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    • 91. 实用新型
    • 管接頭
    • 管接头
    • TW506503U
    • 2002-10-11
    • TW091202042
    • 1998-06-15
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄池田信一篠原努小島徹哉
    • F16L
    • F16L19/025F16L19/0218Y10S285/917
    • 本創作係提供一種管接頭,其特徵為;各密封,突起(7)、(8)位於比接頭構件(1)(2)的對合端面內周(1a)、(2a)更靠半徑方向外側的位置,各密封突起(7)、(8)截而的輪廓形狀係由;從對合端面向半徑方向外側延伸的圓弧部(7b)、(8b),和與此圓弧部(7b)、(8b)相連的直線部(7a)、(8a)所形成,圓弧部(7b)(8b)的中心即位於比圓弧部(7b)(8b)和直線部(7a)(8a)之交差點更為半徑方向內側的位置,直線部(7a)(8a)並對軸向傾斜45℃。(選擇圖:第4圖)
    • 本创作系提供一种管接头,其特征为;各密封,突起(7)、(8)位于比接头构件(1)(2)的对合端面内周(1a)、(2a)更靠半径方向外侧的位置,各密封突起(7)、(8)截而的轮廓形状系由;从对合端面向半径方向外侧延伸的圆弧部(7b)、(8b),和与此圆弧部(7b)、(8b)相连的直线部(7a)、(8a)所形成,圆弧部(7b)(8b)的中心即位于比圆弧部(7b)(8b)和直线部(7a)(8a)之交差点更为半径方向内侧的位置,直线部(7a)(8a)并对轴向倾斜45℃。(选择图:第4图)
    • 92. 发明专利
    • 含氫排氣處理裝置
    • 含氢排气处理设备
    • TW457119B
    • 2001-10-01
    • TW088100151
    • 1999-06-11
    • 日立製作所股份有限公司富士金股份有限公司
    • 田邊 義和皆見幸男川田幸司池田信一森本明弘平尾圭志
    • B01D
    • B01D53/8671
    • 本發明之課題係在於:將從半導體製造設施等排出的含氫排氣用小型的處理裝置製作成,即使含氫排氣量等大幅度地變動,也能夠經常安定且確實地處理,並且不會帶給半導體製造裝置側之運作不良的影響。
      本發明之解決手段所採用之處理裝置係由:將含氫排氣之排出源連接於吸入口並且將氧氣供給源連接於驅動用流體供給口之噴射器型的真空發生器、及連接於真空發生器之驅動用流體排出口之具備有觸媒之氫與氧的反應爐、及連接於反應爐之出口而可積存來自反應爐的水之排洩槽所構成。
    • 本发明之课题系在于:将从半导体制造设施等排出的含氢排气用小型的处理设备制作成,即使含氢排气量等大幅度地变动,也能够经常安定且确实地处理,并且不会带给半导体制造设备侧之运作不良的影响。 本发明之解决手段所采用之处理设备系由:将含氢排气之排出源连接于吸入口并且将氧气供给源连接于驱动用流体供给口之喷射器型的真空发生器、及连接于真空发生器之驱动用流体排出口之具备有触媒之氢与氧的反应炉、及连接于反应炉之出口而可积存来自反应炉的水之排泄槽所构成。
    • 94. 发明专利
    • 小流量之水分供給方法
    • 小流量之水分供给方法
    • TW386187B
    • 2000-04-01
    • TW087120549
    • 1999-01-19
    • 富士金股份有限公司日立製作所股份有限公司
    • 皆見幸男川田幸司田邊義和池田信一森本明弘
    • G05D
    • F22B1/003C01B5/00
    • 本發明之課題係從水分產生裝置向製程裝置側之供給水分量即使變成極少量,也可用高精度控制所供給之水分流量。
      本發明之解決手段係在內部空間之壁面備有白金塗層膜被之反應爐內供給氫與氧,而藉白金之催化作用不僅可提升氫及氧之反應活性,並且,將已提高該反應活性之氫與氧較氫混合氣之著火溫度更低溫度下使其剎那地發生反應,不至於發生高溫燃燒產生水分之水分產生裝置,使用流量控制器控制供給於上述反應爐內之氫流量,藉該流量控制器從氫開始流入起緩慢地增加氫流量,而延遲既定時間由於將設定流量之氫供給於反應爐內,從反應爐之設定流量之水分供給於製程側(process side)。
    • 本发明之课题系从水分产生设备向制程设备侧之供给水分量即使变成极少量,也可用高精度控制所供给之水分流量。 本发明之解决手段系在内部空间之壁面备有白金涂层膜被之反应炉内供给氢与氧,而藉白金之催化作用不仅可提升氢及氧之反应活性,并且,将已提高该反应活性之氢与氧较氢混合气之着火温度更低温度下使其刹那地发生反应,不至于发生高温燃烧产生水分之水分产生设备,使用流量控制器控制供给于上述反应炉内之氢流量,藉该流量控制器从氢开始流入起缓慢地增加氢流量,而延迟既定时间由于将设置流量之氢供给于反应炉内,从反应炉之设置流量之水分供给于制程侧(process side)。
    • 95. 发明专利
    • 流體控制系統及其所使用之閥
    • 流体控制系统及其所使用之阀
    • TW342429B
    • 1998-10-11
    • TW085101845
    • 1996-02-14
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄池田信一唐土裕司
    • F16K
    • C23C16/45561B01J4/008C30B25/14C30B31/16F16K31/1226F16K31/42Y10T137/87684
    • 本發明係關於使用在製造半導體和磁性薄膜及生物關聯製品等之流體控制系統及其所使用之閥,其目的為:能夠迅速且正確地作動閥,進而促使可以正確地供給流體。
      本發明之構成要素,簡單地說係由:
      將數種類的流體G1,G2……供給至處理裝置C內之主控制管路L與分歧控制管路L1,L2;及
      由組裝於分歧控制管路L1,L2,而來進行供給至處理裝置C內之各種流體G1,G2……的切換動作之複數個閥而構成之流體控制系統,上述閥V為具備有流體壓引動器1之流體驅動型閥V′;及安裝於流體驅動型閥V′,而來將作動流體A供給至流體壓引動器1之電磁閥V〞而構成者。
    • 本发明系关于使用在制造半导体和磁性薄膜及生物关联制品等之流体控制系统及其所使用之阀,其目的为:能够迅速且正确地作动阀,进而促使可以正确地供给流体。 本发明之构成要素,简单地说系由: 将数种类的流体G1,G2……供给至处理设备C内之主控制管路L与分歧控制管路L1,L2;及 由组装于分歧控制管路L1,L2,而来进行供给至处理设备C内之各种流体G1,G2……的切换动作之复数个阀而构成之流体控制系统,上述阀V为具备有流体压引动器1之流体驱动型阀V′;及安装于流体驱动型阀V′,而来将作动流体A供给至流体压引动器1之电磁阀V〞而构成者。
    • 98. 发明专利
    • 壓力式流量控制裝置
    • 压力式流量控制设备
    • TW300947B
    • 1997-03-21
    • TW085105996
    • 1996-05-21
    • 富士金股份有限公司
    • 土肥亮介川田幸司池田信一西野功二皆見幸男森本明弘福田浩幸
    • F17DG05D
    • G05D7/0635Y10T137/5109Y10T137/7737Y10T137/7759Y10T137/7761Y10T137/777Y10T137/87917
    • 本發明之目的係在於提高流量控制裝置之控制精度,而且達成裝置之小型化,低成本化。
      一種壓力式流量控制裝置,屬於將流出口之上游側壓力P1保持在下游側壓力之約兩倍以上之狀態下實行控制流體之流量的壓力式流量控制裝置,其特徵為:流出口5,及設於流出口2之上游側的控制閥5,及設於控制閥2與流出口5間的壓力檢測器3,及從壓力檢測器2之檢測壓力P1作為Qc=KP1,(但,K係常數)演算流量Qc,而且將流量指會信號Q5與上述經演算之流量信號Qc之間的相差作為控制信號 Qy而輸出至上述控制閥2之驅動部14的演算控制裝置6所構成;藉控制閥2之開閉來調整流出口上游側壓力P1,俾控制流出口下游側流量者。
    • 本发明之目的系在于提高流量控制设备之控制精度,而且达成设备之小型化,低成本化。 一种压力式流量控制设备,属于将流出口之上游侧压力P1保持在下游侧压力之约两倍以上之状态下实行控制流体之流量的压力式流量控制设备,其特征为:流出口5,及设于流出口2之上游侧的控制阀5,及设于控制阀2与流出口5间的压力检测器3,及从压力检测器2之检测压力P1作为Qc=KP1,(但,K系常数)演算流量Qc,而且将流量指会信号Q5与上述经演算之流量信号Qc之间的相差作为控制信号 Qy而输出至上述控制阀2之驱动部14的演算控制设备6所构成;藉控制阀2之开闭来调整流出口上游侧压力P1,俾控制流出口下游侧流量者。
    • 99. 发明专利
    • 對處理室供給氣體之方法
    • 对处理室供给气体之方法
    • TW267235B
    • 1996-01-01
    • TW083107561
    • 1994-08-17
    • 富士金股份有限公司
    • 池田信一皆見幸男
    • H01L
    • C23C16/45561B01J4/008C23C16/4412C23C16/455Y10T137/0318Y10T137/0396Y10T137/86083Y10T137/87249Y10T137/87499
    • 由反應性氣體供給管線1將反應性氣體,及由不活性氣體供給管線2將不活性氣體分別交互供給處理室3內之對處理室供給氣體之方法中,在設於各管線1,2之轉換閥V1,V2之一次側分別以分岐狀連接分流閥V3,V4,並在該分流閥V3,V4之出口側連接排氣管線6,將前述排氣管線6保持真空祭氣,分別以一定時間間隔實施同時開閉操作反應性氣體供給管線1之管線轉換閥V1與不活或氣體供給管線2側之分流閥V4,及同時開閉操作不活或氣體供給管線2整管線轉換閥V2與反應性氣體供給管線1側之分流閥V3,自反雁性氣體供給管線1及不活性氣體供給管線2交互將反應性氣體與不活性氣體供給處理室3內。
    • 由反应性气体供给管线1将反应性气体,及由不活性气体供给管线2将不活性气体分别交互供给处理室3内之对处理室供给气体之方法中,在设于各管线1,2之转换阀V1,V2之一次侧分别以分岐状连接分流阀V3,V4,并在该分流阀V3,V4之出口侧连接排气管线6,将前述排气管线6保持真空祭气,分别以一定时间间隔实施同时开闭操作反应性气体供给管线1之管线转换阀V1与不活或气体供给管线2侧之分流阀V4,及同时开闭操作不活或气体供给管线2整管线转换阀V2与反应性气体供给管线1侧之分流阀V3,自反雁性气体供给管线1及不活性气体供给管线2交互将反应性气体与不活性气体供给处理室3内。