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141. 发明专利

TWI308672B 直接寫入微影系統使用固定尺寸圖素來產生可變間距巢形線及/或接觸孔的方法 METHOD FOR THE GENERATION OF VARIABLE PITCH NESTED LINES AND/OR CONTACT HOLES USING FIXED SIZE PIXELS FOR DIRECT-WRITE LITHOGRAPHIC SYSTEMS 有权
简体标题：直接写入微影系统使用固定尺寸图素来产生可变间距巢形线及/或接触孔的方法 METHOD FOR THE GENERATION OF VARIABLE PITCH NESTED LINES AND/OR CONTACT HOLES USING FIXED SIZE PIXELS FOR DIRECT-WRITE LITHOGRAPHIC SYSTEMS
公开(公告)号：TWI308672B
公开(公告)日：2009-04-11
申请号：TW093113474
申请日：2004-05-13
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：納畢拉巴巴阿里 BABA-ALI, NABILA
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70433
摘要：所提供者為一用來顯影一微影遮罩佈局之方法及系統,此微影遮罩佈局係適合用來組構無遮罩微影系統中之一陣列的微鏡子,此方法包含產生代表和想要影像相關之影像特性的理想遮罩佈局,接著,依據理想遮罩佈局的平均强度來生產等效遮罩。
简体摘要：所提供者为一用来显影一微影遮罩布局之方法及系统,此微影遮罩布局系适合用来组构无遮罩微影系统中之一数组的微镜子,此方法包含产生代表和想要影像相关之影像特性的理想遮罩布局,接着,依据理想遮罩布局的平均强度来生产等效遮罩。

142. 发明专利

TW200912268A 利用噴嘴面表面粗糙性增加氣體儀表壓力敏感度 INCREASING GAS GAUGE PRESSURE SENSITIVITY USING NOZZLE-FACE SURFACE ROUGHNESS 审中-公开
简体标题：利用喷嘴面表面粗糙性增加气体仪表压力敏感度 INCREASING GAS GAUGE PRESSURE SENSITIVITY USING NOZZLE-FACE SURFACE ROUGHNESS
公开(公告)号：TW200912268A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097122457
申请日：2008-06-16
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：赫曼沃格 VOGEL, HERMAN
IPC分类号： G01L
CPC分类号： G01B13/12
摘要：本發明揭示一種用於感測至一物體之距離之氣體儀表,其包含一氣體供應系統,及一噴嘴,該噴嘴將該氣體從該氣體供應系統供應至該噴嘴與該物體間的一空間。例如,該氣體供應系統以一對應於層狀流與擾動流間之一轉變區中的一流之流速率供應該氣體。可將該噴嘴的一表面粗糙化,因而增加橫跨該表面的一摩擦因數,其增加氣體壓力降及同時該噴嘴的一增益。由增加之流速率所產生之噪音可使用一或多個策略性地放置之亥姆霍茲(Helmholtz)衰減器及/或減震器加以衰減。
简体摘要：本发明揭示一种用于传感至一物体之距离之气体仪表,其包含一气体供应系统,及一喷嘴,该喷嘴将该气体从该气体供应系统供应至该喷嘴与该物体间的一空间。例如,该气体供应系统以一对应于层状流与扰动流间之一转变区中的一流之流速率供应该气体。可将该喷嘴的一表面粗糙化,因而增加横跨该表面的一摩擦因子,其增加气体压力降及同时该喷嘴的一增益。由增加之流速率所产生之噪音可使用一或多个策略性地放置之亥姆霍兹(Helmholtz)衰减器及/或减震器加以衰减。

143. 发明专利

TWI296737B 無遮罩光學寫入器 MASKLESS OPTICAL WRITER 有权
简体标题：无遮罩光学写入器 MASKLESS OPTICAL WRITER
公开(公告)号：TWI296737B
公开(公告)日：2008-05-11
申请号：TW094100282
申请日：2005-01-05
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：海瑞希威爾 SEWELL, HARRY O.
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70566 , A61B6/4435 , G03F7/70283 , G03F7/70291
摘要：一種用於微影術之無遮罩圖案產生系統包含：一光源，其產生一光束、一可編程圖案產生器，其係根據一控制信號輸入以產生一來自該光束之圖案影像、及一控制器，用以根據提供至控制器之圖案資訊以提供控制信號輸入至可編程圖案產生器。控制信號輸入指示可編程圖案產生器以設定相應於一像素陣列中之個別像素的個別電壓位準，其中每一該等個別的電壓位準係相應於一指定給一特定個別像素之灰階位準。設定個別電壓位準提供所得圖案影像光束之一相位偏程，以容許可編程圖案產生器作用為一相位偏移遮罩。此無遮罩圖案寫入系統作用為一控制圖案影像之光閥，以像素接像素之基礎，以供直接寫入圖案之目的。
简体摘要：一种用于微影术之无遮罩图案产生系统包含：一光源，其产生一光束、一可编程图案产生器，其系根据一控制信号输入以产生一来自该光束之图案影像、及一控制器，用以根据提供至控制器之图案信息以提供控制信号输入至可编程图案产生器。控制信号输入指示可编程图案产生器以设置相应于一像素数组中之个别像素的个别电压位准，其中每一该等个别的电压位准系相应于一指定给一特定个别像素之灰阶位准。设置个别电压位准提供所得图案影像光束之一相位偏程，以容许可编程图案产生器作用为一相位偏移遮罩。此无遮罩图案写入系统作用为一控制图案影像之光阀，以像素接像素之基础，以供直接写入图案之目的。

144. 发明专利

TW200807182A 諧振掃描鏡 RESONANT SCANNING MIRROR 审中-公开
简体标题：谐振扫描镜 RESONANT SCANNING MIRROR
公开(公告)号：TW200807182A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096121666
申请日：2007-06-15
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：珊提亞哥E. 戴爾普爾托 DEL PUERTO, SANTIAGO E.
IPC分类号： G03F , G03B
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70041 , G03F7/70425
摘要：本發明揭式一種允許一更有效的同步掃描鏡(SSM)之系統及方法。一微影設備包含一照明系統、一圖案化裝置、一基板台及一投影系統。該照明系統調節從一輻射源接收之一以一第一頻率進行操作的輻射光束。該圖案化裝置將該光束圖案化。該基板台支撐並以一掃描速率掃描一基板。該投影系統包括一掃描裝置,該掃描裝置包括一反射裝置與複數個彎曲部分。該複數個彎曲部分經組態用以允許該反射裝置關於一旋轉軸而諧振。該掃描裝置經組態用以將該圖案化的光束掃描至該基板之一目標區域上。該掃描裝置之諧振頻率實質上等於第一頻率而且與該掃描速率同步。
简体摘要：本发明揭式一种允许一更有效的同步扫描镜(SSM)之系统及方法。一微影设备包含一照明系统、一图案化设备、一基板台及一投影系统。该照明系统调节从一辐射源接收之一以一第一频率进行操作的辐射光束。该图案化设备将该光束图案化。该基板台支撑并以一扫描速率扫描一基板。该投影系统包括一扫描设备,该扫描设备包括一反射设备与复数个弯曲部分。该复数个弯曲部分经组态用以允许该反射设备关于一旋转轴而谐振。该扫描设备经组态用以将该图案化的光束扫描至该基板之一目标区域上。该扫描设备之谐振频率实质上等于第一频率而且与该扫描速率同步。

145. 发明专利

TWI288863B 微影系統中用於可變偏振控制之方法與設備 METHOD AND APPARATUS FOR VARIABLE POLARIZATION CONTROL IN A LITHOGRAPHY SYSTEM 失效
简体标题：微影系统中用于可变偏振控制之方法与设备 METHOD AND APPARATUS FOR VARIABLE POLARIZATION CONTROL IN A LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TWI288863B
公开(公告)日：2007-10-21
申请号：TW094137126
申请日：2005-10-24
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：馬修麥卡西 MCCARTHY, MATTHEW
IPC分类号： G03F , G03B
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B27/286 , G03F7/70191 , G03F7/70566
摘要：一種用於微影系統中之偏振控制裝置，用以選擇地偏振光於水平、垂直及/或圓形指向。一對相對可旋轉的四分之一波片移動以提供想要的偏振。當該對四分之一波片呈相對45度角時，偏振為圓形。當該對四分之一波片均為零度或45度時，所得之偏振為垂直或水平。偏振係基於予以投影的影像的指向加以選擇。水平偏振較佳用於具有強水平指向的影像，垂直偏振係被選擇用於具有強垂直指向的影像。當影像沒有強的水平或垂直指向時，選擇圓形指向。
简体摘要：一种用于微影系统中之偏振控制设备，用以选择地偏振光于水平、垂直及/或圆形指向。一对相对可旋转的四分之一波片移动以提供想要的偏振。当该对四分之一波片呈相对45度角时，偏振为圆形。当该对四分之一波片均为零度或45度时，所得之偏振为垂直或水平。偏振系基于予以投影的影像的指向加以选择。水平偏振较佳用于具有强水平指向的影像，垂直偏振系被选择用于具有强垂直指向的影像。当影像没有强的水平或垂直指向时，选择圆形指向。

146. 发明专利

TW200736814A 用於變換數値孔徑之光學系統 OPTICAL SYSTEM FOR TRANSFORMING NUMERICAL APERTURE 失效
简体标题：用于变换数値孔径之光学系统 OPTICAL SYSTEM FOR TRANSFORMING NUMERICAL APERTURE
公开(公告)号：TW200736814A
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW096102729
申请日：2007-01-24
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：由利瓦拉狄米斯基 VLADIMIRSKY, YULI , 雷夫拉席考夫 RYZHIKOV, LEV
IPC分类号： G03B , G02B
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70075 , G03F7/70208 , G03F7/70275
摘要：本發明提供一種用以形成具有所要散度及指向性之照明光束的系統及方法。使用一光瞳界定元件及一場界定元件來成形該等照明光束。隨後,使用一光學元件來修正由此等元件產生之光的散度或數値孔徑,該光學元件將該光再成像至與該光瞳界定元件及一場界定元件中的一者或兩者共軛之平面上,或變換由該光瞳界定元件及一場界定元件中的一者或兩者產生之光的一數値孔徑。
简体摘要：本发明提供一种用以形成具有所要散度及指向性之照明光束的系统及方法。使用一光瞳界定组件及一场界定组件来成形该等照明光束。随后,使用一光学组件来修正由此等组件产生之光的散度或数値孔径,该光学组件将该光再成像至与该光瞳界定组件及一场界定组件中的一者或两者共轭之平面上,或变换由该光瞳界定组件及一场界定组件中的一者或两者产生之光的一数値孔径。

147. 发明专利

TW200727090A 照明系統 ILLUMINATION SYSTEM 审中-公开
简体标题：照明系统 ILLUMINATION SYSTEM
公开(公告)号：TW200727090A
公开(公告)日：2007-07-16
申请号：TW095143977
申请日：2006-11-28
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：賈庫巴菲德利克菲索克林哈瑪 KLINKHAMER, JACOB FREDRIK FRISO , 理孚瑞理考夫 RYZHIKOV, LEV , 修伯特維瑟 VISSER, HUIBERT , 史考特庫斯東 COSTON, SCOTT , 艾達裘布 JOOBEUR, ADEL , 亨利喬漢那斯皮楚明克 VINK, HENRI JOHANNES PETRUS , 葉伊慈康斯坦那屈薛瑪 SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH
IPC分类号： G03F , G03B , G02F
CPC分类号： G03F7/70583 , G02B27/0905 , G03F7/70075
摘要：本發明提供一種用於大體均勻化一輻射光束並自該輻射光束中移除至少某些相干性之系統及方法。
简体摘要：本发明提供一种用于大体均匀化一辐射光束并自该辐射光束中移除至少某些相干性之系统及方法。

148. 发明专利

TW200717189A 微影裝置,元件製造方法及其所製成的元件 LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY 审中-公开
简体标题：微影设备,组件制造方法及其所制成的组件 LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY
公开(公告)号：TW200717189A
公开(公告)日：2007-05-01
申请号：TW095134462
申请日：2006-09-18
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：簡傑彼庫特 KUIT, JAN JAAP , 史蒂芬露克司 ROUX, STEPHEN , 彼得契譜 SCHAAP, PETER , 傑佛瑞歐康那 O'CONNOR, GEOFFREY
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70741 , G03F7/7075 , G03F7/70875
摘要：本發明揭示一種經配置以將一圖案自一圖案化結構轉印於一基板上之微影裝置,其包括:一基板固持器,其經組態以固持一基板;及一基板溫度調節器,其經組態以在該基板至該基板固持器之一轉移之前、期間或兩者中調節該基板之一溫度以與該基板固持器之一溫度大體上匹配。此外,本發明提供一種經配置以將一圖案自一圖案化結構轉印於一基板上之微影裝置,其包含:一第一圖案化結構固持器,其經組態以固持一圖案化結構;一圖案化結構溫度調節器,其經組態以在該圖案化結構至該圖案化結構固持器之一轉移之前調節該圖案化結構之一溫度,其中該圖案化結構溫度調節器具備一第二圖案化結構固持器;及至少一系統,其用以熱調節該第一圖案化結構固持器及該第二圖案化結構固持器至大體上相同之溫度。
简体摘要：本发明揭示一种经配置以将一图案自一图案化结构转印于一基板上之微影设备,其包括:一基板固持器,其经组态以固持一基板;及一基板温度调节器,其经组态以在该基板至该基板固持器之一转移之前、期间或两者中调节该基板之一温度以与该基板固持器之一温度大体上匹配。此外,本发明提供一种经配置以将一图案自一图案化结构转印于一基板上之微影设备,其包含:一第一图案化结构固持器,其经组态以固持一图案化结构;一图案化结构温度调节器,其经组态以在该图案化结构至该图案化结构固持器之一转移之前调节该图案化结构之一温度,其中该图案化结构温度调节器具备一第二图案化结构固持器;及至少一系统,其用以热调节该第一图案化结构固持器及该第二图案化结构固持器至大体上相同之温度。

149. 发明专利

TW200707135A 用於無光罩微影蝕刻即時圖案成像及使用計算耦合鏡以達成最佳特徵呈現之方法及系統 METHOD AND SYSTEM FOR MASKLESS LITHOGRAPHY REAL-TIME PATTERN RASTERIZATION AND USING COMPUTATIONALLY COUPLED MIRRORS TO ACHIEVE OPTIMUM FEATURE REPRESENTATION 审中-公开
简体标题：用于无光罩微影蚀刻实时图案成像及使用计算耦合镜以达成最佳特征呈现之方法及系统 METHOD AND SYSTEM FOR MASKLESS LITHOGRAPHY REAL-TIME PATTERN RASTERIZATION AND USING COMPUTATIONALLY COUPLED MIRRORS TO ACHIEVE OPTIMUM FEATURE REPRESENTATION
公开(公告)号：TW200707135A
公开(公告)日：2007-02-16
申请号：TW095121759
申请日：2006-06-16
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：阿吉特M 拉提保微 LATYPOV, AZAT M. , 喬納斯喬可巴斯麥修斯巴賽曼 BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 卡斯季格托斯特 TROOST, KARS ZEGER
IPC分类号： G03F , G02F
CPC分类号： G03F7/70291
摘要：本發明揭示一種用於決定一空間光調變器(SLM)之特定像素調變狀態以將一所需圖案印刷到一基板上的方法及系統。該方法包括選擇該所需圖案之一物面中的至少一超像素,該超像素係由至少兩像素形成。該所需圖案的至少一邊緣在該超像素內與一邊界相交,藉由相對於該超像素之特定斜率與位置參數定義該至少一邊緣。該方法亦包括(i)形成一插値表以將預計算的像素調變狀態製成表;及(ii)依據該插値表決定該等像素中各像素之特定像素調變狀態。亦揭示一種用於提供一空間光調變器(SLM)之方法及系統。該SLM包括複數個鏡,其係構造成用以形成超像素群組。各超像素(i)包括該複數個鏡中的兩或更多鏡;及(ii)係配置成用以僅切換一光像素。可獨立驅動該兩或更多鏡中的各鏡。
简体摘要：本发明揭示一种用于决定一空间光调制器(SLM)之特定像素调制状态以将一所需图案印刷到一基板上的方法及系统。该方法包括选择该所需图案之一物面中的至少一超像素,该超像素系由至少两像素形成。该所需图案的至少一边缘在该超像素内与一边界相交,借由相对于该超像素之特定斜率与位置参数定义该至少一边缘。该方法亦包括(i)形成一插値表以将预计算的像素调制状态制成表;及(ii)依据该插値表决定该等像素中各像素之特定像素调制状态。亦揭示一种用于提供一空间光调制器(SLM)之方法及系统。该SLM包括复数个镜,其系构造成用以形成超像素群组。各超像素(i)包括该复数个镜中的两或更多镜;及(ii)系配置成用以仅切换一光像素。可独立驱动该两或更多镜中的各镜。

150. 发明专利

TW200628996A 微影裝置,器件製造方法,及用於該微影裝置內的一投射元件 LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND A PROJECTION ELEMENT FOR USE IN THE LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
简体标题：微影设备,器件制造方法,及用于该微影设备内的一投射组件 LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND A PROJECTION ELEMENT FOR USE IN THE LITHOGRAPHIC APPARATUS
公开(公告)号：TW200628996A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW094139029
申请日：2005-11-07
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：亞儂真布萊克 BLEEKER, ARON JAN , 多明尼克傑克布斯比崔斯安德利那斯法蘭肯 FRANKEN, DOMINICUS JACOBUS PETRUS ADRIANUS , 尼爾森邁可L. NELSON, MICHAEL L. , 史蒂芬露克司 ROUX, STEPHEN
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70258 , G03F7/70308
摘要：本發明揭示一種微影裝置、一種器件製造方法及一種用於一微影裝置內的投射元件。該微影裝置具有：一輻射系統，其用於提供一脈衝輻射光束；一圖案化器件，其用於給予該光束一圖案以形成一圖案化輻射光束；及一投射系統，其具有一用於將該圖案化光束投射於一基板之一目標部分上的投射元件。該裝置進一步包含一用於移動該投射元件，以用於在該輻射系統之至少一脈衝期間移位投射於該基板上之該圖案化光束的致動器。可完成此，以補償一固持該基板之基板台與該投射系統之一空間影像(aerial image)之間的一位置誤差。該位置誤差可歸因於該微影裝置之框架系統中的機械振動而發生。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备、一种器件制造方法及一种用于一微影设备内的投射组件。该微影设备具有：一辐射系统，其用于提供一脉冲辐射光束；一图案化器件，其用于给予该光束一图案以形成一图案化辐射光束；及一投射系统，其具有一用于将该图案化光束投射于一基板之一目标部分上的投射组件。该设备进一步包含一用于移动该投射组件，以用于在该辐射系统之至少一脉冲期间移位投射于该基板上之该图案化光束的致动器。可完成此，以补偿一固持该基板之基板台与该投射系统之一空间影像(aerial image)之间的一位置误差。该位置误差可归因于该微影设备之框架系统中的机械振动而发生。

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