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101. 发明专利

TW200844374A 搭配離子源使用之蒸汽傳送系統及用於此系統之汽化器 VAPOR DELIVERY SYSTEM USEFUL WITH ION SOURCES AND VAPORIZER FOR USE IN SUCH SYSTEM 失效
简体标题：搭配离子源使用之蒸汽发送系统及用于此系统之汽化器 VAPOR DELIVERY SYSTEM USEFUL WITH ION SOURCES AND VAPORIZER FOR USE IN SUCH SYSTEM
公开(公告)号：TW200844374A
公开(公告)日：2008-11-16
申请号：TW096144327
申请日：2007-11-22
申请人：山米奎普公司 SEMEQUIP, INC.
发明人：道格拉斯R 亞當斯 ADAMS, DOUGLAS R. , 法蘭克辛可來爾 SINCLAIR, FRANK , 布藍特M 古柏提諾 COPERTINO, BRENT M.
IPC分类号： F24C
CPC分类号： H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , Y10T137/8593
摘要：本發明揭示一種控制來自固體饋入材料之蒸汽之加熱及流量的蒸汽傳送系統及方法,該固體饋入材料特定為包含用於半導體製造之團簇分子的材料。該等系統及方法安全且有效地將蒸汽傳導至一利用點,特定傳導至離子植入之離子源。離子束植入經展示使用來自團簇材料之離子。該蒸汽傳送系統包括該離子源之反應性氣體清潔、控制系統及協定、廣泛動態範圍流量控制系統以及有效且安全的汽化器選擇。針對離子植入來汽化硼烷、癸硼烷、碳硼烷、碳簇及其他較大分子。該等系統經展示與新穎汽化器、離子源及反應性清潔系統而協作。
简体摘要：本发明揭示一种控制来自固体馈入材料之蒸汽之加热及流量的蒸汽发送系统及方法,该固体馈入材料特定为包含用于半导体制造之团簇分子的材料。该等系统及方法安全且有效地将蒸汽传导至一利用点,特定传导至离子植入之离子源。离子束植入经展示使用来自团簇材料之离子。该蒸汽发送系统包括该离子源之反应性气体清洁、控制系统及协定、广泛动态范围流量控制系统以及有效且安全的汽化器选择。针对离子植入来汽化硼烷、癸硼烷、碳硼烷、碳簇及其他较大分子。该等系统经展示与新颖汽化器、离子源及反应性清洁系统而协作。

102. 发明专利

TWI254348B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI254348B
公开(公告)日：2006-05-01
申请号：TW094111506
申请日：2005-04-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：稻富裕一郎 INATOMI, YUICHIRO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/40 , H01L21/0273 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , Y10T137/8593
摘要：本發明之目的係提供一種可於基板面內均勻地形成所要尺寸的微細的光阻圖案之基板處理方法及基板處理裝置。於溶劑供給裝置中設置有可一面移動於晶圓表面上一面吐出使光阻圖案膨脹的溶劑蒸氣之溶劑蒸氣吐出噴嘴。然後，將完成顯影處理經形成光阻圖案的晶圓搬入溶劑供給裝置，使溶劑蒸氣吐出噴嘴移動於晶圓表面上，由溶劑蒸氣吐出噴嘴對晶圓表面上供給溶劑蒸氣。藉此，可對晶圓表面上的光阻圖案均勻地供給預定量的溶劑蒸氣。結果，可藉著該溶劑蒸氣使光阻圖案均勻地膨脹預定的尺寸，於晶圓面內均勻地形成最後所要尺寸的光阻圖案。
简体摘要：本发明之目的系提供一种可于基板面内均匀地形成所要尺寸的微细的光阻图案之基板处理方法及基板处理设备。于溶剂供给设备中设置有可一面移动于晶圆表面上一面吐出使光阻图案膨胀的溶剂蒸气之溶剂蒸气吐出喷嘴。然后，将完成显影处理经形成光阻图案的晶圆搬入溶剂供给设备，使溶剂蒸气吐出喷嘴移动于晶圆表面上，由溶剂蒸气吐出喷嘴对晶圆表面上供给溶剂蒸气。借此，可对晶圆表面上的光阻图案均匀地供给预定量的溶剂蒸气。结果，可借着该溶剂蒸气使光阻图案均匀地膨胀预定的尺寸，于晶圆面内均匀地形成最后所要尺寸的光阻图案。

103. 发明专利

TW200539284A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW200539284A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW094111506
申请日：2005-04-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：稻富裕一郎 INATOMI, YUICHIRO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/40 , H01L21/0273 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , Y10T137/8593
摘要：本發明之目的係提供一種可於基板面內均勻地形成所要尺寸的微細的光阻圖案之基板處理方法及基板處理裝置。於溶劑供給裝置中設置有可一面移動於晶圓表面上一面吐出使光阻圖案膨脹的溶劑蒸氣之溶劑蒸氣吐出噴嘴。然後，將完成顯影處理經形成光阻圖案的晶圓搬入溶劑供給裝置，使溶劑蒸氣吐出噴嘴移動於晶圓表面上，由溶劑蒸氣吐出噴嘴對晶圓表面上供給溶劑蒸氣。藉此，可對晶圓表面上的光阻圖案均勻地供給預定量的溶劑蒸氣。結果，可藉著該溶劑蒸氣使光阻圖案均勻地膨脹預定的尺寸，於晶圓面內均勻地形成最後所要尺寸的光阻圖案。
简体摘要：本发明之目的系提供一种可于基板面内均匀地形成所要尺寸的微细的光阻图案之基板处理方法及基板处理设备。于溶剂供给设备中设置有可一面移动于晶圆表面上一面吐出使光阻图案膨胀的溶剂蒸气之溶剂蒸气吐出喷嘴。然后，将完成显影处理经形成光阻图案的晶圆搬入溶剂供给设备，使溶剂蒸气吐出喷嘴移动于晶圆表面上，由溶剂蒸气吐出喷嘴对晶圆表面上供给溶剂蒸气。借此，可对晶圆表面上的光阻图案均匀地供给预定量的溶剂蒸气。结果，可借着该溶剂蒸气使光阻图案均匀地膨胀预定的尺寸，于晶圆面内均匀地形成最后所要尺寸的光阻图案。

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