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    • 167. 发明专利
    • 殺黴菌混合物
    • 杀霉菌混合物
    • TW529909B
    • 2003-05-01
    • TW088121485
    • 1999-12-08
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 克勞士雪柏格瑪莉亞雪兒倫哈德劭爾喬瑟夫艾佩爾喬奇姆萊楊德克伊柏哈德艾莫曼湯瑪士格羅特吉瑟拉羅倫茲西佛瑞德史屈斯曼
    • A01N
    • A01N47/24A01N43/42A01N43/40A01N43/84A01N43/653A01N2300/00
    • 一種殺黴菌混合物,其包含協同有效量之以下作為活性成份
      a)式I之化合物其N-氧化物或一種其鹽,其中: R1,R2,R3,R4彼此獨立地為:氫,羥基,硝基,鹵素, C1-C4-烷基,C1-C4-鹵烷基,C1-C4-烷氧基,C1-C4-鹵烷氧基,C1-C4-烷硫基,C1-C4-鹵烷硫基; R5,R6,R7彼此獨立地為:氫,羥基,氰基,硝基,鹵素, C1-C7-烷基,C1-C7-鹵烷基,C1-C7-烷氧基,C1-C7-鹵烷氧基,C1-C7-烷硫基,C1-C7-鹵烷硫基,C1-C7-羥烷基,C2-C4-醯基,醯基,芳基,芳氧基,其中具芳基之基團部份可載以下之一至三個基;氰基,硝基,鹵素,C1-C4-烷基, C1-C4-鹵烷基,C1-C4-烷氧基,C1-C4-鹵烷氧基,與C1-C4-烷硫基,C1-C4-鹵烷硫基;及
      b)式II之胺甲酸酯其中T為CH或N,n為0,1或2,及R為鹵素 ,C1-C4-烷基或 C1-C4-鹵烷基 ,其中如果n為2,基團R可為不同的。
    • 一种杀霉菌混合物,其包含协同有效量之以下作为活性成份 a)式I之化合物其N-氧化物或一种其盐,其中: R1,R2,R3,R4彼此独立地为:氢,羟基,硝基,卤素, C1-C4-烷基,C1-C4-卤烷基,C1-C4-烷氧基,C1-C4-卤烷氧基,C1-C4-烷硫基,C1-C4-卤烷硫基; R5,R6,R7彼此独立地为:氢,羟基,氰基,硝基,卤素, C1-C7-烷基,C1-C7-卤烷基,C1-C7-烷氧基,C1-C7-卤烷氧基,C1-C7-烷硫基,C1-C7-卤烷硫基,C1-C7-羟烷基,C2-C4-酰基,酰基,芳基,芳氧基,其中具芳基之基团部份可载以下之一至三个基;氰基,硝基,卤素,C1-C4-烷基, C1-C4-卤烷基,C1-C4-烷氧基,C1-C4-卤烷氧基,与C1-C4-烷硫基,C1-C4-卤烷硫基;及 b)式II之胺甲酸酯其中T为CH或N,n为0,1或2,及R为卤素 ,C1-C4-烷基或 C1-C4-卤烷基 ,其中如果n为2,基团R可为不同的。
    • 168. 发明专利
    • 啶–2,3–二羧酸二醯胺衍生物及包含該衍生物作為活性成分之除草劑
    • 啶–2,3–二羧酸二酰胺衍生物及包含该衍生物作为活性成分之除草剂
    • TW366261B
    • 1999-08-11
    • TW086103851
    • 1997-03-26
    • 日本農藥股份有限公司
    • 三浦友三大塚隆勝平健遠西正範
    • A01NC07D
    • C07D213/82A01N43/40A01N43/42C07D213/89C07D405/12
    • 本發明係提供一種由下式(I)所代表之啶-2,3-二羧酸二醯胺衍生物以及含有該衍生物作為活性成分之除草劑:
      CC (I)〔式中R1代表1至3個如鹵素,氰基,硝基,(鹵代)烷基,(鹵代)烷氧基,(鹵代)烷硫基,(C3-6)環烷基,烯基,炔基,被取代之苯基,被取代之苯氧基等取代基而R1代表與鄰近碳原子一起之烷撐或鏈烯基;R2代表H,鹵素,氰基,硝基,(鹵代)烷基或(鹵代)烷氧基;R3代表H或烷基;R4和R5各代表H,(鹵代)烷基,環烷基,被取代之環烷基烷基等;而n為0或1之整數〕。
      本化合物對於控制稻田雜草等顯示有優異之效果。
    • 本发明系提供一种由下式(I)所代表之啶-2,3-二羧酸二酰胺衍生物以及含有该衍生物作为活性成分之除草剂: CC (I)〔式中R1代表1至3个如卤素,氰基,硝基,(卤代)烷基,(卤代)烷氧基,(卤代)烷硫基,(C3-6)环烷基,烯基,炔基,被取代之苯基,被取代之苯氧基等取代基而R1代表与邻近碳原子一起之烷撑或链烯基;R2代表H,卤素,氰基,硝基,(卤代)烷基或(卤代)烷氧基;R3代表H或烷基;R4和R5各代表H,(卤代)烷基,环烷基,被取代之环烷基烷基等;而n为0或1之整数〕。 本化合物对于控制稻田杂草等显示有优异之效果。
    • 169. 发明专利
    • 殺真菌劑混合物
    • 杀真菌剂混合物
    • TW345488B
    • 1998-11-21
    • TW084113292
    • 1995-12-13
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 卡爾.伊肯休伯特.索特吉西拉.洛倫茲艾伯哈德艾默曼赫伯特拜爾歐利佛.華格納
    • A01NA01P
    • A01N43/42A01N43/653A01N43/54A01N43/36A01N37/50A01N2300/00
    • 一種殺真菌劑混合物,其中包含: a)式I化合物$$
      (I)其N-氧化物或其鹽類,其中基團定義如下: R1,R2,R3及R4為氫,羥基,硝基,鹵素,烷基,鹵烷基,烷氧基,鹵烷氧基,烷硫基,鹵烷硫基; R5,R6,R7為氫,羥基,氰基,硝基,鹵素,烷基,鹵烷基,烷氧基,鹵烷氧基,烷硫基,鹵烷硫基,羥基烷基,醯基,芳基或芳氧基, b)式II化合物,$$
      (II)其中基團定義如下: R8為可於其上連接一至三個下列基團之苯基:氰基,鹵素,烷基,鹵烷基及烷氧基,或可於其上連接烷基及/或苯氧基之嘧啶基;A為氧或氧基亞甲基(-OCH2-);X為CH或N;Y為氧或NR,其中R為氫,烷基或烷氧基,或 c)式III嘧啶衍生物$$
      (III)或其鹽,其中基團R9為甲基,丙炔-l基或環丙基,或 d)(2RS,3SR)-1-[3-(2-氯苯基)-2-(4-氟苯基)環氧
      乙烷-2-基甲基]-1H-1,2,4-三唑(IV)$$
      (IV)或 e)或V化合物$$
      (V)其中基團定義如下: R10為氟或氯; Rll為三氟甲基或氯,或 Rl0及R11共同組成-OCF2O-基團,其為具協同活性量。
    • 一种杀真菌剂混合物,其中包含: a)式I化合物$$ (I)其N-氧化物或其盐类,其中基团定义如下: R1,R2,R3及R4为氢,羟基,硝基,卤素,烷基,卤烷基,烷氧基,卤烷氧基,烷硫基,卤烷硫基; R5,R6,R7为氢,羟基,氰基,硝基,卤素,烷基,卤烷基,烷氧基,卤烷氧基,烷硫基,卤烷硫基,羟基烷基,酰基,芳基或芳氧基, b)式II化合物,$$ (II)其中基团定义如下: R8为可于其上连接一至三个下列基团之苯基:氰基,卤素,烷基,卤烷基及烷氧基,或可于其上连接烷基及/或苯氧基之嘧啶基;A为氧或氧基亚甲基(-OCH2-);X为CH或N;Y为氧或NR,其中R为氢,烷基或烷氧基,或 c)式III嘧啶衍生物$$ (III)或其盐,其中基团R9为甲基,丙炔-l基或环丙基,或 d)(2RS,3SR)-1-[3-(2-氯苯基)-2-(4-氟苯基)环氧 乙烷-2-基甲基]-1H-1,2,4-三唑(IV)$$ (IV)或 e)或V化合物$$ (V)其中基团定义如下: R10为氟或氯; Rll为三氟甲基或氯,或 Rl0及R11共同组成-OCF2O-基团,其为具协同活性量。
    • 170. 发明专利
    • 用於控制及預防植物致病性真菌之化合物、其製備方法及含該化合物之組成物
    • 用于控制及预防植物致病性真菌之化合物、其制备方法及含该化合物之组成物
    • TW334337B
    • 1998-06-21
    • TW084110636
    • 1995-10-09
    • 諾華公司
    • 哈拉.瓦特威納.山巴赫
    • A01NA01PC07D
    • C07D213/75A01N43/40A01N43/42A01N43/54C07D215/42C07D405/12C07D409/12
    • 用於控制及預防植物致病性真菌之化合物、
      其製備方法及含該化合物之組成物
      式I化合物,或其互變構物體,於游離形式或於形式$$ I I,其中 R1和R2分別為C1-C6烷基或鹵素;或 R1和R2一起成為未經取代或經鹵素取代之苯環; R3和R4為氫; R5為氫;X為(CH2)n; n為1或2;Y為具下式之基$$ I其中Z為未經取代或經硝基,鹵素,C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,或鹵素-C1-C4烷基取代之苯基;或Z為嘧啶基,基,氫基,鹵素氫基或苯并環庚基;或Y為具下式之基$$ I其中Z為鹵素苯基;或Y為基,四氫基,氫基,苯并環庚基,苯并吩基,C1-C4烷基苯并吩基,鹵素苯并吩基,C1-C4烷基-鹵素-苯并吩基,苯并喃基,二氫苯并喃基,苯并二烷基,苯并二茂基(benzodioxoyl),苯并二氫喃基或基(thiaantracenyl);為殺蟲化合物。該等化合物可作為控制有害生物,特別是如農業,園藝上及在衛生戰區之殺微生物劑,殺蟲劑和殺劑。
    • 用于控制及预防植物致病性真菌之化合物、 其制备方法及含该化合物之组成物 式I化合物,或其互变构物体,于游离形式或于形式$$ I I,其中 R1和R2分别为C1-C6烷基或卤素;或 R1和R2一起成为未经取代或经卤素取代之苯环; R3和R4为氢; R5为氢;X为(CH2)n; n为1或2;Y为具下式之基$$ I其中Z为未经取代或经硝基,卤素,C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,或卤素-C1-C4烷基取代之苯基;或Z为嘧啶基,基,氢基,卤素氢基或苯并环庚基;或Y为具下式之基$$ I其中Z为卤素苯基;或Y为基,四氢基,氢基,苯并环庚基,苯并吩基,C1-C4烷基苯并吩基,卤素苯并吩基,C1-C4烷基-卤素-苯并吩基,苯并喃基,二氢苯并喃基,苯并二烷基,苯并二茂基(benzodioxoyl),苯并二氢喃基或基(thiaantracenyl);为杀虫化合物。该等化合物可作为控制有害生物,特别是如农业,园艺上及在卫生战区之杀微生物剂,杀虫剂和杀剂。