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131. 发明专利

TWI397949B 製造光滑密實光學薄膜之方法有权
简体标题：制造光滑密实光学薄膜之方法
公开(公告)号：TWI397949B
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW096131183
申请日：2007-08-22
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：格力哈特 , GARY A HART , 羅伯李羅每耳 , ROBERT LEROY MAIER , 王喬 , JUE WANG
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： G02B1/10 , C23C14/22

132. 发明专利

TWI396000B 影像顯示裝置有权
简体标题：影像显示设备
公开(公告)号：TWI396000B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW097112940
申请日：2008-04-09
申请人：索尼化學&信息部件股份有限公司 , SONY CHEMICAL & INFORMATION DEVICE CORPORATION
发明人：豐田倫由紀 , TOYODA, TOMOYUKI , 新家由久 , SHINYA, YOSHIHISA , 鎌田勇介 , KAMATA, YUSUKE
IPC分类号： G02F1/1333
CPC分类号： G02F1/133308 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/14 , G02F2001/133311 , G02F2001/133331 , G02F2201/086 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/28

133. 发明专利

TWI395796B 透明膜形成用組成物及積層透明膜有权
简体标题：透明膜形成用组成物及积层透明膜
公开(公告)号：TWI395796B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW098113131
申请日：2009-04-21
申请人：大日本塗料股份有限公司 , DAI NIPPON TORYO CO., LTD.
发明人：室內聖人 , MUROUCHI, MASATO , 林賢兒 , HAYASHI, KENJI , 鈴木薰 , SUZUKI, KAORU , 村上雅昭 , MURAKAMI, MASAAKI
IPC分类号： C09D1/00 , C09D5/00 , B32B7/02
CPC分类号： G02B1/10 , C08K3/22 , C08K5/0091 , G02B27/0006 , G02F1/133502 , Y10T428/24942

134. 发明专利

TW201307084A 成形材料、塗料組成物及成形材料之製造方法审中-公开
简体标题：成形材料、涂料组成物及成形材料之制造方法
公开(公告)号：TW201307084A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101124703
申请日：2012-07-10
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO , 三村尚 , MIMURA, TAKASHI , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B7/02 , B32B33/00 , B32B37/06 , B05D5/08 , G02B1/11
CPC分类号： C09D133/16 , B05D1/18 , B05D1/28 , B05D1/30 , B05D3/0254 , C09D5/1625 , C09D7/65 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D201/00 , C09D201/005 , C09D201/04 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B1/18
摘要：本發明之目的在提供維持光澤感或透明性同時不易視認指紋的成形材料、可形成呈現前述效果的層的塗料組成物、及前述層之製造方法。本發明之具有表面特性的成形材料係在至少其中1面具有層的成形材料，前述層係含有含氟化合物，以JIS Z8741(1997年版)所規定的60度鏡面光澤度為60%以上，超過藉由原子力顯微鏡(AFM)所觀察的平方平均粗糙度(Rq)的峰值數為每25μm2為500個以上1500個以下。
简体摘要：本发明之目的在提供维持光泽感或透明性同时不易视认指纹的成形材料、可形成呈现前述效果的层的涂料组成物、及前述层之制造方法。本发明之具有表面特性的成形材料系在至少其中1面具有层的成形材料，前述层系含有含氟化合物，以JIS Z8741(1997年版)所规定的60度镜面光泽度为60%以上，超过借由原子力显微镜(AFM)所观察的平方平均粗糙度(Rq)的峰值数为每25μm2为500个以上1500个以下。

135. 发明专利

TW201303382A 製造用於ＥＵＶ投影曝光設備之反射光學構件的方法及此型式之構件审中-公开
简体标题：制造用于ＥＵＶ投影曝光设备之反射光学构件的方法及此型式之构件
公开(公告)号：TW201303382A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101108814
申请日：2012-03-15
申请人：卡爾蔡司激光光學有限責任公司 , CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , 卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：肯利霍傑 , KIEREY, HOLGER , 西克曼漢可 , SIEKMANN, HEIKO , 布瑞森安卓 , BRESAN, ANDRE
IPC分类号： G02B5/10 , G02B5/18 , G03F7/20 , G02B1/10 , B81C1/00
CPC分类号： G02B5/208 , B24B13/00 , G02B1/10 , G02B5/0891 , G02B5/10 , G02B5/1838 , G02B5/1852 , G02B5/1857 , G03F7/70316 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要：本發明揭示一種製造用於EUV投影曝光設備之反射光學構件(10)的方法，該構件具有含有一基體(14)的一基板(12)及配置在該基板(12)上的一反射層(20)，其中該基板(12)具有一光學操作的微結構(16)，該方法包含以下步驟：將該微結構(16)加工於該基板(12)中；在將該微結構(16)加工於該基板(12)中之後，拋光該基板(12)；將該反射層(20)塗覆至該基板(12)。一種用於EUV投影曝光設備之反射光學構件在該微結構及該反射層之間對應地具有一拋光表面。
简体摘要：本发明揭示一种制造用于EUV投影曝光设备之反射光学构件(10)的方法，该构件具有含有一基体(14)的一基板(12)及配置在该基板(12)上的一反射层(20)，其中该基板(12)具有一光学操作的微结构(16)，该方法包含以下步骤：将该微结构(16)加工于该基板(12)中；在将该微结构(16)加工于该基板(12)中之后，抛光该基板(12)；将该反射层(20)涂覆至该基板(12)。一种用于EUV投影曝光设备之反射光学构件在该微结构及该反射层之间对应地具有一抛光表面。

136. 发明专利

TW201226960A 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学积层体、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201226960A
公开(公告)日：2012-07-01
申请号：TW100130418
申请日：2011-08-25
申请人：大日本印刷股份有限公司
发明人：恒川雅行 , 山本佳奈 , 岩崎迅希
IPC分类号： G02B , B32B , G02F
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/118 , G02B5/0221 , G02B5/30 , G02B5/3041 , Y10T428/24355
摘要：本發明提供一種抗結塊性優異之光學積層體。本發明係關於一種光學積層體，其具有三乙醯纖維素基材及硬塗層，且上述硬塗層於表面具有微細之凹凸形狀，上述微細之凹凸形狀，當設平均PV粗糙度為Rtm、第三位點粗糙度為R3z、10點平均粗糙度為Rz時，Rtm為2.2～11.5nm、R3z為2.5～13.5nm、Rz為2.6～13.5nm、且滿足Rtm＜R3z≦Rz。
简体摘要：本发明提供一种抗结块性优异之光学积层体。本发明系关于一种光学积层体，其具有三乙酰纤维素基材及硬涂层，且上述硬涂层于表面具有微细之凹凸形状，上述微细之凹凸形状，当设平均PV粗糙度为Rtm、第三位点粗糙度为R3z、10点平均粗糙度为Rz时，Rtm为2.2～11.5nm、R3z为2.5～13.5nm、Rz为2.6～13.5nm、且满足Rtm＜R3z≦Rz。

137. 发明专利

TW201222049A 鏡片組合 LENS ASSEMBLY 审中-公开
简体标题：镜片组合 LENS ASSEMBLY
公开(公告)号：TW201222049A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW099140040
申请日：2010-11-19
申请人：鴻海精密工業股份有限公司
发明人：林孟東
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B1/10 , C09D5/035 , G02B3/00 , G02B5/223 , G02B9/04
摘要：一種鏡片組合包括相互卡合的第一鏡片和第二鏡片。該第一鏡片包括第一光學部、位於該第一光學部週邊的第一非光學部及形成在該第一非光學部的第一環形突起。該第二鏡片包括第二光學部、位於該第二光學部週邊的第二非光學部及形成在該第二非光學部的第二環形突起。該第一環形突起和該第二環形突起相互卡合固定。該第一環形突起限定一個收容空間。該第二環形突起收容在該收容空間內。該第二環形突起朝向該第一鏡片的表面形成有遮光層。
简体摘要：一种镜片组合包括相互卡合的第一镜片和第二镜片。该第一镜片包括第一光学部、位于该第一光学部周边的第一非光学部及形成在该第一非光学部的第一环形突起。该第二镜片包括第二光学部、位于该第二光学部周边的第二非光学部及形成在该第二非光学部的第二环形突起。该第一环形突起和该第二环形突起相互卡合固定。该第一环形突起限定一个收容空间。该第二环形突起收容在该收容空间内。该第二环形突起朝向该第一镜片的表面形成有遮光层。

138. 发明专利

TW201221591A 抗炫用塗層組成物及具強化耐磨及耐污性抗炫塗膜 COATING COMPOSITION FOR ANTI-GLARE AND ANTI-GLARE COATING FILM HAVING ENHANCED ABRASION RESISTANCE AND CONTAMINATION RESISTANCE 审中-公开
简体标题：抗炫用涂层组成物及具强化耐磨及耐污性抗炫涂膜 COATING COMPOSITION FOR ANTI-GLARE AND ANTI-GLARE COATING FILM HAVING ENHANCED ABRASION RESISTANCE AND CONTAMINATION RESISTANCE
公开(公告)号：TW201221591A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100124957
申请日：2011-07-14
申请人： LG化學公司
发明人：鄭順和 , 金聖洙 , 洪瑛晙 , 洪敬寄 , 張影來 , 李守坰 , 姜俊求 , 任相赫 , 丘在必 , 柳殷相
IPC分类号： C09D , G02B , B05D
CPC分类号： G02B1/10 , C08F220/22 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2427/12 , C09D4/06 , C09D5/00 , C09D5/006 , C09D5/1681 , C09D7/66 , C09D201/04 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/18 , G02B5/0221 , G02B5/0294 , G02B27/0006
摘要：本發明係有關於一種抗炫用塗層組成物及一種抗炫塗膜,其具有優良之耐磨性及耐污性。抗炫用塗層組成物,包括:a)黏合劑樹脂;b)包含氟系UV可固化官能基之化合物;c)光起始劑;d)表面可固化之光起始劑;以及e)具有不平坦表面之粒狀物。當利用抗炫用塗層組成物,以單一塗佈方法形成膜時,則可以同時提供耐磨性及耐污性,維持膜受摩擦時之耐磨性及耐污性,且可以減少或輕鬆移除油性組成物之髒污,例如指紋。
简体摘要：本发明系有关于一种抗炫用涂层组成物及一种抗炫涂膜,其具有优良之耐磨性及耐污性。抗炫用涂层组成物,包括:a)黏合剂树脂;b)包含氟系UV可固化官能基之化合物;c)光起始剂;d)表面可固化之光起始剂;以及e)具有不平坦表面之粒状物。当利用抗炫用涂层组成物,以单一涂布方法形成膜时,则可以同时提供耐磨性及耐污性,维持膜受摩擦时之耐磨性及耐污性,且可以减少或轻松移除油性组成物之脏污,例如指纹。

139. 发明专利

TWI360477B 硬被覆薄膜及光學機能性薄膜 HARD-COATED FILM AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM 有权
简体标题：硬被覆薄膜及光学机能性薄膜 HARD-COATED FILM AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM
公开(公告)号：TWI360477B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：TW096118643
申请日：2007-05-25
申请人：東洋紡績股份有限公司
发明人：水野直樹 , 杉原秀紀 , 岩出茂則 , 西野泰弘 , 野瀨克彥 , 鈴木利武 , 森重地加男
IPC分类号： B32B , C08J , G02B
CPC分类号： G02B1/11 , C08G18/0833 , C08G18/10 , C08G18/4238 , C08G18/7642 , C08J7/04 , C08J2467/02 , C08J2475/04 , G02B1/10 , G02B1/14 , C08G18/3872 , C08G18/286
摘要：一種硬被覆薄膜，其特徵為該硬被覆薄膜係由在熱塑性樹脂薄膜A的一面或兩面上，形成有含共聚合PEs及PU的接著性改質層B之接著性改質基材薄膜，與在該薄膜的任一面之接著性改質層B的表面上之含無機微粒子的硬被覆層C，所積層而成的硬被覆薄膜，其中接著性改質層B具有PEs相與PU相的微相分離構造或奈米相分離構造，而且使用掃描型探針顯微鏡以相位測定模式來觀察硬被覆薄膜的切削面時，在從接著性改質層B與硬被覆層C的界面起到深度20nm為止的範圍內，接著性改質層B的PU相之面積率係30%以上且60%以下。
简体摘要：一种硬被覆薄膜，其特征为该硬被覆薄膜系由在热塑性树脂薄膜A的一面或两面上，形成有含共聚合PEs及PU的接着性改质层B之接着性改质基材薄膜，与在该薄膜的任一面之接着性改质层B的表面上之含无机微粒子的硬被覆层C，所积层而成的硬被覆薄膜，其中接着性改质层B具有PEs相与PU相的微相分离构造或奈米相分离构造，而且使用扫描型探针显微镜以相位测定模式来观察硬被覆薄膜的切削面时，在从接着性改质层B与硬被覆层C的界面起到深度20nm为止的范围内，接着性改质层B的PU相之面积率系30%以上且60%以下。

140. 发明专利

TW201200920A 濾光器及使用其之分析機器以及光機器 OPTICAL FILTER, AND ANALYTICAL INSTRUMENT AND OPTICAL APPARATUS USING THE OPTICAL FILTER 审中-公开
简体标题：滤光器及使用其之分析机器以及光机器 OPTICAL FILTER, AND ANALYTICAL INSTRUMENT AND OPTICAL APPARATUS USING THE OPTICAL FILTER
公开(公告)号：TW201200920A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW100108369
申请日：2011-03-11
申请人：精工愛普生股份有限公司
发明人：佐野朗
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/26 , G01J3/26 , G02B1/10 , G02B6/29361 , G02B26/001
摘要：本發明之濾光器包含：第1基板；第2基板；第1反射膜，其係設置於第1基板之第1對向面；第2反射膜，其係設置於第2基板之第2對向面；第1電極，其係於俯視時在第1反射膜之周圍之位置而設置於第1基板；及第2電極，其係設置於第2基板且與第1電極相對向；且於第1對向面及第2對向面中之至少一者形成階差部；將第1反射膜與第2反射膜之間之初始間隙形成為小於第1電極與第2電極之間之初始間隙，而高精度地控制反射膜間之間隙。
简体摘要：本发明之滤光器包含：第1基板；第2基板；第1反射膜，其系设置于第1基板之第1对向面；第2反射膜，其系设置于第2基板之第2对向面；第1电极，其系于俯视时在第1反射膜之周围之位置而设置于第1基板；及第2电极，其系设置于第2基板且与第1电极相对向；且于第1对向面及第2对向面中之至少一者形成阶差部；将第1反射膜与第2反射膜之间之初始间隙形成为小于第1电极与第2电极之间之初始间隙，而高精度地控制反射膜间之间隙。

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