS K7127之拉伸测试所得到的应力－应变曲线于降伏点之应变为8％以上，拉伸弹性模数为1.8GPa以上，依据JIS K7361－1测量之总透光率为85％以上，依据JIS K7373－2006算出之黄度为5以下。

15. 发明专利

TW201919960A 液體收納容器、液體收納容器的使用方法以及液體收納容器與外裝容器的組合體审中-公开
简体标题：液体收纳容器、液体收纳容器的使用方法以及液体收纳容器与外装容器的组合体
公开(公告)号：TW201919960A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107120465
申请日：2018-06-14
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：阿部智恵 , ABE, TOMOE , 高垣李子 , TAKAGAKI, MOMOKO , 古賀亮祐 , KOGA, RYOSUKE
IPC分类号： B65D77/06
摘要： [課題]在長方體狀的箱型外裝容器內，使經折疊的液體收納容器配合外裝容器內面而膨脹。　　[解決手段]液體收納容器(1)係具備有：具有第1基材部(2A)、第2基材部(2B)、及角撐部(2C)的袋本體(3)；及注出口(40)。在袋本體(3)的底部(3B)形成有以底緣接合部(10b)為中心的矩形狀底面(30)。此外，在袋本體(3)的上部(3A)形成有以上緣接合部(10a)為中心的矩形狀上面(35)。底面(30)及上面(35)係藉由第1固定膠帶(31)、第3固定膠帶(32)、第2固定膠帶(36)、及第4固定膠帶(37)予以固定而維持其形狀。
简体摘要： [课题]在长方体状的箱型外装容器内，使经折叠的液体收纳容器配合外装容器内面而膨胀。　　[解决手段]液体收纳容器(1)系具备有：具有第1基材部(2A)、第2基材部(2B)、及角撑部(2C)的袋本体(3)；及注出口(40)。在袋本体(3)的底部(3B)形成有以底缘接合部(10b)为中心的矩形状底面(30)。此外，在袋本体(3)的上部(3A)形成有以上缘接合部(10a)为中心的矩形状上面(35)。底面(30)及上面(35)系借由第1固定胶带(31)、第3固定胶带(32)、第2固定胶带(36)、及第4固定胶带(37)予以固定而维持其形状。

16. 发明专利

TWI647098B 覆蓋玻璃、附覆蓋玻璃之顯示裝置、以及覆蓋玻璃之製造方法有权
简体标题：覆盖玻璃、附覆盖玻璃之显示设备、以及覆盖玻璃之制造方法
公开(公告)号：TWI647098B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW104104748
申请日：2015-02-12
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：江森諭 , EMORI, SATOSHI , 中澤伸介 , NAKAZAWA, SHINSUKE , 內田章悅 , UCHIDA, AKIYOSHI , 竹腰敬 , TAKEKOSHI, TAKASHI
IPC分类号： B32B17/00 , B32B7/02 , G06F3/041

17. 发明专利

TWI643234B 包含帶電粒子束照射位置的校正程式的電腦程式產品、帶電粒子束照射位置的校正量運算裝置、帶電粒子束照射系統、帶電粒子束照射位置的校正方法有权
简体标题：包含带电粒子束照射位置的校正进程的电脑进程产品、带电粒子束照射位置的校正量运算设备、带电粒子束照射系统、带电粒子束照射位置的校正方法
公开(公告)号：TWI643234B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW103109676
申请日：2014-03-14
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：大川洋平 , OOKAWA, YOHEI , 小澤英則 , OZAWA, HIDENORI
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317

18. 发明专利

TWI642977B 全息圖、光透射性反射板、螢幕及投影系統有权
简体标题：全息图、光透射性反射板、屏幕及投影系统
公开(公告)号：TWI642977B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW104117934
申请日：2015-06-03
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：北村滿 , KITAMURA, MITSURU , 塚田大 , TSUKADA, DAI
IPC分类号： G02B5/32 , G03B21/60 , G03B21/606 , G03B21/62 , G03H1/08

19. 发明专利

TW201842434A 觸控面板筆用書寫性構件之選擇方法、觸控面板系統、觸控面板筆用書寫性構件、觸控面板及顯示裝置审中-公开
简体标题：触摸皮肤笔用书写性构件之选择方法、触摸皮肤系统、触摸皮肤笔用书写性构件、触摸皮肤及显示设备
公开(公告)号：TW201842434A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107104219
申请日：2018-02-05
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：田谷周望 , TAYA, SHUBOU , 小川智洋 , OGAWA, TOMOHIRO , 高山陽亮 , TAKAYAMA, YOSUKE , 辻本淳 , TSUJIMOTO, JUN , 古井玄 , FURUI, GEN
IPC分类号： G06F3/0354
摘要：提供一種觸控面板筆用書寫性構件之選擇方法，其可使書寫性構件之製品設計、品質管理變得效率良好。一種觸控面板筆用書寫性構件之選擇方法，其選擇滿足下述條件A1-1者作為觸控面板筆用書寫性構件。將觸控面板筆於以60度之角度接觸於觸控面板筆用書寫性構件之表面的狀態下固定，一面對上述觸控面板筆施加垂直荷重100gf，一面使上述觸控面板筆用書寫性構件以14mm/秒之速度移動單程40mm之長度，以0.001秒間隔測量該移動時對上述觸控面板筆施加之上述移動方向的動摩擦力，算出每0.001秒之動摩擦力的平均。進一步，於上述觸控面板筆用書寫性構件之單程40mm之長度的移動完成後，保持對上述觸控面板筆施加之垂直荷重100gf，維持使上述觸控面板筆以60度之角度接觸於上述觸控面板筆用書寫性構件之表面的狀態。於該狀態下，以0.001秒間隔測量對上述觸控面板筆施加之上述移動方向之殘留摩擦力，算出每0.001秒之殘留摩擦力的平均。上述動摩擦力之平均與上述殘留摩擦力之平均顯示出「0.45
简体摘要：提供一种触摸皮肤笔用书写性构件之选择方法，其可使书写性构件之制品设计、品质管理变得效率良好。一种触摸皮肤笔用书写性构件之选择方法，其选择满足下述条件A1-1者作为触摸皮肤笔用书写性构件。 <条件A1-1> 将触摸皮肤笔于以60度之角度接触于触摸皮肤笔用书写性构件之表面的状态下固定，一面对上述触摸皮肤笔施加垂直荷重100gf，一面使上述触摸皮肤笔用书写性构件以14mm/秒之速度移动单程40mm之长度，以0.001秒间隔测量该移动时对上述触摸皮肤笔施加之上述移动方向的动摩擦力，算出每0.001秒之动摩擦力的平均。进一步，于上述触摸皮肤笔用书写性构件之单程40mm之长度的移动完成后，保持对上述触摸皮肤笔施加之垂直荷重100gf，维持使上述触摸皮肤笔以60度之角度接触于上述触摸皮肤笔用书写性构件之表面的状态。于该状态下，以0.001秒间隔测量对上述触摸皮肤笔施加之上述移动方向之残留摩擦力，算出每0.001秒之残留摩擦力的平均。上述动摩擦力之平均与上述残留摩擦力之平均显示出“0.45<残留摩擦力之平均/动摩擦力之平均”之关系。

20. 发明专利

TWI642049B 影像處理裝置、顯示裝置以及影像處理方法及影像處理用程式有权
简体标题：影像处理设备、显示设备以及影像处理方法及影像处理用进程
公开(公告)号：TWI642049B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW103121543
申请日：2014-06-23
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：荒金邦明 , ARAGANE, KUNIAKI , 增田健二 , MASUDA, KENJI , 松村健一 , MATSUMURA, KENICHI
IPC分类号： G09G5/02 , G09G3/32

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